显示设备及其形成方法与流程

1.本公开是关于一种显示设备，特别是关于包含光学膜片的一种显示设备及其形成方法。

背景技术：

2.显示设备已广泛地应用于电子设备例如移动电话、电视、监视器、平板计算机、车用显示器、穿戴装置以及桌面计算机中。随电子产品蓬勃发展，对于显示设备的显示质量的要求越来越高。
3.然而，制备显示设备的过程中，若有异物掉落于显示设备的有源数组基板、彩滤光基板上或附着于有源数组基板与彩滤光基板之间的各层膜间形成瑕疵点，瑕疵点将造成显示设备产生辉点、亮点或暗点等，进而影响显示质量。
4.因此，提出改善显示设备显示质量且不提升成本的制程方法，仍为需努力的课题。

技术实现要素：

5.本公开提供一种包含光学膜片的显示设备及其形成方法，可改善显示设备的显示质量。
6.依据本公开的实施例，提供一种显示设备，包括面板以及设置于面板上的光学膜片。面板包括第一基板、与第一基板对应设置的第二基板以及设置于第一基板上的多个显示单元。瑕疵点位于第一基板与第二基板之间或位于第二基板上。光学膜片具有对应所述瑕疵点的第一处理区域。所述第一处理区域与所述多个显示单元中的至少两个显示单元至少部分重叠，且所述至少两个显示单元发出的光具有相同或不同的颜。
7.依据本公开的实施例，提供一种显示设备的形成方法，包括：提供面板；形成光学膜片于面板上；确认面板中及面板上是否存在瑕疵点，并定位瑕疵点位置；以及对应瑕疵点位置于光学膜片中形成第一处理区域。
附图说明
8.为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂，以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明，其中：
9.图1示出本公开一实施例的显示设备的爆炸图。
10.图2示出本公开一实施例的显示设备的俯视图。
11.图3示出本公开一实施例的显示设备的剖面示意图。
12.图4示出本公开一实施例的光学膜片的放大剖面示意图。
13.图5示出本公开另一实施例的显示设备的俯视图。
14.图6示出图5所示的显示设备的一实施例的剖面示意图。
15.图7示出图5所示的显示设备的另一实施例的剖面示意图。
16.图8示出图5所示的显示设备的又一实施例的剖面示意图。
17.图9示出本公开一实施例的附加光学膜片的放大剖面示意图。
18.图10示出本公开又一实施例的显示设备的俯视图。
19.图11示出图10所示的显示设备的一实施例的剖面示意图。
20.图12示出图10所示的显示设备的一实施例的剖面示意图。
21.图13示出本公开一实施例的显示设备的形成方法的流程图。
22.图14至图17是对应图13所示的显示设备的形成方法的各步骤的剖面示意图。
23.附图标记说明
24.10,20,30:显示设备
25.100,300,500,700:面板
26.110,310,510,710:第一基板
27.111,311,511:数据线
28.113,313,513:扫描线
29.120,320,520,720:第二基板
30.130,330,530:薄膜晶体管
31.140,340,540:绝缘层
32.150,350,550:电极层
33.160,360,560:滤光层
34.170,370,570:显示介质层
35.180-1,180-2,380-1,380-2,580-1,580-2:配向层
36.200,400,600:光学膜片
37.210,410,610:第一基材
38.230,430,630:偏光膜
39.250,450,650:第二基材
40.651:透明防水基层
41.653:高分子聚合物层
42.655:抗眩层
43.270,470,670:保护层
44.40:形成方法
45.p:瑕疵点
46.pa1,pa2,pa3:处理区域
47.nda:非显示区域
48.da:显示区域
49.px,pxg,pxr,pxb:显示单元
50.w1,w2,w3,w5:宽度
51.s401～s407:步骤
具体实施方式
52.以下的公开内容提供许多不同的实施例或范例以实施本案的不同特征。以下的公开内容叙述各个构件及其排列方式的特定范例，以简化说明。当然，这些特定的范例并非用
以限定。例如，若是本公开叙述了一第一特征形成于一第二特征的上或上方，即表示其可能包含上述第一特征与上述第二特征是直接接触的实施例，亦可能包含了有附加特征形成于上述第一特征与上述第二特征之间，而使上述第一特征与第二特征可能未直接接触的实施例。
53.以下将叙述本公开一些实施例。在此些实施例中所述的步骤之前、之间及/或之后可提供额外的操作。一些所述的步骤可于不同的实施例中被取代或省略。此外，虽然后文以特定顺序的数个步骤说明本公开一些实施例，但亦可以其他合理的顺序进行此些步骤。
