(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910595714.4
(22)申请日 2019.07.03
(71)申请人 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司
地址 100176 北京市大兴区北京经济技术
开发区荣昌东街7号院6号楼3001室
(72)发明人 徐鑫照
(74)专利代理机构 北京华夏泰和知识产权代理
有限公司 11662
代理人 孟德栋
(51)Int.Cl.
C03C 17/22(2006.01)
(54)发明名称
(57)摘要
本发明涉及镀膜领域，具体的涉及一种化学
浴镀膜设备和化学浴镀膜系统。该化学浴镀膜设
备，包括：镀膜腔室；柔性托盘，设置在所述镀膜
室内，用于驱动所述柔性托盘绕所述传动装置转
动；镀膜液喷射装置，设置在所述镀膜腔室内且
位于所述柔性托盘的上方，用于向所述柔性托盘
内喷射镀膜液。利用该设备能够解决目前镀膜工
艺复杂、产能低的技术问题，达到简化工艺，提高
产能的目的。权利要求书2页 说明书8页 附图3页CN 112174543 A 2021.01.05
C N 112174543
A
1.一种化学浴镀膜设备，其特征在于，包括：
设备壳体，所述设备壳体围成镀膜腔室；
柔性托盘，设置在所述镀膜腔室内，所述柔性托盘包括至少一个用于放置镀膜基板的容纳槽；
传送装置，设置在所述镀膜腔室内，用于驱动所述柔性托盘绕所述传送装置转动；
喷射装置，设置在所述镀膜腔室内且位于所述柔性托盘的上方，用于向所述容纳槽内喷射镀膜液。
2.根据权利要求1所述的化学浴镀膜设备，其特征在于，所述传送装置包括：
支撑结构，用于支撑所述柔性托盘；
驱动机构，与所述支撑结构连接，用于驱动所述柔性托盘绕所述支撑结构转动。
3.根据权利要求2所述的化学浴镀膜设备，其特征在于，所述化学浴镀膜设备还包括：
加热装置，设置在所述支撑结构和所述柔性托盘之间，用于给所述容纳槽内的镀膜液加热。
4.根据权利要求1所述的化学浴镀膜设备，其特征在于，所述喷射装置包括：
喷射管，所述喷射管上设置有至少一个喷嘴，所述喷嘴的喷出方向朝向所述容纳槽；
混料槽，与所述喷射管连接，用于给所述喷射管提供镀膜液。
5.根据权利要求1所述的化学浴镀膜设备，其特征在于，所述化学浴镀膜设备还包括：
集液槽，设置于所述传送装置的下方，用于在所述容纳槽转动至所述传送装置的底部或者侧面时，收集所述容纳槽内的镀膜液；pwm转模拟电压
其中，所述集液槽内设有排液口和与所述排液口连接的排液管。
6.根据权利要求5所述的化学浴镀膜设备，其特征在于，所述化学浴镀膜设备还包括：
清洗装置，设置于所述传送装置的下方且位于所述集液槽上方，所述清洗装置用于对转动至所述传送装置底部的所述容纳槽进行清洗。
7.根据权利要求1-6任一项所述的化学浴镀膜设备，其特征在于，所述化学浴镀膜设备还包括：
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镀膜液均化装置，用于对所述容纳槽内的镀膜液进行震荡或搅拌。
8.根据权利要求7所述的化学浴镀膜设备，其特征在于，所述镀膜液均化装置包括倾斜式均化机构、刮拌式均化机构、气泡式均化机构或震动式均化机构中的至少一种；其中，所述倾斜式均化机构包括：设置于所述柔性托盘和所述传送装置之间的承托板、用于驱动所述承托板倾斜运动的驱动机构，所述承托板带动所述柔性托盘震荡；
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所述刮拌式均化机构包括：设置在所述传送装置两侧的支撑架、设置于所述支撑架上的刮板、以及用于驱动所述支撑架竖直或水平运动的第一控制器，其中，所述刮板位于所述容纳槽上方；
所述气泡式均化机构包括：设置在所述柔性托盘上侧的支撑柱、与所述支撑柱连通的气泡发生柱、以及用于驱动所述支撑柱升降的第二控制器，其中，所述气泡发生柱上设有出气孔；
所述震动式均化机构包括：设置于所述柔性托盘的底部或者侧面、用于驱动所述柔性托盘震动的震动器。
9.一种化学浴镀膜系统，其特征在于，包括：
权利要求1-8任一权项所述的化学浴镀膜设备，所述镀膜腔室包括进料口和出料口；
与所述进料口连通的入料装置，所述入料装置通过所述进料口将镀膜基板传送至所述容纳槽内；
与所述出料口连通的出料装置，所述出料装置用于对镀膜后的基板进行传输和清洗。
10.根据权利要求9所述的化学浴镀膜系统，其特征在于，所述出料装置包括：
传输辊，用于接收出料口传输出的基板，并将所述基板沿所述传输辊的传输方向将所述基板进行传送；
水刀，设置在所述传输辊的上方和/或下方，用于对所述基板进行清洗；
风刀，设置在所述传输辊的上方和/或下方，用于对经过所述水刀清洗后的基板进行干燥。
化学浴镀膜设备和化学浴镀膜系统
技术领域
[0001]本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种化学浴镀膜设备和化学浴镀膜系统。
背景技术
