发明人:聂佳相,苏娜,胡宇慧
申请号:CN200710094497.8
申请日:20071213
公开号:CN101458150A
公开日:
20090617
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:一种物理气相淀积沉积腔室气密性检测方法,包括:运行第一控片,所述第一控片的运行时间大于或等于检测反应时间;对第二控片执行物理气相淀积操作;检测所述第二控片的阻值;所述第二控片的阻值符合检测基准时,所述物理气相淀积沉积腔室的气密性符合产品要求;所述第二控片的阻值大于检测基准时,所述物理气相淀积沉积腔室的气密性不符合产品要求。可及时地检测出所述物理气相淀积沉积腔室开始运行后发生的异常,利于及时排障,以减少所述物理气相淀积沉积腔室处于异常状态时生产产品的数量,且不改变所述物理气相淀积沉积腔室内的环境。
申请人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
地址:201203 上海市浦东新区张江路18号
国籍:CN
代理机构:北京集佳知识产权代理有限公司
代理人:李丽