54.再者，当组件或膜层被称为在另一个组件或膜层「上」或「连接到」另一个组件或膜层时，它可以直接在此另一组件或膜层上或直接连接到此另一组件或层，或者两者之间存在有插入的组件或膜层(非直接情况)。相反地，当组件被称为「直接」在另一个组件或膜层「上」或「直接连接到」另一个组件或膜层时，两者之间不存在有插入的组件或膜层。
55.于文中，「约」、「实质上」的用语通常表示在一给定值或范围的10％内、或5％内、或3％之内、或2％之内、或1％之内、或0.5％之内。在此给定的数量为大约的数量，亦即在没有特定说明「约」、「实质上」的情况下，仍可隐含「约」、「实质上」的含义。用语「范围介于第一数值及第二数值之间」表示所述范围包含第一数值、第二数值以及它们之间的其它数值。
56.本公开的显示设备可包括显示设备、天线装置、感测装置、触控电子装置(touch display)、曲面电子装置(curved display)或非矩形电子装置(free shape display)，但不以此为限。电子装置可为可弯折或可挠式电子装置。天线装置可例如是液晶天线，但不以此为限。天线装置可例如包括天线拼接装置，但不以此为限。需注意的是，电子装置可为前述的任意排列组合，但不以此为限。此外，电子装置的外型可为矩形、圆形、多边形、具有弯曲边缘的形状或其他适合的形状。电子装置可以具有驱动系统、控制系统、光源系统、层架系统
…
等外围系统以支持显示设备、天线装置或拼接装置。下文将以显示设备说明本公开内容，但本公开不以此为限。
57.图1示出本公开一实施例的显示设备10的爆炸图。如图1所示，显示设备10包括面板100以及设置于面板100上的光学膜片200。面板100包括第一基板110、沿着第一方向(x方向)延伸的扫描线113、沿着第二方向(y方向)延伸的数据线111、以及相应于第一基板110设置于扫描线113以及数据线111上的第二基板120。第一方向与第二方向垂直。其中，第一基板110可例如为薄膜数组基板，第二基板120可例如为彩滤光基板。根据一些实施例，第二基板可例如为高分子基板，但不以此为限。第一基板110与第二基板120的材料可相同或不相同，材料可包含玻璃、石英、蓝宝石(sapphire)、陶瓷、聚酰亚胺(polyimide，pi)、聚碳酸酯(polycarbonate，pc)、聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，pet)、聚丙烯(polypropylene，pp)、其它合适的材料或前述的组合，但不限于此。
58.多个显示单元设置于第一基板110上。在本公开中，显示设备的显示单元是用于向观看者显示影像的子像素或像素。各显示单元分别为一堆栈结构，其包括被配置为能发出具有亮度和颜的光线的所有相关膜层、相关组件或相关部分。对于液晶显示器而言，显示单元是子像素，而各显示单元可以包括液晶层的相关部分、偏振片的相关部分、背光的相关部分以及相关的基板、驱动电路与彩滤光片。对于自发光显示器(例如无机发光二极管显示器(light-emitting diode display，led)与有机发光显示器(organic light-emitting diode display，oled)而言，显示单元是子像素或像素，而各显示单元可以包括相关的自发
光源、相关的光转换层、偏振片的相关部分、相关的基板以及相关的驱动电路。另外，数个显示单元可以具有共享膜层、共享组件或共享部分。以下以液晶显示器进行说明。
59.多条数据线111沿着第一方向设置于第一基板110上且多条扫描线113沿着第二方向设置于第一基板110上，多条扫描线113与多条数据线111交错以于第一基板110上定义出多个显示单元px，如图2所示。为方便描述，显示设备10可省略了盖板(cover glass)或背光模块(backlight module)等相关组件。其中，盖板可例如为玻璃或压克力，但不以此为限。其中，盖板可选择性的具有触控功能或不具有触控功能。而背光模块可例如包含相关光学膜材(例如:灯板、灯条、导光板、反射片、增亮膜等)，背光模块可例如为直下式或侧入式，但不以此为限。
60.图2示出本公开一实施例的显示设备10的俯视图。如的2图所示，面板100包括显示区域da以及围绕显示区域da的非显示区域nda。扫描线113与数据线111定义出的显示单元px位于显示区域da中。显示单元px包含至少一薄膜晶体管(thin film transistor,tft)且彼此可具有相同或类似的特征。显示单元px依据发出的光的颜，可分为红显示单元pxr、绿显示单元pxg以及蓝显示单元pxb。应理解的是，除非特别说明，后文针对显示设备10的某一特定显示单元px说明的特征亦可被包括于显示设备10的任何其他的显示单元px中。举例而言，后文针对绿显示单元pxg说明的特征亦可被包括于红显示单元pxr及/或蓝显示单元pxb中。此外，应理解的是，可视设计需求使显示设备10具有任何适当数量的显示单元px。在一些实施例中，红显示单元pxr、绿显示单元pxg以及蓝显示单元pxb可彼此交错排列。举例而言，红显示单元pxr、绿显示单元pxg以及蓝显示单元pxb可沿着第一方向彼此交错排列，如图2所示。在另一实施例中，红显示单元pxr、绿显示单元pxg以及蓝显示单元pxb可实质上沿着第一方向彼此交错排列，但不以此为限。