[0002]化学浴镀膜是将镀膜基板置于溶液中，然后使溶液中的镀膜成分自动沉积到镀膜基板上。化学浴镀膜的优点为成本低/易于大规模量产，制程简单易操作。目前，在薄膜太阳能电池领域，常用的化学浴镀膜的方法在玻璃基板上沉积硫化镉薄膜，以形成硫化镉薄膜太阳能电池。
[0003]目前，常用的硫化镉镀膜设备有两种，一种是反应槽为立式，来料基板镀膜时，基板竖直放置在反应槽中，另一种是反应槽为水平式，来料基板镀膜时，上腔盖压住镀膜基板及反应平台，由上部管道注入镀膜液至分液盘，分液盘使镀膜液大致均匀分布在整个基板，注入镀膜液后，整个反应平台由底部中心的摇摆电机带动摇摆，使镀膜液均匀分布，镀膜300秒后，腔盖升起，取出镀膜基板。该化学水浴镀膜系统，镀膜较为均匀，但是由于设备镀膜腔室较少，即同时可容纳的镀膜基板较少，所以产能受限制，且设备体积较大。
发明内容
[0004]本发明的目的在于提供一种化学浴镀膜设备和化学浴镀膜系统，以解决现有技术中化学浴镀膜
反垃圾邮箱设备产能低且设备体积较大的问题。
[0005]为实现上述发明目的，本发明采用的技术方案为：
[0006]第一方面，本发明提供了一种化学浴镀膜设备，包括：
[0007]设备壳体，所述设备壳体围成镀膜腔室；
[0008]柔性托盘，设置在所述镀膜腔室内，所述柔性托盘包括至少一个用于放置镀膜基板的容纳槽；
[0009]传送装置，设置在所述镀膜腔室内，用于驱动所述柔性托盘绕所述传送装置转动；[0010]喷射装置，设置在所述镀膜腔室内且位于所述柔性托盘的上方，用于向所述容纳槽内喷射镀膜液。
[0011]第二方面，本发明提供了一种化学浴镀膜系统，包括：
[0012]本发明提供的上述化学浴镀膜设备，所述镀膜腔室包括进料口和出料口；[0013]与所述进料口连通的入料装置，所述入料装置通过所述进料口将镀膜基板传送至所述容纳槽内；
[0014]与所述出料口连通的出料装置，所述出料装置用于对镀膜后的基板进行传输和清洗。
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[0015]本发明提供的上述技术方案与现有技术相比具有如下优点：
[0016]本发明的化学浴镀膜设备，包括镀膜腔室与设置于所述镀膜腔室内的柔性托盘、传送装置和喷射装置，其中，柔性托盘包括至少一个容纳槽，用于承载镀膜基板，传送装置用于带动柔性托盘转动，喷射装置用于向容纳槽内喷射镀膜液。可见，本发明中提供了一种
较为新颖的镀膜设备，主要采用柔性托盘作为对镀膜基板进行镀膜的反应槽(即容纳槽)，每一柔性托盘中可以设置多个反应槽，且可以在传送装置的带动下围绕传动装置转动，从而有利于依次对多个容纳槽内的基板进行镀膜，有利于提高设备的产能，且对多个反应槽通过回传传送的方式进行设计，进一步节省了设备的体积。
附图说明
[0017]此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
[0018]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本发明实施例提供的一种化学浴镀膜设备的结构示意图；
[0020]图2为本发明实施例中提供的一种喷射装置的结构示意图；
[0021]图3为本发明实施例中提供的一种混料器与喷射管的连接结构示意图；
[0022]图4为本发明实施例中提供的一种柔性托盘的结构示意图；
[0023]图5为本发明实施例中提供的第二种化学浴镀膜设备的结构示意图；
[0024]图6为本发明实施例中提供的一种刮板式均化机构的结构示意图；
手动刨冰机[0025]图7为本发明实施例中提供的一种气泡式均化机构的结构示意图；
[0026]图8为本发明实施例中提供的一种震动式均化机构的结构示意图；
[0027]图9为化学浴镀膜系统中出料装置和镀膜腔室的位置关系结构示意图。
[0028]图标：1-设备壳体；10-镀膜腔室；101-排气口；102-进料口；103-出料口；11-传送装置；111-支架；112-支撑结构；113-驱动机构；2-柔性托盘；20-容纳槽；201-底板；21-侧壁；22-加热装置；3-镀膜基板；30-喷射装置；31-喷射管；32-喷嘴；33-混药槽；34-增压器件；35-药液槽；4-出料装置；40-传输辊；41-水刀；42-风刀；43-清洁刷；50-清洗装置；51-集液槽；511-排液口；512-排液管；61-升降电机；62-承托板；63-支撑架；64-刮板；65-支撑柱；66-气泡发生柱；67-震动器。
具体实施方式
[0029]为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。[0030]本发明用于提供一种化学浴镀膜设备和化学浴镀膜系统，以解决现有技术中化学浴镀膜设备产能低且设备体积较大的问题。
[0031]本发明实施例提供的一种化学浴镀膜设备，如图1所示，包括：设备壳体1，设备壳体1围成镀膜腔室10；柔性托盘2，设置在镀膜腔室10内，柔性托盘2包括至少一个用于放置镀膜基板3的容纳槽20；传送装置11，设置在镀膜腔室10内，用于驱动柔性托盘2绕传送装置11转动；喷射装置30，设置在镀膜腔室10内并位于柔性托盘2的上方，用于向容纳槽20内喷射镀膜液。
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