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低羟基石英玻璃的制备方法及石英玻璃[发明专利]

专利名称：低羟基石英玻璃的制备方法及石英玻璃

专利类型：发明专利

发明人：聂兰舰，向在奎，饶传东，王蕾，刘飞翔，邵竹锋，王慧，王宏杰，贾亚男，符博，张辰阳，王玉芬

申请号：CN201610798092.1

申请日：20160831

公开号：CN106430912A

公开日：

20170222

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明是关于低羟基石英玻璃的制备方法及石英玻璃，涉及石英玻璃制备领域，主要目的在于制备羟基含量较低的石英玻璃。石英玻璃的制备方法包括：由含硅原料经化学气相沉积制得第一二氧化硅疏松体，所述第一二氧化硅疏松体内具有气孔和羟基；对所述第一二氧化硅疏松体通入脱羟基气流，并在脱羟基温度下，使所述脱羟基气流对第一二氧化硅疏松体脱羟基后，获得第二二氧化硅疏松体；对所述第二二氧化硅疏松体在烧结温度下进行烧结，冷却后，获得石英玻璃成品。本发明中第一二氧化硅疏松体是纳米二氧化硅颗粒的聚集体，第一二氧化硅疏松体中包含大量气孔，有利第一二氧化硅疏松体中羟基的脱除，获得的石英玻璃成品中羟基含量较低，可在1ppm～50ppm或小于1ppm。

申请人：中国建筑材料科学研究总院

地址：100024 北京市朝阳区管庄东里1号

国籍：CN

代理机构：北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙)

本文发布于:2024-09-21 05:46:30，感谢您对本站的认可！

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