61.瑕疵点p位于面板100中或面板100的表面上，也就是说瑕疵点位于第一基板110与第二基板120之间，或者，瑕疵点p位于第二基板120上，更详细而言，瑕疵点p位于第二基板120表面上。本公开中，「瑕疵点p」泛指不应该存在于显示设备10中的组件或可能影响显示设备10的显示质量的组件，例如异物、微粒、污染物等。在面板100的制程过程中，透过检验发现瑕疵点p会造成显示设备产生辉点、亮点或暗点等，进而影响显示设备10的显示质量，但不以此为限。图2示出一个瑕疵点p位于绿显示单元pxg中的实施例作为示例，但本公开不限于此。举例而言，瑕疵点p可能因为制程环境中的微尘或颗粒掉入面板100中/上而产生。面板100可能包含一个、两个或多个瑕疵点p，其中，瑕疵点p可分别或同时位于红显示单元pxr中、蓝显示单元pxb中、红显示单元pxr与蓝显示单元pxb之间、或绿显示单元pxg与蓝显示单元pxb之间，但不以此为限。
62.光学膜片200设置于面板100上方，详细而言，光学膜片200于第三方向(z方向，第一基板110的法线方向)上设置于面板100上并重叠瑕疵点p。光学膜片200具有第一处理区域pa1。图2显示第一处理区域pa1为矩形的一个实施例做为示例，但本公开不限于此。第一处理区域pa1可具有各种形状，包含正方形、矩形、平行四边形、多边形以及不规则形状。当光学膜片200具有多个第一处理区域pa1时，各第一处理区域pa1可独立地具有不同的形状。第一处理区域pa1的位置对应瑕疵点p的位置。本公开中的“对应”是指在第三方向(z方向，第一基板110的法线方向，也可称为显示设备的俯视方向)上至少部分地重叠或完全重叠，详细而言，在第三方向(z方向)上，部分的第一组件与部分的第二组件重叠、第一组件与部
分的第二组件重叠或者第一组件与第二组件完全重叠。也就是说，第一处理区域pa1在第三方向(z方向)上与瑕疵点p至少部分地重叠。在一些实施例中，第一处理区域pa1与整个瑕疵点p重叠。在此实施例中，瑕疵点p相对于第一基板110的投影落于第一处理区域pa1相对于第一基板110的投影内。在一些实施例中，瑕疵点p的尺寸小于等于第一处理区域pa1的宽度的2/3，意即当瑕疵点p相对于第一基板110的投影落于第一处理区域pa1相对于第一基板110的投影宽度的2/3内，则该处理区域对应该瑕疵点。在此实施例中，一个第一处理区域pa1可对应多个瑕疵点p，但本公开不限于此。在一些实施例中，多个第一处理区域pa1可对应多个瑕疵点p。在一些实施例中，第一处理区域pa1在第一方向上的宽度≧至少一个显示单元在第一方向上的宽度(即两条相邻的数据线111之间的距离)。第一处理区域pa1对应显示单元px中的至少两个显示单元，且所述至少两个显示单元的颜可相同或不同。举例而言，如图2以及图3所示，第一处理区域pa1与绿显示单元pxg与蓝显示单元pxb至少一部分地重叠且第一处理区域pa1的第一宽度w1≧绿显示单元pxg的第二宽度w2。在一些实施例中，第一处理区域pa1至少部分重叠多个显示单元px中的至少两个显示单元，其中至少两个显示单元的颜可能相同。可能透过光学膜片设置处理区域，且处理区域对应瑕疵点p，可降低显示设备的瑕疵点p造成的亮点的亮度，进而改善显示质量。
63.参见，瑕疵点p位于面板100的第二基板120上，光学膜片200形成于面板100上且重叠瑕疵点p。光学膜片200包含第一处理区域pa1，且于显示设备10的俯视方向上，第一处理区域pa1对应所述瑕疵点p。面板100包含第一基板110、设置于第一基板110上的多个薄膜晶体管130、设置于多个薄膜晶体管130上的绝缘层140、设置于绝缘层140上的电极层150、设置于电极层150上的配向层180-1、设置于配向层180-1上的显示介质层170、设置于显示介质层170上的配向层180-2、设置于配向层180-2上的滤光层160以及滤光层160上的第二基板120。虽然图3显示瑕疵点p位于第二基板120上的一个实施例做为示例，但本公开不限于此。在一些实施例中，瑕疵点p可位于面板100中，包含但不限于显示介质层170、电极层150及/或绝缘层140中。进一步说明，本公开所指电极层可例如为金属或金属氧化物，但不以此为限。配向层可例如是聚酰亚胺(polyimide，pi)，但不以此为限。另外，绝缘层可例如是有机绝缘层或无机绝缘层，但不以此为限。
