盘装置的制作方法

盘装置
1.关联申请
2.本技术享受以日本专利申请2021-49569号(申请日：2021年3月24日)为基础申请的优先权。本技术通过参照该基础申请而包括基础申请的全部内容。
技术领域
3.本发明的实施方式涉及盘装置。

背景技术：

4.硬盘驱动器(hdd)这样的盘装置例如具有收容于壳体的多个记录介质、多个磁头及扰流器。磁头对记录介质读写信息。扰流器具有配置于多个记录介质之间的间隙的叶片(fin)，使磁头相对于记录介质的定位精度提高。
5.例如，有时难以在多个记录介质之间的全部的间隙配置叶片。在该情况下，例如，若扰流器被省略，则磁头相对于记录介质的定位精度可能会下降。

技术实现要素：

6.本发明的实施方式提供能够抑制磁头相对于记录介质的定位精度的下降的盘装置。
7.一个实施方式的盘装置具备多个记录介质、多个磁头、扰流器及壳体。所述记录介质分别具有记录面，能够绕着在与所述记录面交叉的轴向上延伸的旋转轴旋转，在所述轴向上排列。所述磁头构成为对所述多个记录介质读写信息。所述扰流器具有位于设置于所述多个记录介质之间的多个间隙的多个第1叶片。所述壳体设置有收容所述多个记录介质、所述多个磁头及所述扰流器的内室。所述多个第1叶片的数量比所述多个间隙的数量少。
附图说明
8.图1是示出第1实施方式的硬盘驱动器(hdd)的例示性的立体图。
9.图2是示出第1实施方式的壳体及扰流器的例示性的立体图。
10.图3是示出第1实施方式的壳体、磁盘及扰流器的例示性的俯视图。
11.图4是将第1实施方式的壳体、磁盘及扰流器沿着图3的f4-f4线而示出的例示性的剖视图。
12.图5是将第1实施方式的壳体、磁盘及扰流器沿着图3的f5-f5线而示出的例示性的剖视图。
13.图6是示出第2实施方式的壳体及扰流器的例示性的立体图。
14.图7是示出第2实施方式的壳体、磁盘及扰流器的例示性的剖视图。
具体实施方式
15.(第1实施方式)
16.以下，参照图1～图5对第1实施方式进行说明。此外，在本说明书中，实施方式的构成要素及该要素的说明有时以多个表述来记载。构成要素及其说明是一例，不由本说明书的表述限定。构成要素也能够通过与本说明书中的名称不同的名称来确定。另外，构成要素也能够通过与本说明书的表述不同的表述来说明。
17.图1是示出第1实施方式的硬盘驱动器(hdd)10的例示性的立体图。hdd10是盘装置的一例，也能够被称作电子设备、存储装置、外部存储装置或磁盘装置。
18.如各附图所示，在本说明书中，为了方便而定义x轴、y轴及z轴。x轴、y轴及z轴互相正交。x轴沿着hdd10的宽度而设置。y轴沿着hdd10的长度而设置。z轴沿着hdd10的厚度而设置。
19.而且，在本说明书中，定义x方向、y方向及z方向。x方向是沿着x轴的方向，包括x轴的箭头所示的+x方向和x轴的箭头的相反方向即-x方向。y方向是沿着y轴的方向，包括y轴的箭头所示的+y方向和y轴的箭头的相反方向即-y方向。z方向是沿着z轴的方向，包括z轴的箭头所示的+z方向和z轴的箭头的相反方向即-z方向。
20.如图1所示，hdd10具有壳体11、多个磁盘12、主轴马达13、多个磁头14、致动器组件15、音圈马达(vcm)16、斜坡加载机构17、柔性印制布线板(fpc)18及扰流器19。磁盘12是记录介质的一例。磁头14也能够被称作滑块。致动器组件15是致动器的一例。
21.图2是示出第1实施方式的壳体11及扰流器19的例示性的立体图。如图2所示，壳体11形成为在y方向上延伸并且向+z方向开放的长方体的箱状。壳体11具有底壁21、周壁22及中壁23。中壁23是壁的一例。
22.底壁21形成为沿着x-y平面扩展的大致矩形(四边形)的板状。周壁22从底壁21的边缘向大致+z方向突出，形成为大致矩形的框状。中壁23从底壁21向大致+z方向突出，与周壁22连续。底壁21、周壁22及中壁23例如由铝合金这样的金属材料制成，一体形成。
23.在壳体11的内部设置有在+z方向上的壳体11的端部11a处被开放的内室25。内室25例如由底壁21及周壁22形成(规定、区划)。周壁22包围内室25。如图1所示，在内室25收容多个磁盘12、主轴马达13、多个磁头14、致动器组件15、vcm16、斜坡加载机构17、fpc18及扰流器19。
