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一种MRC冲突协同优化算法[发明专利]

专利名称：一种MRC冲突协同优化算法专利类型：发明专利

发明人：齐雪蕊，陈翰，张辰明

申请号：CN201811458473.0

申请日：20181130

公开号：CN109491194B

公开日：

20220329

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明提供了一种MRC冲突协同优化算法，包括：获取OPC修正方法的目标图形，若所述目标图形为特征图形，执行MRC冲突协同优化算法，执行所述OPC修正方法；否则，直接执行OPC 修正方法。本发明所提供的MRC冲突协同优化算法，可以使得特征图形的模拟值达到目标值，极大改善缩头现象；更进一步，如果此处的上下层的特征位置包括特征通孔，也可以改善此处对上下层通孔的覆盖率，降低工艺风险。

申请人：上海华力微电子有限公司

地址：201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号

国籍：CN

代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：智云

本文发布于:2024-09-22 03:57:19，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/2/402399.html

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