64.以下参照图4进一步说明本公开的光学膜片。图4示出本公开一实施例的光学膜片200的放大剖面示意图。如图4所示，光学膜片200包含第一基材210、形成于第一基材210上的偏光膜230、形成于偏光膜230上的第二基材250、以及形成于第二基材250上的保护层270，其中光学膜片200可透过第一基材210粘附于第二基板120上。在一些实施例中，可省去保护层270。在一些实施例中，第一基材210可包含一或多个层且第二基材250可包含一或多个层。举例而言，第一基材210可包含透明防水基层、光学补偿层及/或粘着层，且第二基材250可包含透明防水基层、高分子聚合物(例如view angle enhance,vae层或抗眩层)。在一些实施例中，高分子聚合物层可具有微结构。图4显示第一处理区域pa1位于第二基材250的一个实施例做为示例，但本公开不限于此。第一处理区域pa1可位于偏光膜230上方的一或多个层中。此处所谓的“第一处理区域pa1位于偏光膜230上方”是指在第三方向上，第一处理区域pa1与所述面板100之间的垂直距离大于所述偏光膜230与所述面板100之间的垂直距离。其中，光学膜片可例如包含醋酸乙烯酯-乙烯共聚物、聚对苯二甲酸乙二酯或其它合适的材料，但不以此为限。
65.在一些实施例中，显示设备可进一步包含对应瑕疵点p且在第三方向上与整个瑕疵点p重叠的第二处理区域pa2，如图5所示。图5示出本公开另一实施例的显示设备20的俯视图。图5显示第一处理区域pa1以及第二处理区域pa2的形状皆为矩形的一个实施例做为示例，但本公开不限于此。第一处理区域pa1以及第二处理区域pa2可彼此独立地具有各种形状，包含正方形、矩形、平行四边形、多边形以及不规则形状。在图5所示的实施例中，第一处理区域pa1与第二处理区域pa2对应绿显示单元pxg与蓝显示单元pxb，在第三方向上与绿显示单元pxg与蓝显示单元pxb部分重叠，但本公开不限于此。在一些实施例中，第二处理区域pa2可位于一个显示单元中。在图5所示的实施例中，第一处理区域pa1在第三方向上与整个第二处理区域pa2重叠。瑕疵点p相对于第一基板310的投影落于第二处理区域pa2相对于第一基板310的投影内，且第二处理区域pa2相对于第一基板310(参见图6至图8)的投影落于第一处理区域pa1相对于第一基板310的投影内，但本公开不限于此。在一些实施例中，一个第二处理区域pa2可对应多个瑕疵点p，但本公开不限于此。在一些实施例中，多个第二处理区域pa2可对应多个瑕疵点p，也就是说，瑕疵点p相对于第一基板110的投影落于第二处理区域pa2相对于第一基板110的投影宽度的2/3内时，则该处理区域对应该瑕疵点。在一些实施例中，第一处理区域pa1对应第二处理区域pa2且在第三方向上与第二处理区域pa2部分重叠。第二处理区域pa2在第一方向上可具有第三宽度w3，第一处理区域pa1的第一宽度w1大于第二处理区域pa2的第三宽度w3，如图6至图8所示。
66.图6示出图5所示的显示设备20的一实施例的剖面示意图。如图6所示，显示设备20包括面板300以及如图4所示的光学膜片200。面板300包括第一基板310、设置于第一基板310上的多个薄膜晶体管330、设置于多个薄膜晶体管330上的绝缘层340、设置于绝缘层340上且其中具有第二处理区域pa2的电极层350、设置于电极层350上的配向层380-1、设置于配向层380-1上的显示介质层370、设置于显示介质层370上的配向层380-2、设置于配向层380-2上的滤光层360以及滤光层360上的第二基板320。瑕疵点p位于显示介质层370中。第二处理区域pa2与如图4所示的光学膜片200的第二基材250中的第一处理区域pa1以及位于显示介质层370中的瑕疵点p相对应。
67.图7示出图5所示的显示设备20的另一实施例的剖面示意图。如图7所示，显示设备20包括面板300以及如图4所示的光学膜片200。面板300包括第一基板310、设置于第一基板310上的多个薄膜晶体管330、设置于多个薄膜晶体管330上的绝缘层340、设置于绝缘层340上的电极层350、设置于电极层350上的配向层380-1、设置于配向层380-1上的显示介质层370、设置于显示介质层370上的配向层380-2、设置于配向层380-2上且其中具有第二处理区域pa2的滤光层360以及滤光层360上的第二基板320。瑕疵点p位于显示介质层370中。第二处理区域pa2与如图4所示的光学膜片200的第二基材250中的第一处理区域pa1以及位于显示介质层370中的瑕疵点p相对应。
68.图8示出图5所示的显示设备20的另一实施例的剖面示意图。如图8所示，显示设备20包括面板300以及如图4所示的光学膜片200。面板300包括第一基板310、设置于第一基板310上的多个薄膜晶体管330、设置于多个薄膜晶体管330上的绝缘层340、设置于绝缘层340上的电极层350、设置于电极层350上的配向层380-1、设置于配向层380-1上的显示介质层370、设置于显示介质层370上且其中具有第二处理区域pa2的配向层380-2、设置于配向层380-2上的滤光层360以及滤光层360上的第二基板320。瑕疵点p位于显示介质层370中。第
