首页 > 专利信息

一种二次曲面反射镜拼接干涉检测子孔径规划方法及系统[发明专利]

专利名称：一种二次曲面反射镜拼接干涉检测子孔径规划方法及系统

专利类型：发明专利

发明人：闫力松，张誉馨，王超凡，马冬林

申请号：CN202111548383.2

申请日：20211217

公开号：CN114252244A

公开日：

20220329

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明公开了一种二次曲面反射镜拼接干涉检测子孔径规划方法及系统，属于先进光学系统技术领域，该方法通过将实际问题抽象为数学模型，利用曲面积分求解球面波前到曲面上各点光程差的平方和，使其取到最小值求出球心的最佳位置。利用该方法可以实现对二次曲面反射镜的子孔径规划，利用子孔径完成对待测非球面反射镜的全口径覆盖，同时避免了子孔径检测时标准球面波前与非球面子孔径间偏离量大导致测试条纹密度过大的问题。同时利用上述方法可以精确求得各子孔径测试时标准球面波前的球心位置及测试角度，即得到球面波前的最优位置。本发明可以进一步完善子孔径拼接检测方法，为现代先进光学系统的制造开发提供保证，可以提高光学检测的精度。

申请人：华中科技大学

地址：430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

国籍：CN

代理机构：华中科技大学专利中心

代理人：徐美琳

本文发布于:2024-09-22 01:21:54，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/2/406896.html

上一篇：一种透镜加载的宽角波束扫描透射阵列天线[发明专利]

下一篇：一种泄爆螺栓[实用新型专利]