一种四氯化硅低温处理工艺[发明专利]

专利名称:一种四氯化硅低温处理工艺专利类型:发明专利
发明人:邵家蓉,张利平,张婉秋
申请号:CN200910167680.5
申请日:20090918
公开号:CN101693524A
公开日:
20100414
专利内容由知识产权出版社提供
摘要:本发明为一种四氯化硅低温处理工艺,过程为:将四氯化硅和水导入到反应釜水解反应,将产生的HCl气体进行过滤,除去其中的杂质,得到高纯度HCl气体并进行回收,得到稀盐酸,将稀盐酸出厂销售。将反应釜中所产生的HSiO进行固液分离,获得HSiO,HSiO转化为硅酸盐类。本发明为低温反应,可以有效控制反应的速度,对于设备的要求不高,并且设备的工作功率低,能耗低。且本发明的产物为稀盐酸和硅酸盐类产品,有着很大的下游产业市场空间,是很多工业和民用产业的原料品,所以可以规模化,产业化地发展本发明技术。
申请人:邵家蓉
地址:643000 四川省自贡市自流井区丽景花园A4栋2单元附8号
国籍:CN

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