二处理区域pa2与如图4所示的光学膜片200的第二基材250中的第一处理区域pa1以及位于显示介质层370中的瑕疵点p相对应。
69.在一些实施例中，显示设备可进一步包含附加光学膜片400。附加光学膜片400可包含对应瑕疵点p且在第三方向上与整个瑕疵点p重叠的第三处理区域pa3。以下参照图9进一步说明本公开的附加光学膜片400。图9示出本公开一实施例的附加光学膜片400的放大剖面示意图。如图9所示，附加光学膜片400包含第一基材410、形成于第一基材410上的偏光膜430、形成于偏光膜430上的第二基材450、以及形成于第二基材450上的保护层470，其中附加光学膜片400可透过第一基材410粘附于面板的第一基板上。在一些实施例中，可省去保护层470。在一些实施例中，第一基材410可包含一或多个层且第二基材450可包含一或多个层。举例而言，第一基材410可包含透明防水基层、光学补偿层及/或粘着层，且第二基材450可包含透明防水基层、高分子聚合物层及/或抗眩层。图9显示第三处理区域pa3位于第二基材450的一个实施例做为示例，但本公开不限于此。第三处理区域pa3可位于偏光膜430上方的第二基材450中一或多个层中。此处所谓的“第三处理区域pa3位于偏光膜430上方”是指在第三方向上，第三处理区域pa3与所述面板之间的垂直距离大于所述偏光膜430与所述面板之间的垂直距离。
70.附加光学膜片400的结构与各层的材料可与光学膜片200相同或不同。举例而言，在一实施例中，光学膜片200包含第一基材210、偏光膜230、第二基材250以及保护层270而附加光学膜片400包含第一基材410、偏光膜430以及第二基材450。
71.图10示出本公开另一实施例的其中包含附加光学膜片400的显示设备30的俯视图。图10显示第一处理区域pa1、第二处理区域pa2以及第三处理区域pa3的形状皆为矩形的一个实施例做为示例，但本公开不限于此。第一处理区域pa1、第二处理区域pa2以及第三处理区域pa3可彼此独立地具有各种形状，包含正方形、矩形、平行四边形、多边形以及不规则形状。在图10所示的实施例中，第一处理区域pa1与第二处理区域pa2对应绿显示单元pxg与蓝显示单元pxb，在第三方向上与绿显示单元pxg与蓝显示单元pxb部分重叠，第三处理区域pa3对应绿显示单元pxg，在第三方向上与绿显示单元pxg部分重叠，但本公开不限于此。在一些实施例中，第二处理区域pa2可位于一个显示单元中，而第三处理区域pa3可对应两个显示单元。在图10所示的实施例中，第一处理区域pa1在第三方向上与整个第二处理区域pa2重叠且第二处理区域pa2在第三方向上与整个第三处理区域pa3重叠。瑕疵点p相对于第一基板510的投影落于第三处理区域pa3相对于第一基板510的投影内，第三处理区域pa3相对于第一基板510的投影落于第二处理区域pa2相对于第一基板510的投影内，且第二处理区域pa2相对于第一基板510(参见图11以及图12)的投影落于第一处理区域pa1相对于第一基板510的投影内，但本公开不限于此。在一些实施例中，一个第三处理区域pa3可对应多个瑕疵点p，但本公开不限于此。在一些实施例中，多个第三处理区域pa3可对应多个瑕疵点p。意即当瑕疵点p相对于第一基板110的投影落于第三处理区域pa3相对于第一基板110的投影宽度的2/3内，则该处理区域对应该瑕疵点。在一些实施例中，第一处理区域pa1可在第三方向上与第二处理区域pa2部分重叠、第一处理区域pa1可在第三方向上与第三处理区域pa3部分重叠及/或第二处理区域pa2可在第三方向上与第三处理区域pa3部分重叠。第三处理区域pa3在第一方向上可具有第五宽度w5。在一些实施例中，第一处理区域pa1的第一宽度w1大于第二处理区域pa2的第三宽度w3且第二处理区域pa2的第三宽度w3大于第
三处理区域pa3的第五宽度w5，如图11以及图12所示，但本公开不限于此。在一些实施例中，第二处理区域pa2的第三宽度w3小于第三处理区域pa3的第五宽度w5。
72.图11示出图10所示的显示设备30的一实施例的剖面示意图。如图11所示，显示设备30包括如图4所示的光学膜片200、如图10所示的附加光学膜片400以及设置于光学膜片200与附加光学膜片400之间的面板500。面板500包括第一基板510、设置于第一基板510上的多个薄膜晶体管530、设置于多个薄膜晶体管530上的绝缘层540、设置于绝缘层540上且其中具有第二处理区域pa2的电极层550、设置于电极层550上的配向层580-1、设置于配向层580-1上的显示介质层570、设置于显示介质层570上的配向层580-2、设置于配向层580-2上的滤光层560以及滤光层560上的第二基板520。瑕疵点p位于显示介质层570中。第二处理区域pa2位于电极层550中且与如图4所示的光学膜片200的第二基材250中的第一处理区域pa1、如图9所示的附加光学膜片400的第二基材450中的第三处理区域pa3以及瑕疵点p相对应。
