光学材料、光学产品及其制造方法与流程

1.本发明涉及一种光学材料、光学产品及其制造方法，且特别涉及一种可至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线的光学材料、光学产品及其制造方法。

背景技术：

2.一般而言，自然光源(如太阳光)或其他电子装置的光源(如电脑或手机萤幕的led光源)容易造成人类眼部的伤害，尤其是造成白内障及黄斑部病变等产生视力退化的眼部疾病。在上述光源中，对人类眼部伤害较大的光波段包含长波紫外光(uva)及近紫外光(uvb)，此二光波段涵盖了280奈米至380奈米的波长范围。进一步而言，上述紫外光已知会经由产生光学产品及视网膜的化学变化对于眼部造成伤害。因此，为了降低紫外光对于眼部所造成的伤害，如何提供使用者更为良好的光学产品，即成为本发明在此欲探讨之一重要课题。

技术实现要素：

3.本发明提供一种光学材料、光学产品及其制造方法，其可以提升对于眼部的保护能力。
4.本发明的一种用于制作光学产品的光学材料，包括经二氧化钛表面改质而成的抗光材料，以使所述光学产品至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线。
5.在本发明的一实施例中，上述的抗光材料表面具有烯类官能基。
6.在本发明的一实施例中，上述的烯类官能基包括丙烯基。
7.在本发明的一实施例中，上述的抗光材料接枝在另一抗光材料上所形成。
8.一种光学产品，包括本体以及抗光层。抗光层形成于本体上。抗光层通过经二氧化钛表面改质而成的抗光材料所形成，以使光学产品至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线。
9.在本发明的一实施例中，上述的本体与抗光层之间通过烯类官能基键结。
10.在本发明的一实施例中，上述的烯类官能基包括丙烯基。
11.在本发明的一实施例中，上述的光学产品于波长介于280奈米至380奈米之间的光线的穿透率介于0.1％至50％之间。
12.在本发明的一实施例中，上述的抗光层使光学产品进一步抵抗波长介于380奈米至500奈米之间的光线。
13.在本发明的一实施例中，上述的光学产品于波长介于380奈米至500奈米之间的光线的穿透率小于70％。
14.在本发明的一实施例中，上述的抗光层之间形成于本体的表面。
15.在本发明的一实施例中，上述的抗光层形成于所述本体内。
16.在本发明的一实施例中，上述的抗光层与本体的边缘具有距离。
17.在本发明的一实施例中，上述的本体材料与抗光材料不相互掺杂。
18.一种光学产品的制造方法至少包括以下步骤。提供本体。形成抗光层于本体上，其中抗光层通过经二氧化钛表面改质而成的抗光材料所形成，以使光学产品至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线。
19.在本发明的一实施例中，上述的抗光层不使用混掺法所形成。
20.在本发明的一实施例中，上述的二氧化钛以缩合反应进行表面改质。
21.在本发明的一实施例中，上述的抗光层的形成步骤更包括提供包括抗光材料的溶液于本体上以及通过固化工艺以使本体与抗光材料之间产生烯类官能基键结。
22.在本发明的一实施例中，通过喷涂、浸泡、涂布或转印工艺提供上述的溶液。
23.在本发明的一实施例中，上述的烯类官能基包括丙烯基。
24.基于上述，本发明的光学材料导入了具有抗紫外光功效的二氧化钛，且表面改质可以增加光学材料与本体表面的键结能力，如此一来，可以提升光学材料与本体之间的附着性，增加两者之间的贴覆性，因此通过前述光学材料所制作出的光学产品可以有效抵抗紫外光波长波段(280奈米至380奈米)，进而降低紫外光对于眼部所造成的伤害，提升对于眼部的保护能力。
25.为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。
附图说明
26.图1a是依据本发明一实施例的光学产品的俯视示意图。
27.图1b是依据本发明一实施例的光学产品的剖面示意图。
28.图1c是依据本发明的一实施例的光学产品的穿透度与波长关系图。
29.图2是依据本发明一实施例的光学产品的流程图。
30.图3a至图3b是依据本发明一实施例的光学产品的制造方法的示意图。
31.图4、图5、图6、图7与图8是依据本发明一些实施例的光学产品的剖面示意图。
32.应说明的是，为清楚表示，图1a、图1b与图3a、图3b、图4、图5、图6、图7与图8中的构件并未依照实际大小比例绘示。
具体实施方式
33.现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同元件符号在图式和描述中用来表示相同或相似部分。
34.下文将会附加标号以对本发明较佳实施例进行详细描述，并以图式说明。在可能的情况下，图示为清楚表达会省略不必要的构件。
35.本文所使用之方向用语(例如，上、下、右、左、前、后、顶部、底部)仅作为参看所绘图式使用且不意欲暗示绝对定向。
36.图1a是依据本发明一实施例的光学产品的俯视示意图。图1b是依据本发明一实施例的光学产品的剖面示意图。图1c是依据本发明的一实施例的光学产品的穿透度与波长关系图。
37.请参考图1a至图1c，在本实施例中，光学产品100包括本体110以及抗光层120，其中抗光层120形成于本体110，且抗光层120通过光学材料所形成。在此，本实施例的光学产
品100可以是作为隐形眼镜的光学产品，或者，作为一般外戴式眼镜的光学产品，但本发明不限于此，在其他实施例中，光学产品可以作为其他类型的镜片、萤幕保护贴或其他适宜的光学产品。
38.进一步而言，光学材料可以包括经二氧化钛(tio2)表面改质而成的抗光材料，因此，通过前述光学材料所形成的抗光层120，可以使光学产品100至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线。据此，本实施例的光学材料导入了具有抗紫外光功效的二氧化钛，且表面改质可以增加光学材料与本体110表面的键结能力，如此一来，可以提升光学材料与本体之间的附着性，增加两者之间的贴覆性，因此通过前述光学材料所制作出的光学产品100可以有效抵抗紫外光波长波段(280奈米至380奈米)，进而降低紫外光对于眼部所造成的伤害，提升对于眼部的保护能力。在此，二氧化钛可以依据缩合反应或任何适宜的方式表面改质在抗光材料上。应说明的是，本发明对表面改质方式并不加以限制，可以视实际设计上的需求进行选择。
