靶材升降装置及真空镀膜设备的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种靶材升降装置及真空镀膜设备。

背景技术：

2.靶材作为真空镀膜过程中不可或缺的材料，在作业时需要暴露在真空镀膜室的环境中。但由于在镀膜过程中可能存在多种靶材，以两种材料的靶材为例，当其中一种靶材进行镀膜作业时，另一种靶材需要通过挡板等结构进行封闭，从而降低为刻蚀靶材受污染的风险。
3.但现有的真空镀膜设备中，无论是在刻蚀阶段还是在镀膜阶段，靶材仍始终位于真空镀膜室内，因此，便容易导致靶材吸收其他材料造成靶材中毒的问题，从而影响镀膜效果，甚至无法继续进行镀膜作业。
4.现阶段对于上述问题大多采用完成一次作业后进行洗靶操作，不仅极大的造成靶材的浪费，而且耗时费力。
5.因此，急需提供一种靶材升降装置及真空镀膜设备，以在一定程度上解决现有技术中存在的问题。

技术实现要素：

6.本实用新型的目的在于提供一种靶材升降装置及真空镀膜设备，以在一定程度上解决靶材在刻蚀及镀膜过程中容易吸收其他材料造成中毒，影响镀膜效果甚至无法继续进行镀膜作业的技术问题。
7.本实用新型提供的一种靶材升降装置，用于真空镀膜设备，包括驱动机构、移动板以及靶材机构；所述驱动机构的一端与所述真空镀膜设备中的真空镀膜室相连接，另一端为伸缩端，且所述伸缩端与所述移动板相连接；所述靶材机构的一端与所述移动板相连接，另一端穿过所述真空镀膜室的外壁面进入所述真空镀膜室内，所述驱动机构能够驱动所述移动板向接近或远离所述真空镀膜室的方向移动，以使所述靶材机构能够进入或脱离所述真空镀膜室。
8.其中，所述靶材机构包括定位套筒、连接套筒、靶轴以及冷却件；所述连接套筒的一端位于所述定位套筒内，且所述连接套筒能够相对所述定位套筒移动，并进入或伸出所述定位套筒，所述连接套筒的另一端与所述移动板相连接；所述靶轴位于所述连接套筒内，且所述靶轴与所述连接套筒相连接，以跟随所述连接套筒移动，所述冷却件设置于所述靶轴内。
9.具体地，所述靶材机构还包括磁场组件，所述磁场组件与所述连接套筒远离所述定位套筒的一端相连接。
10.进一步地，所述连接套筒与所述定位套筒之间设有密封组件，所述密封组件包括油封隔套和密封压盖；所述油封隔套套设于所述连接套筒的外部，且位于所述连接套筒与
所述定位套筒之间，所述密封压盖环绕于所述定位套筒远离所述真空镀膜设备的一端，以对所述油封隔套进行限位。
11.进一步地，所述靶轴远离所述移动板的一端设有封堵座，所述真空镀膜室上形成有穿孔，所述靶轴通过所述穿孔进入或脱离所述真空镀膜室；当所述靶轴全部脱离所述真空镀膜室时，所述封堵座封堵所述穿孔。
12.其中，本实用新型提供的靶材升降装置，还包括导轨，所述导轨沿所述连接套筒的延伸方向延伸，所述移动板的一端与所述连接套筒相连接，另一端与所述导轨滑动连接。
13.具体地，所述移动板对应所述导轨的位置设有滑动座套，所述滑动座套套设于所述导轨上，且所述滑动座套与所述移动板相连接。
14.进一步地，本实用新型提供的靶材升降装置，还包括下安装板，所述导轨的一端与所述下安装板相连接，所述定位套筒远离所述移动板的一端与所述下安装板相连接；所述下安装板与所述真空镀膜室的外壁面之间设有安装柱，所述下安装板与所述安装柱相连接。
15.更进一步地，本实用新型提供的靶材升降装置，还包括上安装板，所述导轨的数量为多个，且多个所述导轨均沿所述连接套筒的延伸方向延伸，并沿所述靶材机构的周向间隔分布；多个所述导轨的一端均与所述下安装板相连接，另一端均与所述上安装板相连接。
16.相对于现有技术，本实用新型提供的靶材升降装置具有以下优势：
17.本实用新型提供的靶材升降装置，用于真空镀膜设备，包括驱动机构、移动板以及靶材机构；驱动机构的一端与真空镀膜设备中的真空镀膜室相连接，另一端为伸缩端，且伸缩端与移动板相连接；靶材机构的一端与移动板相连接，另一端穿过真空镀膜室的外壁面进入真空镀膜室内，驱动机构能够驱动移动板向接近或远离真空镀膜室的方向移动，以使靶材机构能够进入或脱离真空镀膜室。
