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一种基于聚焦离子束刻蚀制备的范德华激元材料微纳结构及其制备方_百 ...

专利名称：一种基于聚焦离子束刻蚀制备的范德华激元材料微纳结构及其制备方法

专利类型：发明专利

发明人：陈焕君，黄悟朝，邓少芝，许宁生

申请号：CN201910200073.8

申请日：20190315

公开号：CN110333564A

公开日：

20191015

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明涉及一种基于聚焦离子束刻蚀制备的范德华激元材料微纳结构及其制备方法。所述方法包括如下步骤：S1：利用聚焦离子束对范德华层状材料进行刻蚀得到微纳结构；S2：将所制得的微纳结构置于100～1000℃下退火2～3h，即得到所述范德华激元材料微纳结构。本发明利用退火工艺对刻蚀后的微纳结构进行处理，可有效地使得样品表面的激元效应恢复。本发明提供的制备方法工艺简单，可以有效减少离子轰击对激元材料表面的影响，使得微纳结构仍然具有激元效应，为制备激元材料的微纳结构提供了一种新的手段。

申请人：中山大学

地址：510275 广东省广州市海珠区新港西路135号

国籍：CN

代理机构：广州粤高专利商标代理有限公司

代理人：陈卫

本文发布于:2024-09-22 03:30:12，感谢您对本站的认可！

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