73.图12示出图10所示的显示设备30的一实施例的剖面示意图。如图12所示，显示设备30包括如图4所示的光学膜片200、如图10所示的附加光学膜片400以及设置于光学膜片200与附加光学膜片400之间的面板500。面板500包含包括第一基板510、设置于第一基板510上的多个薄膜晶体管530、设置于多个薄膜晶体管530上的绝缘层540、设置于绝缘层540上的电极层550、设置于电极层550上的配向层580-1、设置于配向层580-1上的显示介质层570、设置于显示介质层570上的配向层580-2、设置于配向层580-2上且其中具有第二处理区域pa2的滤光层560以及滤光层560上的第二基板520。瑕疵点p位于显示介质层570中。第二处理区域pa2位于滤光层560中且如图4所示的光学膜片200的第二基材250中的第一处理区域pa1、如图9所示的附加光学膜片400的第二基材450中的第三处理区域pa3以及瑕疵点p相对应。
74.本公开另外提供一种显示设备的形成方法。图13示出本公开一实施例的显示设备的形成方法40的流程图。如图13所示，本公开的显示设备的形成方法40包含提供面板的步骤s401、形成光学膜片于面板上的步骤s403、确认面板中及面板上是否存在瑕疵点，并定位瑕疵点位置的步骤s405、以及对应瑕疵点位置于光学膜片中形成第一处理区域的步骤s407。
75.以下参照图14至图17进行本公开的显示设备的形成方法40的说明。图14至图17是对应图13所示的显示设备的形成方法40的各步骤的剖面示意图。
76.首先在步骤s401中提供如图14所示的面板700。面板700包含多个显示单元px，显示单元px依据发出的光的颜，可分为红显示单元pxr、绿显示单元pxg以及蓝显示单元pxb。面板700包含第一基板710以及第二基板720。图14显示第一基板710为薄膜晶体管基板且第二基板720为滤光层基板，且瑕疵点p位于第一基板710以及第二基板720之间的实施例作为示例。在此实施例中第二基板720与瑕疵点p的距离大于第一基板710与瑕疵点p的距离，但本公开不限于此。虽然图14仅显示一个瑕疵点p作为示例，但本公开不限于此。在一些实施例中，步骤s401中提供的面板可为其中不具有瑕疵点p的面板。在一些实施例中，步骤s401中提供的面板可包括多个瑕疵点。所述多个瑕疵点可分别为于面板700的各个位置。举例而言，瑕疵点可形成于面板700的第一基板710及/或第二基板720的表面上、第一基板710及第二基板720之间的各层中、或各层之间。
77.接着于步骤s403中将光学膜片600形成于基板700的出光方向上，如图15所示。在一些实施例中，光学膜片600可透过贴附的方式形成于基板700上。光学膜片600可具有多层结构。举例而言，如图15所示，光学膜片600可包含第一基材610、设置于第一基材610上的偏光膜630、设置于偏光膜630上的第二基材650以及设置于第二基材650上的保护层670，但本公开不限于此。在一些实施例中，可省去保护层670。第一基材610以及第二基材650可各自独立地为单层或多层结构。在一些实施例中，第一基材610以及第二基材650可包含具有防水性能的透明基材，借以避免偏光膜因外部湿气而受损。在一些实施例中，第一基材610可为包含透明基材以及粘着层的多层结构，在此实施例中，光学膜片600可透过粘着层粘附于基板700上。图15示出第二基材650包含透明防水基层651、抗眩层655、以及设置于透明防水基层651与抗眩层655之间的高分子聚合物层653，且其中高分子聚合物层653具有微结构的实施例作为示例，但本公开不限于此。在一些实施例中，高分子聚合物层653可不具有微结构。在一些实施例中，可省去抗眩层655。
78.接着在步骤s405，将于步骤s403所得的结构透过光学显微镜(optical microscope，om)及/或扫描电子显微镜(scanning electron microscope，sem)观察所述结构以寻瑕疵点p，对瑕疵点p所在的位置进行标记以定位瑕疵点位置。此处所称的瑕疵点p可为原本即存在于面板中的瑕疵点，也可能是因为制程环境中的微尘或颗粒掉入面板中/上而产生的瑕疵点。举例来说，当瑕疵点p存在于显示设备的各膜层之间，瑕疵点p将造成显示设备产生亮点或辉点，也就是说，当显示设备的背光模块点亮时，于z方向(基板的法线方向)上透过光学显微镜观察时，可得显示设备的一区域的亮度较其他区域亮时(例如:透过人眼观察显示设备发出的亮度不同或者可以用合适的仪器量测)，则该区域对应的对应堆栈膜层可能存在瑕疵点p，借此定位瑕疵点位置，但定位瑕疵点位置的方式并不以此为限。
