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一种用于退偏器退偏性能高精度检测的光学系统[实用新型专利]

专利名称：一种用于退偏器退偏性能高精度检测的光学系统专利类型：实用新型专利

发明人：曹恩达，于勇，赵一鸣，李飞

申请号：CN201922066322.7

申请日：20191126

公开号：CN211262667U

公开日：

20200814

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：一种用于退偏器退偏性能高精度检测的光学系统，包括光源、检测光路系统、退偏器放置平台、功率计以及波长计五部分；光源发射激光经检测光路透射被检退偏器后，聚焦到功率计中获得光能量；通过由V型槽三维调整平台构成的退偏器放置平台可以精确的实现退偏器正入射、斜入射两种情况的检测；由波长计可以实时的得到该次检测的入射光波长。整个检测光路系统一共由11种光学元件共12个组成，包括爬高镜、小孔光阑、毛玻璃镜片、平行光管、可调光阑、两个反射镜、光纤耦合镜、多模光纤、偏振分光棱镜、偏振片和聚焦透镜。

申请人：北京遥测技术研究所，航天长征火箭技术有限公司

地址：100076 北京市丰台区北京市9200信箱74分箱

国籍：CN

代理机构：中国航天科技专利中心

代理人：张晓飞

本文发布于:2024-09-21 14:27:33，感谢您对本站的认可！

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