专利名称：光催化还原铀原位配位位点再生的TiO合成方法及应用 专利类型：发明专利
发明人：何嵘，雷佳，竹文坤，刘欢欢，温逢春，江新颖，乐昊飏，陈佳丽，李烨，臧梦璇
申请号：CN202111327443.8
申请日：20211110
公开号：CN113996282A
公开日：
氧空位
20220201
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明公开了一种光催化还原铀原位配位位点再生的TiO2合成方法及应用，包括以下步骤：步骤一、将TiO2纳米片分散在水中，并加入硝酸双氧铀，混合均匀，得到混合液；步骤二、将混合液加热，脱去水分，将得到的固体在惰性气体气氛中煅烧，冷却至室温，得到用于光催化处理放射性废水的光催化还原铀原位配位位点再生的TiO2。针对氧化物半导体空位有限的问题，利用高温退火，在TiO2纳米片中引入铀单原子掺杂，在光催化环境下原位制造氧空位，实现铀的高容量单原子限域，提高了放射性废液中U(VI)的去除和还原能力。 申请人：西南科技大学
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国籍：CN
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代理人：张忠庆
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