一种电子加速器静态辐照水冷型支架的制作方法



1.本发明涉及辐照加工技术领域,具体是指一种电子加速器静态辐照水冷型支架。


背景技术:



2.目前电子加速器辐照加工宝石等样品,主要是将宝石放置于冷却水板上加工,该冷却水板与宝石接触有限,散热一般,可能导致辐照处理的宝石因散热不均出现局部发黑的情况。


技术实现要素:



3.本发明要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足,而提供一种电子加速器静态辐照水冷型支架。
4.为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种电子加速器静态辐照水冷型支架,包括水箱,水箱内部连接有支撑件,支撑件上连接有水槽所述水槽两侧开设有溢流口与水箱内部连通,水槽内部放置有可调节高度的支撑架;所述支撑架表面位于溢流口的下方;所述水槽侧面连接有进水管向水槽内注入冷却水;所述水箱底部一侧连接有出水管向外侧排出冷却水。
5.进一步的,所述支撑架采用金属丝网,金属丝网两侧经过弯折后形成支撑脚放置在水槽内,支撑架高度通过改变弯折支撑脚的高度进行调整。
6.进一步的,所述支撑架表面覆盖有盖板,盖板采用与支撑架规格相同的金属丝网。
7.进一步的,所述支撑件为两根支撑条,支撑条对称设置在水箱内部。
8.进一步的,所述进水管和出水管向水箱外侧延伸,延伸部分的长度不低于10cm。
9.与现有技术相比,本发明的一种电子加速器静态辐照水冷型支架,样品浸泡在水槽中,达到良好的冷却效果,并且通过改变支撑架的高度控制样品上方与水面的高度差,在单一能量的电子加速器设备上达到不同的变效果。
附图说明
10.图1是本发明的结构示意图;图2是本发明外部的结构示意图;其中,1、水箱,2、支撑件,3、水槽,4、支撑架,5、盖板,6、进水管,7、出水管。
具体实施方式
11.下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
12.如图1和图2所示,一种电子加速器静态辐照水冷型支架,包括水箱1,水箱1由不锈钢钣金加工而成,水箱内部长度为20-150cm,根据电子加速器的扫描宽度确定,如扫描宽度为100cm,则水箱内部长度优选为100-120cm,水箱宽度为10-80cm,根据其内部水槽大小确定,一般设置为40-70cm;所述水箱1内部连接有支撑件2,支撑件2为两根不锈钢支撑条,不
锈钢支撑条对称设置在水箱1内部;所述支撑件2上连接有水槽3,水槽3也是由不锈钢钣金加工而成,水槽长度为30-80cm,宽度为10-20cm,高度为3-6cm;所述水槽3两侧开设有溢流口与水箱1内部连通,通过溢流口排放冷却水。
13.所述水槽3内部放置有可调节高度的支撑架4,支撑架4表面位于溢流口的下方,通过改变支撑架4高度,调整支撑架4上方样品与水面的高度差,实现辐照时样品不同的变效果;在本实施例中,支撑架4采用金属丝网,金属丝网两侧经过弯折后形成支撑脚放置在水槽3内,支撑架4高度通过改变弯折支撑脚的高度进行调整,同时在支撑架4表面覆盖有盖板5,利用盖板5自身的重力压住支撑架4表面的样品,以防止水流冲击影响样品;所述盖板5采用与支撑架4规格相同的金属丝网,使电子加速器的电子束能够穿透盖板5。
14.所述水槽3侧面连接有进水管6向水槽3内注入冷却水;所述水箱1底部一侧连接有出水管7向外侧排出冷却水,进水管6和出水管7均采用不锈钢水管,由于电子束在扫描时具有向外散射的现象,为减少电子束辐照,进水管6和出水管7向水箱1外侧延伸,延伸部分的长度不低于10cm。
15.辐照加工时,宝石等样品至于支撑架4表面,由盖板5覆盖固定样品,进水管6通入冷却水后,水槽3正常从出水口溢出冷水,并且待外部水箱1中水位稳定后,开始进行辐照处理,按照不同的工艺要求,调节支撑架4的高度,控制样品上方水面深度,达到样品不同的变效果。
16.本发明并不局限于所述的实施例,本领域的技术人员在不脱离本发明的精神即公开范围内,仍可作一些修正或改变,故本发明的权利保护范围以权利要求书限定的范围为准。


技术特征:


1.一种电子加速器静态辐照水冷型支架,其特征在于:包括水箱,水箱内部连接有支撑件,支撑件上连接有水槽;所述水槽两侧开设有溢流口与水箱内部连通,水槽内部放置有可调节高度的支撑架;所述支撑架表面位于溢流口的下方;所述水槽侧面连接有进水管向水槽内注入冷却水;所述水箱底部一侧连接有出水管向外侧排出冷却水。2.根据权利要求1所述的一种电子加速器静态辐照水冷型支架,其特征在于:所述支撑架采用金属丝网,金属丝网两侧经过弯折后形成支撑脚放置在水槽内,支撑架高度通过改变弯折支撑脚的高度进行调整。3.根据权利要求2所述的一种电子加速器静态辐照水冷型支架,其特征在于:所述支撑架表面覆盖有盖板,盖板采用与支撑架规格相同的金属丝网。4.根据权利要求1所述的一种电子加速器静态辐照水冷型支架,其特征在于:所述支撑件为两根支撑条,支撑条对称设置在水箱内部。5.根据权利要求1所述的一种电子加速器静态辐照水冷型支架,其特征在于:所述进水管和出水管向水箱外侧延伸,延伸部分的长度不低于10cm。

技术总结


一种电子加速器静态辐照水冷型支架,包括水箱,水箱内部连接有支撑件,支撑件上连接有水槽;所述水槽两侧开设有溢流口与水箱内部连通,水槽内部放置有可调节高度的支撑架;所述支撑架表面位于溢流口的下方;所述水槽侧面连接有进水管向水槽内注入冷却水;所述水箱底部一侧连接有出水管向外侧排出冷却水。与现有技术相比,本发明的一种电子加速器静态辐照水冷型支架,样品浸泡在水槽中,达到良好的冷却效果,并且通过改变支撑架的高度控制样品上方与水面的高度差,在单一能量的电子加速器设备上达到不同的变效果。达到不同的变效果。达到不同的变效果。


技术研发人员:

王千宇 邵晓 左都文

受保护的技术使用者:

中广核辐照技术有限公司

技术研发日:

2022.06.13

技术公布日:

2022/11/8

本文发布于:2024-09-23 17:22:21,感谢您对本站的认可!

本文链接:https://www.17tex.com/tex/2/32387.html

版权声明:本站内容均来自互联网,仅供演示用,请勿用于商业和其他非法用途。如果侵犯了您的权益请与我们联系,我们将在24小时内删除。

标签:支撑架   水槽   所述   水箱
留言与评论(共有 0 条评论)
   
验证码:
Copyright ©2019-2024 Comsenz Inc.Powered by © 易纺专利技术学习网 豫ICP备2022007602号 豫公网安备41160202000603 站长QQ:729038198 关于我们 投诉建议