18.由此分析可知，通过使驱动机构的伸缩端与移动板相连接，并将靶材机构的一端与移动板相连接，从而当驱动机构驱动移动板运动时，能够带动靶材机构运动。
19.由于本技术中靶材机构的另一端能够穿过真空镀膜设备的外壁面进入真空镀膜设备，因此，在靶材机构跟随移动板运动的过程中能够使靶材机构远离移动板的一端进入或脱离真空镀膜室，从而能够将靶材送入或抽出真空镀膜室，进而在非镀膜阶段能够避免对应靶材受到污染的问题，使一次镀膜作业结束后无需在进行洗靶的操作，降低靶材浪费，并提高作业效率。
20.此外，本实用新型还提供一种真空镀膜设备，包括真空镀膜室以及上述的靶材升降装置；所述靶材升降装置沿竖直方向设置于所述真空镀膜室的顶壁。
21.通过采用本技术提供的靶材升降装置，在非镀膜阶段能够将靶材抽离真空镀膜室，从而降低靶材中毒的风险，并且，为降低整体真空镀膜设备的空间占用，本技术提供的靶材升降装置沿竖直方向延伸，并设置在真空镀膜室的顶壁。
附图说明
22.为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性
劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
23.图1为本实用新型实施例提供的靶材升降装置的结构示意图；
24.图2为本实用新型实施例提供的靶材升降装置中坦克链的结构示意图。
25.图中：1-驱动机构；101-连接座；2-移动板；201-滑动座套；3-定位套筒；4-连接套筒；5-靶轴；6-冷却件；7-密封压盖；8-油封隔套；9-封堵座；10-安装柱；11-下安装板；12-导轨；13-上安装板；14-坦克链。
具体实施方式
26.为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本技术的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施例。基于本技术的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
27.在本技术实施例的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
28.此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。
29.在本技术实施例的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“连通”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
30.如在此所使用的，术语“和/或”包括所列出的相关项中的任何一项和任何两项或更多项的任何组合。
31.为了易于描述，在这里可使用诸如“在
……
之上”、“上部”、“在
……
之下”和“下部”的空间关系术语，以描述如附图所示的一个元件与另一元件的关系。这样的空间关系术语意图除了包含在附图中所描绘的方位之外，还包含装置在使用或操作中的不同方位。
32.在此使用的术语仅用于描述各种示例，并非用于限制本公开。除非上下文另外清楚地指明，否则单数的形式也意图包括复数的形式。术语“包括”、“包含”和“具有”列举存在的所陈述的特征、数量、操作、构件、元件和/或它们的组合，但不排除存在或添加一个或更多个其他特征、数量、操作、构件、元件和/或它们的组合。
33.由于制造技术和/或公差，可出现附图中所示的形状的变化。因此，这里所描述的
示例不限于附图中所示的特定形状，而是包括在制造期间出现的形状上的改变。
