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光刻胶清洗剂及半导体基板上光刻胶的清洗方法[发明专利]

专利名称：光刻胶清洗剂及半导体基板上光刻胶的清洗方法专利类型：发明专利

发明人：王世哲

申请号：CN201811261209.8

申请日：20181026

公开号：CN111103770A

公开日：

20200505

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种光刻胶清洗剂及半导体基板上光刻胶的清洗方法，其中，公开的所述光刻胶清洗剂，包括有机溶剂及腐蚀抑制剂；所述有机溶剂含有二甲基苯甲醇、聚氧化丙烯三醇及壬基聚氧乙烯醚；所述腐蚀抑制剂含有氨基苯甲酸甲酯和儿茶酚。公开的所述半导体基板上光刻胶的清洗方法为：用所述光刻胶清洗剂清洗半导体基板。本发明能够提高对半导体基板上的光刻胶的清洗效果。

申请人：东莞新科技术研究开发有限公司

地址：523087 广东省东莞市南城区宏远工业区

国籍：CN

代理机构：广州三环专利商标代理有限公司

代理人：郝传鑫

本文发布于:2024-09-22 14:23:04，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/2/437304.html

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