首页 > 专利信息

曝光装置[发明专利]

专利名称：曝光装置

专利类型：发明专利

发明人：渡边智也，松冈尚弥，山根茂树申请号：CN201480046673.9

申请日：20140818

公开号：CN105474104A

公开日：

20160406

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：提供一种曝光装置，即便是设于工件的背面的对准标记，也能可靠地使其与掩模对准标记对位，并能高精度地将掩模图案曝光于工件上。本发明的曝光装置包括：掩模(13)，该掩模(13)设有掩模对准标记(131)；掩模保持件(12)，该掩模保持件(12)对掩模(13)进行保持；平台(15)，该平台(15)对工件(14)进行装设并加以固定，该工件(14)在面(145)上具有工件对准标记(141)，该面(145)是设有掩模对准标记(131)的面(135)所面对的面的相反一侧的面。平台(15)包括光学零件，当对装设的工件(14)的工件对准标记(141)进行摄像时，该光学零件使光在内部奇数次反射，以在比工件(14)的尺寸靠外侧的位置形成像，平台驱动装置根据通过该光学零件形成的像将掩模对准标记(131)和工件对准标记(141)对位。

申请人：株式会社村田制作所

地址：日本京都府

国籍：JP

代理机构：上海专利商标事务所有限公司

本文发布于:2024-09-23 02:30:53，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/2/426730.html

上一篇：基于人员追踪定位的异常报警系统及方法[发明专利]

下一篇：电致发光显示装置和显示面板[发明专利]