39.在本实施例中，如图1c所示，光学产品100于波长介于280奈米至380奈米之间的光线的穿透率介于0.1％至50％之间，因此本实施例的光学产品100确实可以有效抵抗紫外光波长波段(280奈米至380奈米)。在此的穿透率可以为波长介于280奈米至380奈米之间的光线的区段平均穿透率。
40.在一些实施例中，抗光材料表面具有烯类官能基，举例而言，烯类官能基包括丙烯基，因此本体110与抗光层120之间可以是通过前述烯类官能基键结，以提升抗光层120与本体110之间的键结能力，但本发明不限于此。
41.在一些实施例中，抗光材料接枝在另一抗光材料上所形成，举例而言，另一抗光材料可以由抗蓝光材料(抵抗波长介于380奈米至500奈米之间的光线)表面接枝前述抗光材料(抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线)，如此一来，抗光层120可以使光学产品100进一步抵抗波长介于380奈米至500奈米之间的光线，且如图1c所示，光学产品100于波长介于380奈米至500奈米之间的光线的穿透率可以小于70％(可以为波长介于380奈米至500奈米之间的光线的区段平均穿透率)，因此光学产品100不仅可以抵抗紫外光波段，还可以进一步抵抗蓝光波段，换句话说，光学产品100可以同时具有抗蓝光与抗紫外光的功能，进一步提升光学产品100对于眼部的保护能力。此外由于抗蓝光材料通常多为暗黄在产品应用上较不易被使用者接受，而加入二氧化钛的复合材料(抗蓝光材料与前述抗光材料)的颜可以由暗黄变为偏白，因此可以提升材料的接受度，但本发明不限于此。
42.在本实施例中，抗光层120可以形成于本体110的表面，举例而言，如图1b所示，抗光层120可以形成于本体110具有曲度的表面，且抗光层120可以内缩于本体110的表面，换句话说，抗光层120可以配置于本体110表面的中心区域，但本发明不限于此，在其他实施例中，抗光层120亦可依照实际设计上的需求设置于本体110上任意适宜的位置。
43.以下通过图式说明本发明一实施例的光学产品的主要流程。图2是依据本发明一实施例的光学产品的流程图。图3a至图3b是依据本发明一实施例的光学产品的制造方法的示意图。应说明的是，本发明不限于下述制造方法，只要可以将抗光层120形成于本体110，皆属于本发明的保护范围。
44.请参考图2，提供本体110(步骤s100)。接着，形成抗光层120于本体110(步骤s200)，其中抗光层120通过经二氧化钛表面改质而成的抗光材料所形成，以使通过上述方
法制作出来的光学产品100至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线，据此，本发明的光学材料导入了具有抗紫外光功效的二氧化钛，且表面改质可以增加光学材料与本体表面的键结能力，如此一来，可以提升光学材料与本体之间的附着性，增加两者之间的贴覆性，因此通过前述光学材料所制作出的光学产品可以有效抵抗紫外光波长波段(280奈米至380奈米)，进而降低紫外光对于眼部所造成的伤害，提升对于眼部的保护能力。
45.请参考图3a与图3b，进一步而言，由于使用混掺法抗光材料与本体之间会产生相容性不佳的问题，且混掺法的添加成本较高，因此本实施例的抗光层120可以不使用混掺法所形成(如本体110材料与抗光材料不相互掺杂)，且例如是通过下述步骤形成。首先，如图3a所示，提供包括抗光材料的溶液s于本体110上，举例而言，可以通过喷涂、浸泡、涂布或转印工艺提供溶液s。然后，如图3b所示，通过固化工艺(例如是通过照光装置10进行照射)以使本体110与抗光材料之间产生烯类官能基(如丙烯基)键结。因此通过本实施例的制造方法还可以进一步降低光学产品100的制作成本与解决混掺法中抗光材料与本体之间相容性不佳的问题，但本发明不限于此。
46.在此必须说明的是，以下实施例沿用上述实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同或近似的标号来表示相同或近似的元件，并且省略了相同技术内容的说明，关于省略部分的说明可参考前述实施例，下述实施例不再重复赘述。
47.图4、图5、图6、图7与图8是依据本发明一些实施例的光学产品的剖面示意图。
48.请参考图4，本实施例的光学产品200与前述实施例中的光学产品100的差异在于：本实施例的光学产品200的抗光层220形成于本体110内，换句话说，抗光层220与本体110的边缘110e具有距离，因此抗光层220可以例如是夹于本体110内。此外，在本实施例中，抗光层220可以是仅位于本体110内的中心区域，但本发明不限于此。在此，抗光层220可以是形成本体110的过程中以适宜的方式形成于本体110内。
49.请参考图5，本实施例的光学产品300与前述实施例中的光学产品100的差异在于：本实施例的光学产品300的本体310非为曲面镜片形状，可以依据光学产品的应用而具有其他适宜的形状，而抗光层320可以形成于本体310的中心区域上，举例而言，本实施例的光学产品300可以是应用于非曲面的镜片或萤幕保护贴，但本发明不限于此。
50.请参考图6，本实施例的光学产品400与前述实施例中的光学产品300的差异在于：光学产品400的抗光层420形成于本体310内，换句话说，抗光层420可以例如是夹于本体310内。此外，在本实施例中，抗光层420可以是仅位于本体310内的中心区域，但本发明不限于此。
51.请参考图7，本实施例的光学产品500与前述实施例中的光学产品300的差异在于：光学产品500的抗光层520形成于本体310表面的整个区域，举例而言，抗光层520可以由本体310表面的一端部延伸形成至另一端部，但本发明不限于此。
52.请参考图8，本实施例的光学产品600与前述实施例中的光学产品500的差异在于：本实施例的光学产品600的抗光层620形成于本体310内的整个区域，举例而言，抗光层620可以由本体310表面的一端部延伸形成至另一端部，但本发明不限于此。
53.应说明的是，上述各种态样的光学产品都可以通过适宜的方式进行搭配，举例而言，图7与图8的态样亦可以应用于曲面的镜片上，只要光学产品包括通过经二氧化钛表面改质而成的抗光材料所形成的抗光层皆属于本发明的保护范围。
54.综上所述，本发明的光学材料导入了具有抗紫外光功效的二氧化钛，且表面改质可以增加光学材料与本体表面的键结能力，如此一来，可以提升光学材料与本体之间的附着性，增加两者之间的贴覆性，因此通过前述光学材料所制作出的光学产品可以有效抵抗紫外光波长波段(280奈米至380奈米)，进而降低紫外光对于眼部所造成的伤害，提升对于眼部的保护能力。
55.最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