34.这里所描述的示例的特征可按照在理解本技术的公开内容之后将是显而易见的各种方式进行组合。此外，尽管这里所描述的示例具有各种各样的构造，但是如在理解本技术的公开内容之后将显而易见的，其他构造是可能。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本技术要求的保护范围之内。
35.如图1所示，本实用新型提供一种靶材升降装置，用于真空镀膜设备，包括驱动机构1、移动板2以及靶材机构；驱动机构1的一端与真空镀膜设备相连接，另一端为伸缩端，且伸缩端与移动板2相连接；靶材机构的一端与移动板2相连接，另一端穿过真空镀膜设备的外壁面进入真空镀膜设备的真空镀膜室内，驱动机构1能够驱动移动板2向接近或远离真空镀膜设备的方向移动，以使靶材机构能够进入或脱离真空镀膜室。
36.相对于现有技术，本实用新型提供的靶材升降装置具有以下优势：
37.本实用新型提供的靶材升降装置，用于真空镀膜设备，包括驱动机构1、移动板2以及靶材机构；驱动机构1的一端与真空镀膜设备相连接，另一端为伸缩端，且伸缩端与移动板2相连接；靶材机构的一端与移动板2相连接，另一端穿过真空镀膜设备的外壁面进入真空镀膜设备的真空镀膜室内，驱动机构1能够驱动移动板2向接近或远离真空镀膜设备的方向移动，以使靶材机构能够进入或脱离真空镀膜室。
38.由此分析可知，通过使驱动机构1的伸缩端与移动板2相连接，并将靶材机构的一端与移动板2相连接，从而当驱动机构1驱动移动板2运动时，能够带动靶材机构运动。
39.由于本技术中靶材机构的另一端能够穿过真空镀膜设备的外壁面进入真空镀膜设备，因此，在靶材机构跟随移动板2运动的过程中能够使靶材机构远离移动板2的一端进入或脱离真空镀膜室，从而能够将靶材送入或抽出真空镀膜室，进而在非镀膜阶段能够避免对应靶材受到污染的问题，使一次镀膜作业结束后无需在进行洗靶的操作，降低靶材浪费，并提高作业效率。
40.此处需要补充说明的是，优选地，本技术中的驱动机构1为气缸，且气缸的定位端与真空镀膜设备相连接，伸缩端与移动板2相连接，从而能够驱动移动板2向接近或远离真空镀膜设备的方向移动。
41.优选地，如图1所示，本技术中驱动机构1的伸缩端连接有连接座101，连接座101与移动板2相连接，从而能够增加驱动机构1与移动板2之间的连接面积，使驱动机构1能够更好地与移动板2相连接。
42.可选地，如图1所示，本技术中的靶材机构包括定位套筒3、连接套筒4、靶轴5以及冷却件6；连接套筒4的一端位于定位套筒3内，且连接套筒4能够相对定位套筒3移动，并进入或伸出定位套筒3，连接套筒4的另一端与移动板2相连接；靶轴5位于连接套筒4内，且靶轴5与连接套筒4相连接，以跟随连接套筒4移动，冷却件6设置于靶轴5内。
43.本技术中靶材与靶轴5远离移动板2的一端相连接，当驱动机构1驱动移动板2向接近真空镀膜设备移动时，连接套筒4逐渐插入定位套筒3中，从而使连接套筒4内的靶轴5能够跟随连接套筒4向接近真空镀膜设备的方向移动，进而能够实现靶材进入真空镀膜室内。
44.而在镀膜过程中需要对靶材以及相应结构进行冷却，因此，本技术中的靶轴5为中
空结构，冷却件6设置于靶轴5内，从而能够对靶材机构进行冷却。优选地，本技术中的冷却件6为进水管，且如图2所示，本技术中移动板2上还连接有坦克链14，进水管设置于坦克链14内，当移动板2移动时，坦克链14能够根据具体移动行程跟随移动板2移动，并且，由于坦克链14的结构规整不易变形，因此，能够对软质的进水管进行保护和限位，避免进水管与其他结构产生缠绕等问题。
45.为能够实现靶材伸入或抽出真空镀膜室，本技术中真空镀膜室对应定位套筒3的位置必然存在穿孔，使真空镀膜室与定位套筒3相连通。
46.但由于在镀膜过程中需要处于真空状态，而连接套筒4需要能够相对定位套筒3移动，因此，为保证定位套筒3与连接套筒4之间的密封度，如图1所示，本技术中连接套筒4与定位套筒3之间设有密封组件，且本技术中的密封组件包括油封隔套8和密封压盖7；油封隔套8套设于连接套筒4的外部，且位于连接套筒4与定位套筒3之间，密封压盖7环绕于定位套筒3远离真空镀膜设备的一端，以对油封隔套8进行限位。