79.在定位出瑕疵点位置之后，于步骤s407中对光学膜片600对应所述瑕疵点位置的区域进行雾化制程以形成第一处理区域pa1，所得的结构如图16所示。雾化制程包含利用纳秒激光技术、皮秒激光技术、飞秒激光技术或其组合照射光学膜片600对应所述瑕疵点位置的区域以形成对应瑕疵点p的第一处理区域pa1。举例来说，使用皮秒激光、飞秒激光技术进行雾化制程可在不破坏上层结构的情况下破坏并雾化目标区域。本公开所述激光技术可例如使用355、533或1064nm激光光或或其组合，但不以此为限。以下参照图16对步骤s407的雾化制程进行进一步的描述。图16显示第一处理区域pa1形成于具有微结构的高分子聚合物层653的实施例作为示例，但本公开不限于此。在一些实施例中，第一处理区域pa1可形成于透明防水基层651/或抗眩层655中，只要在第三方向上，第一处理区域pa1与所述面板700之间的垂直距离大于所述偏光膜630与所述面板700之间的垂直距离即可。在此实施例中，调整激光(例如533nm、1064nm或其组合的皮秒/飞秒激光脉冲)的焦距使其照射高分子聚合物层653中与瑕疵点位置相对应的区域，借以破坏所述区域的微结构并使所述区域雾化以形成第一处理区域pa1。透过破坏高分子聚合物层653的微结构，可使经过第一处理区域pa1的光产生非一致性的散射，而透过雾化高分子聚合物层653，可使经过第一处理区域pa1的光被部分地吸收，也就是说，透过雾化处理可破坏对应瑕疵点p的高分子聚合物层653的连续微结构，进而使得被瑕疵点p反射的光线通过该处理区域pa1时被散射。据此，透过形成第一处理区域pa1对应瑕疵点p，借以降低瑕疵点p引起的亮点的亮度。形成的第一处理区域pa1可独立地具有各种形状，包含正方形、矩形、平行四边形、多边形以及不规则形状。一般而
言，考虑到光的行进方向以及散射特性，第一处理区域pa1在第一方向(x方向)上的宽度需大于等于至少一显示单元在第一方向上的宽度以确保能够充分地覆盖瑕疵点p。在一些实施例中，瑕疵点p的尺寸小于等于第一处理区域pa1的宽度的2/3。因此，一个第一处理区域pa1可对应一个或多个瑕疵点。
80.在一些实施例中，第一处理区域pa1对应相邻设置且发出不同颜光的两个显示单元。在一些实施例中，第一处理区域pa1与至少两个显示单元至少部分重叠，其中所述至少两个显示单元发出的光具有相同或不同的颜。
81.在一些实施例中，显示设备的形成方法40可在形成第一处理区域的步骤s407之前进一步包含对应所述瑕疵点位置于面板中形成第二处理区域pa2的步骤s406。第二处理区域pa2是透过碳化制程形成。碳化制程包含利用纳秒激光技术、皮秒激光技术、飞秒激光技术或其组合照射面板以形成第二处理区域pa2。举例来说，使用皮秒激光、飞秒激光技术进行碳化制程可在不破坏上层结构的情况下破坏并碳化目标区域。以下参照图17对步骤s406的碳化制程进行进一步的描述。虽然图17显示第二处理区域pa2形成于第一基板710(在此实施例中的滤光层基板)中的实施例作为示例，但本公开不限于此。在一些实施例中，第二处理区域pa2可形成于第二基板720中，即在此实施例中的薄膜晶体管基板中。在此实施例中，在定位出瑕疵点位置之后，调整激光(例如533nm、1064nm或其组合的皮秒/飞秒激光脉冲)的焦距使其照射第一基板710中与瑕疵点位置相对应的区域，借以使所述区域碳化以形成第二处理区域pa2。在一实施例中，可在形成第二处理区域pa2后，调整所使用的激光脉冲的焦距以进一步于步骤s407中形成与第二处理区域pa2相对应的第一处理区域pa1。
82.类似于第一处理区域pa1，第二处理区域pa2可独立地具有各种形状，包含正方形、矩形、平行四边形、多边形以及不规则形状。一般而言，考虑到光的行进方向以及散射特性，离瑕疵点p较远的第一处理区域pa1在第一方向上的宽度需大于等于离瑕疵点p较近的第二处理区域pa2在第一方向上的宽度以确保能够充分地覆盖瑕疵点p，进而借以降低瑕疵点p引起的亮点的亮度，但不以此为限。类似于第一处理区域pa1，一个第二处理区域pa2可对应一个或多个瑕疵点。
83.在一些实施例中，包含第一处理区域pa1的层(例如高分子聚合物层653)的碳含量可低于包含第二处理区域pa2的层(例如第一基板710中的电极层或第二基板720中的滤光层或配向层)的碳含量。在一些实施例，当光学膜片具有第一处理区域pa1时，对应第一处理区域pa1的光学膜片的上表面可能具有突起结构，也就是说，当光学膜片具有保护层670，且保护层670为最外层时，因光学膜片具有第一处理区域pa1，则对应第一处理区域pa1的保护层670的上表面可能具有突起结构，但不以此为限。本公开所指”最外层”是指该组件最远离面板的位置。
