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法拉第杯组件、离子注入装置及其使用方法[发明专利]

专利名称：法拉第杯组件、离子注入装置及其使用方法专利类型：发明专利

发明人：王东

申请号：CN201910485014.X

申请日：20190605

公开号：CN112053928A

公开日：

20201208

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本公开提供一种法拉第杯组件、离子注入装置及其使用方法，涉及半导体技术领域。该法拉第杯组件包括基座、法拉第杯、保护环和多个连接件。基座具有一设有安装槽的安装面，安装槽的底面设有至少一个安装孔；法拉第杯呈圆环状且设于安装槽的底面，法拉第杯设有沿周向延伸的圆环形的杯腔，杯腔具有朝向安装槽顶部的开放端，杯腔底部设有多个沿周向均匀分布的固定孔；保护环设于安装面且遮蔽安装槽，保护环在开放端的投影覆盖杯腔，保护环设有多个周向分布的圆弧形的狭缝，狭缝和固定孔满足以下条件：其中，n为狭缝的数量，c为狭缝所处圆周的周长，L为狭缝的弧长，m为固定孔的数量。连接件可拆卸地连接于安装孔，且穿过与安装孔正对的固定孔。

申请人：长鑫存储技术有限公司

地址：230000 安徽省合肥市经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室

国籍：CN

代理机构：北京律智知识产权代理有限公司

本文发布于:2024-09-21 17:24:19，感谢您对本站的认可！

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