47.通过密封压盖7一方面能够对定位套筒3的端部进行密封，增加连接套筒4与定位套筒3之间的密封度，另一方面，能够对位于连接套筒4与定位套筒3之间的油封隔套8进行限位，避免在连接套筒4相对定位套筒3移动时，油封隔套8脱出定位套筒3的问题。
48.可以理解的是，如图1所示，本技术中的靶材机构还包括磁场组件，磁场组件与连接套筒4远离定位套筒3的一端相连接。
49.通过磁场组件能够使靶材在镀膜时产生离子并附着在待镀膜工件上形成膜层。而由于本技术中的磁场组件与连接套筒4远离定位套筒3的一端相连接，因此，能够跟随连接套筒4同时移动，为靶材提供稳定磁场。
50.可以理解的是，如图1所示，本技术中靶轴5远离移动板2的一端设有封堵座9，真空镀膜室上形成有穿孔，靶轴5通过穿孔进入或脱离真空镀膜室；当靶轴5全部脱离真空镀膜室时，封堵座9封堵穿孔。
51.通过在靶轴5远离移动板2的一端设置封堵座9，一方面能够避免真空镀膜室内的其他靶材离子进入到定位套筒3中污染靶材，另一方面，由于封堵座9能够封堵在穿孔内，因此，能够阻隔定位套筒3与真空镀膜室，从而能够在一定程度上保证真空镀膜室内的真空度。
52.优选地，如图1所示，本实用新型提供的靶材升降装置，还包括导轨12，导轨12沿连接套筒4的延伸方向延伸，移动板2的一端与连接套筒4相连接，另一端与导轨12滑动连接。
53.由于靶材进入和伸出真空镀膜室的行程较长，因此，为避免在移动过程中连接套筒4产生晃动，本技术通过设置导轨12，并使移动板2与导轨12相连接，从而能够将导轨12、移动板2以及连接套筒4相连接，进而在驱动机构1驱动连接套筒4移动的过程中，导轨12能够起到限位以及导向的作用，避免连接套筒4产生晃动或偏移的问题。
54.进一步优选地，如图1所示，本技术中的移动板2对应导轨12的位置设有滑动座套201，滑动座套201套设于导轨12上，且滑动座套201与移动板2相连接。
55.通过在移动板2上设置的滑动座套201能够更好地与导轨12相配合，并且，通过设置的滑动座套201能够降低移动板2移动时产生的摩擦力，从而降低能耗。
56.如图1所示，本实用新型提供的靶材升降装置，还包括下安装板11，导轨12的一端与下安装板11相连接，定位套筒3远离移动板2的一端与下安装板11相连接；下安装板11与
真空镀膜室的外壁面之间设有安装柱10，下安装板11与安装柱10相连接。
57.通过本技术设置的下安装板11，能够为导轨12、驱动机构1以及定位套筒3提供稳定的安装空间，并且不会破坏真空镀膜室的顶壁结构，提高整体设备的结构强度。
58.相应地，由于本技术中导轨12以及驱动机构1均需要与真空镀膜室的顶壁之间保持一定间隔，因此，本技术通过在下安装板11与真空镀膜室的顶壁之间设置安装柱10，能够实现下安装板11与真空镀膜室的顶壁之间的间隔设置，从而能够为导轨12以及驱动机构1的设置提供充足的空间。
59.此处需要补充说明的是，本实用新型提供的靶材升降装置，还包括上安装板13，导轨12的数量为多个，且多个导轨12均沿连接套筒4的延伸方向延伸，并沿靶材机构的周向间隔分布；多个导轨12的一端均与下安装板11相连接，另一端均与上安装板13相连接。
60.可以理解的是，由于在镀膜过程中采用的同种材料靶材的数量均为偶数个，通常为两个，因此，本技术图1中示出的仅为整体靶材升降装置的局部结构示意图，在实际使用时，驱动机构1的两侧均设有靶材机构，且通过一个驱动机构1进行驱动。而为保证两侧的靶材机构在运动时的稳定，相应地，本技术中的导轨12的数量为多个，且优选地，导轨12的数量为四个，并通过上安装板13和下安装板11进行限位，从而能够为移动板2提供稳定的移动轨道，避免与移动板2相连接的靶材机构在移动过程中产生晃动的问题。
61.此外，本实用新型还提供一种真空镀膜设备，包括真空镀膜室以及上述的靶材升降装置；靶材升降装置沿竖直方向设置于真空镀膜室的顶壁。
