一种反应釜旋转清洗设备的制作方法

1.本实用新型涉及反应釜技术领域，具体为一种反应釜旋转清洗设备。

背景技术：

2.反应釜的广义理解即有物理或化学反应的容器，通过对容器的结构设计与参数配置，实现工艺要求的加热、蒸发、冷却及低高速的混配功能。反应釜在使用后，反应釜的内壁上会粘连物料，积垢的反应釜对产品质量的影响很大，因此该类设备的清洁是很重要的。现有技术中反应釜一般通过搭配的冲洗头进行喷洒冲洗，清洗效率不高，很难将反应釜的内壁上物料清理干净。

技术实现要素：

3.本实用新型所解决的技术问题在于提供一种反应釜旋转清洗设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
4.本实用新型所解决的技术问题采用以下技术方案来实现：一种反应釜旋转清洗设备，包括罐体及设置在罐体上的旋转机构、驱动旋转机构在罐体上升降移动的升降座、安装在罐体上端的喷淋组件，所述罐体的侧壁围绕成圆台形状，所述旋转机构包括旋转轴及驱动旋转轴转动的电机、安装在旋转轴下端的刮料件和搅拌件，所述电机安装在升降座的上端，并通过升降座控制电机和旋转轴的升降，所述刮料件包括沿旋转轴螺旋设置的刮板，刮板分别通过支板与旋转轴固定连接，旋转轴带动刮板上升，刮板外侧与罐体内壁贴合，以将罐体内壁的污垢清理掉。
5.作为本实用新型进一步方案：所述喷淋组件包括固定安装在罐体上端的加注管及内置安装在罐体上端的喷洒管，所述喷洒管与加注管固定连接，喷洒管为弧形结构，喷洒管的下端分布设有喷射嘴，以对罐体内部进行喷射清洗。
6.作为本实用新型进一步方案：所述升降座包括底板及环形分布安装在底板外端侧的液压缸和导杆，所述液压缸中的顶杆与电机底部固定连接，从而控制电机升降调节，所述导杆竖向设置，电机的下端对应导杆设有相应的滑套，电机通过滑套套设在导杆上，以对电机进行限位。
7.作为本实用新型进一步方案：所述罐体内腔上端设有对旋转轴进行限位的支架，所述支架为y型结构，支架的一侧固定安装在罐体的内壁上，支架的中间对应旋转轴设有轴套，轴套套设在旋转轴外端，以对旋转轴进行限位，防止旋转轴倾斜。
8.作为本实用新型进一步方案：所述搅拌件安装在旋转轴的底部，搅拌件包括搅拌套及环形分布设置在搅拌套外端的搅拌叶，用于提高搅拌效果。
9.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：反应釜清洗时，喷淋组件利用喷射嘴对罐体内部进行喷射清洗，液压缸抬升起电机和旋转轴，使刮板贴设于罐体的内壁，电机带动旋转轴转动，刮板转动对罐体的内壁进行刮擦，以清理掉粘连的物料，提高罐体清理的干净度，提高清洗效率。反应釜使用时，刮板和搅拌叶片同时对物料进行搅拌，提高搅拌效率。
附图说明
10.图1为本实用新型的结构示意图；
11.图2为本实用新型的支架结构示意图；
12.图3为本实用新型的喷淋组件结构示意图；
13.图中标识：1、罐体；2、电机；3、加注管；4、底板；21、旋转轴；22、刮板；23、支板；24、支架；25、轴套；26、搅拌套；27、搅拌叶；31、喷洒管；32、喷射嘴；41、液压缸；42、导杆；43、滑套。
具体实施方式
14.为了使本实用新型的实现技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本实用新型。
15.如图1～3所示，
16.本实施例提供了一种反应釜旋转清洗设备，包括罐体1及设置在罐体1上的旋转机构、驱动旋转机构在罐体1上升降移动的升降座、安装在罐体1上端的喷淋组件，所述罐体1的侧壁围绕成圆台形状，所述旋转机构包括旋转轴21及驱动旋转轴21转动的电机2、安装在旋转轴21下端的刮料件和搅拌件，所述电机2安装在升降座的上端，并通过升降座控制电机2和旋转轴21的升降，所述刮料件包括沿旋转轴21螺旋设置的刮板22，刮板22分别通过支板23与旋转轴21固定连接，旋转轴21带动刮板22上升，刮板22外侧与罐体1内壁贴合，以将罐体1内壁的污垢清理掉。
17.具体的，刮板22与罐体1的倾斜面配合设置，升降座带动电机2和旋转轴21上升，刮板22上升后与罐体1的内壁贴合设置，刮板22旋转将罐体1的内壁上的污垢刮除干净，升降座控制电机2和旋转轴21下降，刮板22与罐体1的内壁分离，刮板22用于提高反应釜的搅拌效率。
18.本实施例，喷淋组件包括固定安装在罐体上端的加注管3及内置安装在罐体1上端的喷洒管31，所述喷洒管31与加注管3固定连接，喷洒管31为弧形结构，喷洒管31的下端分布设有喷射嘴32，以对罐体1内部进行喷射清洗。
19.本实施例，升降座包括底板4及环形分布安装在底板4外端侧的液压缸41和导杆42，所述液压缸41中的顶杆与电机2底部固定连接，从而控制电机2升降调节，所述导杆42竖向设置，电机2的下端对应导杆42设有相应的滑套43，电机2通过滑套43套设在导杆42上，以对电机2进行限位。
20.本实施例，罐体1内腔上端设有对旋转轴21进行限位的支架24，所述支架24为y型结构，支架24的一侧固定安装在罐体1的内壁上，支架24的中间对应旋转轴21设有轴套25，轴套25套设在旋转轴21外端，以对旋转轴21进行限位，防止旋转轴21倾斜。
21.本实施例，搅拌件安装在旋转轴21的底部，搅拌件包括搅拌套26及环形分布设置在搅拌套26外端的搅拌叶27，用于提高搅拌效果。
22.具体的，反应釜清洗时，喷淋组件利用喷射嘴32对罐体1内部进行喷射清洗，液压缸41抬升起电机2和旋转轴21，使刮板22贴设于罐体1的内壁，电机2带动旋转轴21转动，刮板22转动对罐体1的内壁进行刮擦，以清理掉粘连的物料，提高罐体1清理的干净度，提高清洗效率。反应釜使用时，刮板22和搅拌叶27片同时对物料进行搅拌，提高搅拌效率。
23.以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型的要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。需要说明的是，在本文中，如若存在第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

