一种用于光提取的随机纳米图案制备方法[发明专利]

专利名称：一种用于光提取的随机纳米图案制备方法专利类型：发明专利

发明人：周雄图，翁雅恋，郭太良，张永爱，吴朝兴，严，孙捷申请号：CN202011138393.4

申请日：20201022

公开号：CN112436096A

公开日：

20210302

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明涉及一种用于光提取的随机纳米图案制备方法。所述随机皱褶图案的制备主要通过软印刷复制方法实现，采用原子层沉积方法生长多晶态氧化物薄膜，并以结晶颗粒为掩膜进行表面刻蚀，形成高低起伏的表面，然后配制软印刷复制材料PDMS对其表面进行压印，形成随机褶皱图案。通过改变生长条件调节结晶颗粒的分布及尺寸，从而调控随机皱褶团案的高低起伏情况，形成不同的微结构并应用于光电器件的光效提升。本发明结构简单、制作方法工艺简单、操作简便、成本低，且能大大提高光电器件的外量子点效率，效果显著。

申请人：福州大学，闽都创新实验室

地址：350108 福建省福州市闽侯县福州大学城乌龙江北大道2号福州大学

国籍：CN

代理机构：福州元创专利商标代理有限公司

本文发布于:2024-09-22 09:47:54，感谢您对本站的认可！

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