一种电沉积硅的方法[发明专利]

专利名称:一种电沉积硅的方法
专利类型:发明专利
发明人:李运刚,梁精龙,田薇,何小凤申请号:CN200710106013.7
申请日:20070529
公开号:CN101054675A
公开日:
20071017
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:一种电沉积硅的方法,属电解和电泳技术领域,用于解决以熔盐介质,在直流电的作用下,由SiO一步电沉积出硅的问题。特别之处是:它以NaCl、KCl、NaF构成的三组元为介质,其中NaCl、KCl、NaF三组元的摩尔比为:1∶1∶0.5~1∶1∶4.5,加入占熔盐介质质量百分数的10%的粉状SiO;经过预电解除杂,在电沉积温度800℃~950℃、电沉积时间0.5~3小时、电流密度为500A/m~1000A/m电沉积出纯硅。本发明其特点如下:1.构成熔盐的组元为常用廉价药剂,易获得,成本低,且消耗少。2.生产工艺简单,过程容易控制。本发明方法在半导体器件的制造中具有很好的应用前景。
申请人:河北理工大学
地址:063009 河北省唐山市路南区新华西道46号
国籍:CN
代理机构:石家庄冀科专利商标事务所有限公司

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标签:沉积   专利   熔盐   方法   介质
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