一种降膜再沸器的液体分布头[实用新型专利]

(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201821387986.2
(22)申请日 2018.08.28
(73)专利权人 山东中盛药化设备有限公司
地址 264000 山东省烟台市福山区门楼工
业园朝阳路88号
(72)发明人 谭委林 梁淑娟 苏景文 孙博 
(74)专利代理机构 烟台上禾知识产权代理事务
所(普通合伙) 37234
代理人 刘志毅
(51)Int.Cl.
B01B  1/00(2006.01)
(54)实用新型名称
(57)摘要
本实用新型涉及一种一种降膜再沸器的液
体分布头,包括分布头竖管和位于分布头竖管中
部的分布头凸台,分布头凸台将分布头竖管分为
上竖管和下竖管,还设置有导流槽,导流槽螺旋
设置在液体分布头的外表面并贯穿分布头凸台
和下竖管,导流槽的底部成圆弧状;所述的分布
头竖管内壁上设置有螺旋的溢流导液板。本申请
解决了降膜分布头负荷大时成膜效果差及易堵
塞的问题,提高气化率,
节约生产成本。权利要求书1页  说明书2页  附图2页CN 208678395 U 2019.04.02
C N  208678395
U
1.一种降膜再沸器的液体分布头,包括分布头竖管和位于分布头竖管中部的分布头凸台,分布头凸台将
分布头竖管分为上竖管和下竖管,其特征在于,液体分布头上还设置有导流槽,导流槽螺旋设置在液体分布头的外表面并贯穿分布头凸台和下竖管,导流槽的底部成圆弧状;所述的分布头竖管内壁上设置有螺旋的溢流导液板。
2.根据权利要求1所述的降膜再沸器的液体分布头,其特征在于,所述的导流槽设置有2-6条,导流槽在分布头凸台上的开口均匀分布。
3.根据权利要求1所述的降膜再沸器的液体分布头,其特征在于,所述的导流槽在分布头凸台上的截面结构为一方形槽和弧形槽的组合结构,导流槽在下竖管上的结构为弧形槽。
权 利 要 求 书1/1页CN 208678395 U
一种降膜再沸器的液体分布头
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种降膜再沸器的液体分布头,属于降膜再沸器分布头技术领域。
背景技术
[0002]插件型液体分布头放置在换热管内壁.利用螺旋槽的导流作用使液体经过换热管内壁时壁流成膜。目前现有的液体降膜分布头结构适用于清洁物料,物料含有杂质时由于方形导液槽阻力大,加工成形毛刺多,导液槽极易堵塞。且在降膜再沸器负荷较大时,液体上涨液体溢流成膜分布效果不理想。因此需要一种新的液体分布头,其应具有较好抗堵性能,成膜效果,解决物料反复加热,浪费能源,增加成本的问题。
实用新型内容
[0003]本实用新型为了改进传统的降膜再沸器分布头的成膜效果及抗堵塞问题,提供一种降膜再沸器的液体分布头,其一方面能够在降膜再沸器负荷较大时,具备很好的成膜效果,另一方面可以在料液杂质较多的状态下很好的运行,延长降膜头的清洗周期。[0004]本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下:一种降膜再沸器的液体分布头,包括分布头竖管和位于分布头竖管中部的分布头凸台,分布头凸台将分布头竖管分为上竖管和下竖管,其特征在于,液体分布头上还设置有导流槽,导流槽螺旋设置在液体分布头的外表面并贯穿分布头凸台和下竖管,导流槽的底部成圆弧状;所述的分布头竖管内壁上设置有螺旋的溢流导液板。
[0005]在上述技术方案的基础上,本实用新型为了达到使用的方便以及装备的稳定性,还可以对上述的技术方案作出如下的改进:
[0006]进一步,所述的导流槽设置有2-6条,导流槽在分布头凸台上的开口均匀分布。[0007]进一步,所述的导流槽在分布头凸台上的截面结构为一方形槽和弧形槽的组合结构,导流槽在下竖管上的结构为弧形槽。
[0008]本实用新型的优点在于:本申请的液体分布头将插件型液体降膜头导流槽变为圆弧形底面,并且在降膜头内部增加一个螺旋板。降低了液体通行的阻力,使物料在含杂质时通过光滑导液槽会迅速流下,不会堵塞导液槽;在再沸器负荷较大时液体溢流进降膜头内壁也会以螺旋成膜的形式流动。
[0009]综上你所述,即具有如下的特点:
[0010]1、提高物料有杂质时的降膜再沸器清理周期;
[0011]2、提高负荷大时降膜再沸器的成膜效果;
[0012]3、节省能源消耗,降低生产成本。
[0013]4、保护热敏物料,减少原料浪费。
附图说明
[0014]图1为本申请一种降膜再沸器的液体分布头局部剖视的结构示意图;
[0015]图2为图1的俯视图;
[0016]图3为图1的A-A处剖视图;
[0017]图4为图1的B-B处剖视图。
[0018]附图标记记录如下:1-溢流导液板,2-分布头竖管,2.1-上竖管,2.2-下竖管,3-分布头凸台,4-导流槽。
具体实施方式
[0019]以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述,所举实例只用于解释本实用新型,并非用于限定本实用新型的范围。
[0020]一种降膜再沸器的液体分布头(参见图1-图4),包括分布头竖管2和位于分布头竖管2中部的分布头凸台3,分布头凸台3将分布头竖管2分为上竖管2.1和下竖管2.2,液体分布头上还设置有导流槽4,导流槽4螺旋设置在液体分布头的外表面并贯穿分布头凸台3和下竖管2.2,导流槽4的底部成圆弧状;所述的分布头竖管2内壁上设置有螺旋的溢流导液板1。溢流导液板布置在分布头竖管内壁上下。
[0021]在上述技术方案的基础上,本实用新型为了达到使用的方便以及装备的稳定性,还可以对上述的技术方案作出如下的改进:
[0022]所述的导流槽4设置有2-6条,本申请的实施例以6条为例(参见图2),导流槽4在分布头凸台3上的开口均匀分布。
[0023]所述的导流槽4在分布头凸台3上的截面结构为一方形槽和弧形槽的组合结构(参见图3),导流槽4在下竖管2.2上的结构为弧形槽(参见图4)。
[0024]本申请的降膜再沸器液体分布头的作用原理做如下说明:分布头插在换热管上,液体落下后通过导流槽螺旋进入换热管,并在换热管内壁上成膜分布。在负荷增大时,液位上涨,液体开始溢流进分布头管内,经过溢流导液板导流后,沿内壁螺旋成膜分布,从而实现提高降膜分布气化率。
[0025]圆弧形螺旋导液槽用于将物料进行螺旋导流分布,使液体螺旋进入换热管均匀布于换热管内壁。分布头凸台用于插入换热管时将其固定在换热管上,其与换热管内壁为过盈配合,防止在液体流量较大时,冲刷作用下使降膜分布头移位。溢流导液板通点焊在降膜分布头上,目的是为了在负荷较大时液体进入分布头内壁也会螺旋成膜分布。
[0026]本申请的降膜分布头抗堵性由很大提高,成膜分布效果好,满足了很多热敏性物料受热时间短,汽化快等需求。且清洗周期大大延长,节约了维修拆卸成本及停产检修造成的损失。非常适合现有降膜再沸器的使用。
[0027]本申请解决了降膜分布头负荷大时成膜效果差及易堵塞的问题,提高气化率,节约生产成本。
[0028]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
图1
图2

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