离子刻蚀是一种利用离子轰击材料表面去除材料的工艺。其基本工作原理可以归纳为以下几个步骤: 1.流程准备:将待加工的衬底放置在真空室中,并加入刻蚀气体。刻蚀气体可以根据材料的不同而不同,但通常是氟化物(如CF4、SF6等)。
2.气体离子化:在真空室中加入高电压电极,产生电弧放电,将刻蚀气体离子化,使其变成等离子体。
芯模3.离子轰击:等离子体中的氟离子被电场加速并轰击到衬底表面,将材料表面的分子和原子剥离。
4.物质移除:被离子轰击的材料分子和原子在离子的作用下散布到空气中,从而去除掉材料表面。
微型拉曼光谱仪5.衬底清洗:清洗后再次进行刻蚀。双联齿轮油泵
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汽车阻尼板通过不断地重复以上步骤,可以逐渐将材料表面剥离,形成所需的图形或结构。离子刻蚀工艺可以精确控制加工深度、形状和尺寸,并且可以在微米甚至纳米级别进行加工,因此在微电子、光电子等领域被广泛应用。