技术特征：

1.一种反应釜旋转清洗设备，包括罐体及设置在罐体上的旋转机构、驱动旋转机构在罐体上升降移动的升降座、安装在罐体上端的喷淋组件，其特征在于：所述罐体的侧壁围绕成圆台形状，所述旋转机构包括旋转轴及驱动旋转轴转动的电机、安装在旋转轴下端的刮料件和搅拌件，所述电机安装在升降座的上端，并通过升降座控制电机和旋转轴的升降，所述刮料件包括沿旋转轴螺旋设置的刮板，刮板分别通过支板与旋转轴固定连接，旋转轴带动刮板上升，刮板外侧与罐体内壁贴合，以将罐体内壁的污垢清理掉。2.根据权利要求1所述的一种反应釜旋转清洗设备，其特征在于：所述喷淋组件包括固定安装在罐体上端的加注管及内置安装在罐体上端的喷洒管，所述喷洒管与加注管固定连接，喷洒管为弧形结构，喷洒管的下端分布设有喷射嘴，以对罐体内部进行喷射清洗。3.根据权利要求1所述的一种反应釜旋转清洗设备，其特征在于：所述升降座包括底板及环形分布安装在底板外端侧的液压缸和导杆，所述液压缸中的顶杆与电机底部固定连接，从而控制电机升降调节，所述导杆竖向设置，电机的下端对应导杆设有相应的滑套，电机通过滑套套设在导杆上。4.根据权利要求3所述的一种反应釜旋转清洗设备，其特征在于：所述罐体内腔上端设有对旋转轴进行限位的支架，所述支架为y型结构，支架的一侧固定安装在罐体的内壁上，支架的中间对应旋转轴设有轴套，轴套套设在旋转轴外端，以对旋转轴进行限位，防止旋转轴倾斜。5.根据权利要求4所述的一种反应釜旋转清洗设备，其特征在于：所述搅拌件安装在旋转轴的底部，搅拌件包括搅拌套及环形分布设置在搅拌套外端的搅拌叶，用于提高搅拌效果。

技术总结

本实用新型提供一种反应釜旋转清洗设备，包括罐体及设置在罐体上的旋转机构、驱动旋转机构在罐体上升降移动的升降座、安装在罐体上端的喷淋组件，所述罐体的侧壁围绕成圆台形状，所述旋转机构包括旋转轴及驱动旋转轴转动的电机、安装在旋转轴下端的刮料件和搅拌件。反应釜清洗时，喷淋组件利用喷射嘴对罐体内部进行喷射清洗，液压缸抬升起电机和旋转轴，使刮板贴设于罐体的内壁，电机带动旋转轴转动，刮板转动对罐体的内壁进行刮擦，以清理掉粘连的物料，提高罐体清理的干净度，提高清洗效率。反应釜使用时，刮板和搅拌叶片同时对物料进行搅拌，提高搅拌效率。提高搅拌效率。提高搅拌效率。