84.在一些实施例中，在定位瑕疵点位置的步骤s405之前，显示设备的形成方法40可进一步包含在面板上形成附加光学膜片，使面板700设置于光学膜片600以及附加光学膜片之间的步骤。附加光学膜片可具有与光学膜片600相似的结构，在此实施例中，附加光学膜片可包含偏光膜以及第三处理区域。第三处理区域可在定位瑕疵点位置的步骤s405之后以与上述形成第一处理区域pa1相同的步骤形成于附加光学膜片中，因此第三处理区域的透光率可与第一处理区域pa1的透光率相似且大于第二处理区域pa2的透光率。第三处理区域可在第二处理区域pa2之前形成或是在第一处理区域pa1之后形成。与第一处理区域pa1相
同地，附加光学膜片中的第三处理区域与面板700之间的垂直距离大于附加光学膜片中的偏光膜与面板700之间的垂直距离。透过形成第三处理区域，瑕疵点p引起的亮点的亮度可再进一步地降低。
85.本公开提供降低瑕疵点p引起的亮点的亮度的显示设备的形成方法。透过降低瑕疵点p引起的亮点的亮度，可修复具有瑕疵点的面板，借以提升包含具有瑕疵点的面板的显示设备的显示质量。综上所述，本公开所提供的方法可透过对包含有瑕疵点的面板进行处理，来降低显示设备的制造成本。
86.前文概述了数个实施例的特征，使得本领域技术人员可更好地理解本公开的各面向。本领域技术人员应可理解且可轻易地以本公开为基础来设计或修饰其他制程及结构，并以此达到相同的目的及/或达到与在此介绍的实施例相同的优点。本领域技术人员也应了解该多个相等的结构并未背离本公开的精神与范围。在不背离本公开的精神与范围之前提下，可对本公开的实施例进行各种改变、置换或修改。各实施例间特征只要不违背发明精神或相冲突，均可任意混合搭配使用。此外，本公开的每一权利要求可为个别的实施例，且本公开的范围包括本公开的每一权利要求及每一实施例彼此的结合。
87.虽然本发明已以较佳实施例揭示如上，然其并非用以限定本发明，任何本领域技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的修改和完善，因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。

技术特征：

1.一种显示设备，包括：一面板，所述面板包括:一第一基板；一第二基板，与所述第一基板对应设置；和多个显示单元，设置于所述第一基板上，一瑕疵点，位于所述第一基板和所述第二基板之间或位于所述第二基板上；和一光学膜片，设置于所述面板上，所述光学膜片具有一第一处理区域，其中，于所述显示设备的俯视方向上，所述第一处理区域对应所述瑕疵点，且所述第一处理区域与所述多个显示单元中的至少两个显示单元至少部分重叠。2.如权利要求1所述的显示设备，其特征在于，所述第一处理区域在一第一方向上具有一第一宽度，所述至少两个显示单元中的一个显示单元在所述第一方向上具有一第二宽度，所述第一宽度大于等于所述第二宽度。3.如权利要求2所述的显示设备，其特征在于，所述至少两个显示单元中的一个显示单元具有一第二处理区域，所述第二处理区域对应所述第一处理区域。4.如权利要求3所述的显示设备，其特征在于，所述第二处理区域在所述第一方向上具有一第三宽度，所述第一宽度大于等于所述第三宽度。5.如权利要求3所述的显示设备，其特征在于，所述面板进一步包括一电极层于所述第一基板上，所述第二处理区域位于所述电极层中。6.如权利要求3所述的显示设备，其特征在于，所述面板进一步包括一滤光层于所述第一基板上，所述第二处理区域位于所述滤光层中。7.如权利要求3所述的显示设备，其特征在于，所述面板进一步包括一配向层于所述第一基板上，所述第二处理区域位于所述配向层中。8.一种显示设备的形成方法，包括：提供一面板；提供一光学膜片于所述面板上；确认所述面板中及所述面板上是否存在一瑕疵点，并定位一瑕疵点位置；以及对应所述瑕疵点位置于所述光学膜片中形成一第一处理区域。9.如权利要求8所述的显示设备的形成方法，其特征在于，所述光学膜片包括一第一基材、一第二基材、以及设置于所述第一基材与所述第二基材之间的一偏光膜，其中所述第一处理区域位于所述第一基材中，且所述第一处理区域与所述面板之间的垂直距离大于所述偏光膜与所述面板之间的垂直距离。10.如权利要求8所述的显示设备的形成方法，其进一步包括在形成所述第一处理区域之前，对应所述瑕疵点位置于所述面板中形成一第二处理区域。

技术总结

本公开提供一种显示设备，包括面板以及设置于面板上的光学膜片。面板包括第一基板、与第一基板对应设置的第二基板以及多个显示单元设置于第一基板上。瑕疵点位于第一基板与第二基板之间或位于第二基板上。于所述显示设备的俯视方向上，光学膜片具有对应所述瑕疵点的第一处理区域，且所述第一处理区域与至少两个显示单元至少部分重叠。显示单元至少部分重叠。显示单元至少部分重叠。