62.通过采用本技术提供的靶材升降装置，在非镀膜阶段能够将靶材抽离真空镀膜室，从而降低靶材中毒的风险，并且，为降低整体真空镀膜设备的空间占用，本技术提供的靶材升降装置沿竖直方向延伸，并设置在真空镀膜室的顶壁。
63.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种靶材升降装置，用于真空镀膜设备，其特征在于，包括驱动机构、移动板以及靶材机构；所述驱动机构的一端与所述真空镀膜设备中的真空镀膜室相连接，另一端为伸缩端，且所述伸缩端与所述移动板相连接；所述靶材机构的一端与所述移动板相连接，另一端穿过所述真空镀膜室的外壁面进入所述真空镀膜室内，所述驱动机构能够驱动所述移动板向接近或远离所述真空镀膜室的方向移动，以使所述靶材机构能够进入或脱离所述真空镀膜室。2.根据权利要求1所述的靶材升降装置，其特征在于，所述靶材机构包括定位套筒、连接套筒、靶轴以及冷却件；所述连接套筒的一端位于所述定位套筒内，且所述连接套筒能够相对所述定位套筒移动，并进入或伸出所述定位套筒，所述连接套筒的另一端与所述移动板相连接；所述靶轴位于所述连接套筒内，且所述靶轴与所述连接套筒相连接，以跟随所述连接套筒移动，所述冷却件设置于所述靶轴内。3.根据权利要求2所述的靶材升降装置，其特征在于，所述靶材机构还包括磁场组件，所述磁场组件与所述连接套筒远离定位套筒的一端相连接。4.根据权利要求2所述的靶材升降装置，其特征在于，所述连接套筒与所述定位套筒之间设有密封组件，所述密封组件包括油封隔套和密封压盖；所述油封隔套套设于所述连接套筒的外部，且位于所述连接套筒与所述定位套筒之间，所述密封压盖环绕于所述定位套筒远离所述真空镀膜设备的一端，以对所述油封隔套进行限位。5.根据权利要求2所述的靶材升降装置，其特征在于，所述靶轴远离所述移动板的一端设有封堵座，所述真空镀膜室上形成有穿孔，所述靶轴通过所述穿孔进入或脱离所述真空镀膜室；当所述靶轴全部脱离所述真空镀膜室时，所述封堵座封堵所述穿孔。6.根据权利要求2所述的靶材升降装置，其特征在于，还包括导轨，所述导轨沿所述连接套筒的延伸方向延伸，所述移动板的一端与所述连接套筒相连接，另一端与所述导轨滑动连接。7.根据权利要求6所述的靶材升降装置，其特征在于，所述移动板对应所述导轨的位置设有滑动座套，所述滑动座套套设于所述导轨上，且所述滑动座套与所述移动板相连接。8.根据权利要求6所述的靶材升降装置，其特征在于，还包括下安装板，所述导轨的一端与所述下安装板相连接，所述定位套筒远离所述移动板的一端与所述下安装板相连接；所述下安装板与所述真空镀膜室的外壁面之间设有安装柱，所述下安装板与所述安装柱相连接。9.根据权利要求8所述的靶材升降装置，其特征在于，还包括上安装板，所述导轨的数量为多个，且多个所述导轨均沿所述连接套筒的延伸方向延伸，并沿所述靶材机构的周向间隔分布；多个所述导轨的一端均与所述下安装板相连接，另一端均与所述上安装板相连接。10.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括真空镀膜室以及上述权利要求1-9中任一项所述的靶材升降装置；
所述靶材升降装置沿竖直方向设置于所述真空镀膜室的顶壁。

技术总结

本实用新型提供的一种靶材升降装置及真空镀膜设备，其中靶材升降装置包括驱动机构、移动板以及靶材机构；驱动机构的一端与真空镀膜设备中的真空镀膜室相连接，另一端为伸缩端，且伸缩端与移动板相连接；靶材机构的一端与移动板相连接，另一端穿过真空镀膜室的外壁面进入真空镀膜室内，驱动机构能够驱动移动板向接近或远离真空镀膜室的方向移动，以使靶材机构能够进入或脱离真空镀膜室。通过驱动机构驱动移动板向接近或远离真空镀膜室的方向移动，从而能够带动靶材机构运动，使磁控溅射靶远离移动板的一端能够进入或脱离真空镀膜室，进而能够避免在非作业过程中靶材位于真空镀膜室内受到污染的问题。膜室内受到污染的问题。膜室内受到污染的问题。