技术特征：

1.一种光学材料，其特征在于，用于制作光学产品，包括：经二氧化钛表面改质而成的抗光材料，以使所述光学产品至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线。2.一种光学产品，其特征在于，包括：本体；以及抗光层，形成于所述本体，其中所述抗光层通过经二氧化钛表面改质而成的抗光材料所形成，以使所述光学产品至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线。3.根据权利要求2所述的光学产品，其特征在于，所述本体与所述抗光层之间通过烯类官能基键结。4.根据权利要求3所述的光学产品，其特征在于，所述烯类官能基包括丙烯基。5.根据权利要求2所述的光学产品，其特征在于，所述光学产品于波长介于280奈米至380奈米之间的光线的穿透率介于0.1％至50％之间。6.根据权利要求2所述的光学产品，其特征在于，所述抗光层使所述光学产品进一步抵抗波长介于380奈米至500奈米之间的光线。7.根据权利要求6所述的光学产品，其特征在于，所述光学产品于波长介于380奈米至500奈米之间的光线的穿透率小于70％。8.根据权利要求2所述的光学产品，其特征在于，所述抗光层形成于所述本体的表面。9.根据权利要求2所述的光学产品，其特征在于，所述抗光层形成于所述本体内。10.一种光学产品的制造方法，其特征在于，包括：提供本体；以及形成抗光层于所述本体，其中所述抗光层通过经二氧化钛表面改质而成的抗光材料所形成，以使所述光学产品至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线。

技术总结

本发明提供一种用于制作光学产品的光学材料，包括经二氧化钛表面改质而成的抗光材料，以使所述光学产品至少抵抗波长介于280奈米至380奈米之间的光线。另提供一种光学产品及其制作方法。及其制作方法。及其制作方法。

技术研发人员：

麦昱绅 古莞霖 李克森 王翁子筑

受保护的技术使用者：

天辰创新材料科技股份有限公司

技术研发日：

2021.06.04

技术公布日：

2022/10/25