锶掺杂镧锰氧化物的结构及其红外发射率

1镧锰氧化物的结构
镧锰氧化物是一种晶体结构,它是由镧离子和锰离子组成的一种半导体材料。晶体结构由八面体的镧(La)、六方体的锰(Mn)和氧(O)组成。镧锰氧化物的晶体行等级是四秩,晶格常数为4.05Å。由此可知,镧锰氧化物晶格结构表示为ABCABC,其中A表示La,B表示Mn,C表示O。
2镧锰氧化物的红外发射率
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镧锰氧化物的红外发射率主要取决于其晶体的尺寸和形状,以及其所处的环境温度。镧锰氧化物的室温下红外发射率可靠的数据将近在20~32%之间。据研究报告,在温度为1000℃时,镧锰氧化物的红外发射率可以达到较高的稳定性,即般为50%。
3掺杂镧锰氧化物阳极化处理
包装容器掺杂镧锰氧化物是一种改性镧锰氧化物,它是在晶体正常结构中加入一种其他金属离子而产生的。晶体正常结构中的金属离子会与添加的离子形成新的晶体结构,随着掺杂量的增大,晶体的形状和尺寸都会发生变化,从而影响其红外发射率。
4掺杂镧锰氧化物的红外发射率
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掺杂镧锰氧化物的红外发射率会受到掺杂后结构和掺杂量的影响,如掺入少量Te离子,掺杂后红外发射率会高于正常结构。而随着
掺杂量的增加,红外发射率也会随之减小,这是由于掺杂后结构的尺寸大小发生变化,影响结构的发射能力。
凸轮滚子5结论
镧锰氧化物是一种晶体结构,其红外发射率与温度和结构尺寸有关。同时,掺杂镧锰氧化物的红外发射率也受掺杂量和掺杂后结构的尺寸大小影响。
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