24.图3是示出第1实施方式的壳体11、磁盘12及扰流器19的例示性的俯视图。图4是将第1实施方式的壳体11、磁盘12及扰流器19沿着图3的f4-f4线而示出的例示性的剖视图。如图4所示，hdd10还具有罩27和印制电路板(pcb)28。pcb28是基板的一例。
25.罩27例如由铝合金形成为沿着x-y平面扩展的大致板状。此外，罩27也可以由其他材料制成。罩27例如通过焊接而安装于壳体11的端部11a。由此，罩27覆盖内室25。
26.本实施方式的罩27将内室25大致气密地堵住。对内室25填充与空气不同的气体。例如，密度比空气低的低密度气体、反应性低的惰性气体等向内室25填充。在本实施方式中，氦向内室25填充。此外，也可以是其他流体向内室25填充。另外，内室25也可以被保持为真空、接近真空的低压或比大气压低的负压。
27.pcb28例如是玻璃环氧基板等刚性基板，是多层基板、积层基板等。pcb28位于壳体11的外部，例如通过螺钉而安装于底壁21。
28.在pcb28例如安装有用于与主机连接的接口连接器和用于与fpc18连接的连接器。另外，在pcb28例如还安装有控制器、ram、rom及缓冲存储器这样的各种存储器及其他电子
部件。
29.图1所示的多个磁盘12分别形成为沿着x-y平面扩展的盘状。磁盘12的直径例如为3.5英寸，但不限于该例子。多个磁盘12分别例如具有至少一个记录面12a和外缘12b。
30.记录面12a设置于磁盘12的上表面及下表面的至少一方。换言之，多个记录面12a分别是朝向大致+z方向的磁盘12的表面或朝向大致-z方向的磁盘12的表面。记录面12a是沿着x-y平面扩展的大致平坦的面。在记录面12a设置有磁盘12的磁记录层。此外，也可以在记录面12a的一部分不设置磁记录层。外缘12b是磁盘12的外周面。
31.如图4所示，多个磁盘12在z方向上隔着间隔而堆叠。因而，在多个磁盘12之间设置有间隙g。主轴马达13具有支承多个磁盘12的轴毂。多个磁盘12例如由夹持弹簧保持于主轴马达13的轴毂。
32.主轴马达13使多个磁盘12绕着旋转轴ax旋转。旋转轴ax是作为利用主轴马达13的旋转的中心的假想的轴，也是磁盘12及主轴马达13的轴毂的中心轴。此外，盘状的磁盘12的中心轴及主轴马达13的轴毂的中心轴也可以从利用主轴马达13的旋转的中心偏离。
33.在本说明书中，定义轴向、径向及周向。轴向是沿着旋转轴ax的方向，包括沿着旋转轴ax的一方向及另一方向。径向是与旋转轴ax正交的方向，包括与旋转轴ax正交的多个方向。周向是绕着旋转轴ax旋转的方向，包括绕着旋转轴ax顺时针旋转的方向和逆时针旋转的方向。
34.旋转轴ax在大致z方向上延伸。即，在本实施方式中，旋转轴ax的轴向是大致z方向，包括+z方向及-z方向。另外，旋转轴ax的轴向是与记录面12a正交(交叉)的方向。磁盘12能够绕着在轴向上延伸的旋转轴ax旋转，在轴向上排列。
35.磁盘12的外缘12b是旋转轴ax的径向的外侧的磁盘12的端面，绕着旋转轴ax延伸。换言之，外缘12b在旋转轴ax的周向上延伸。外缘12b朝向径向的外侧。外缘12b的直径大致恒定。此外，外缘12b的中心也可以从旋转轴ax偏离。
36.图1所示的磁头14对磁盘12的记录面12a进行信息的记录及再现。换言之，磁头14对磁盘12读写信息。磁头14搭载于致动器组件15。
37.致动器组件15以能够旋转的方式支承于配置于从磁盘12离开的位置的支承轴31。支承轴31例如从壳体11的底壁21向大致+z方向延伸。即，支承轴31与旋转轴ax大致平行地延伸。
38.vcm16使致动器组件15旋转，将其配置于期望的位置。若通过vcm16对致动器组件15的旋转而磁头14移动到磁盘12的最外周，则斜坡加载机构17将磁头14保持于从磁盘12离开的位置。
39.致动器组件15具有致动器块35、多个臂36及多个头悬架组件37。头悬架组件37也能够被称作头万向节组件(hga)。
40.致动器块35例如经由轴承而以能够旋转的方式支承于支承轴31。多个臂36从致动器块35向与支承轴31大致正交的方向突出。此外，也可以是，致动器组件15被分割，臂36从多个致动器块35的各自突出。
41.多个臂36在轴向上隔着间隔而配置。臂36分别形成为能够进入相邻的磁盘12之间的间隙g的板状。多个臂36大致平行地延伸。
42.致动器块35及多个臂36例如由铝合金一体形成。此外，致动器块35及臂36的材料
不限于该例子。
43.在从致动器块35向臂36的相反侧突出的突起设置有vcm16的音圈。vcm16具有一对磁轭、配置于该磁轭之间的音圈及设置于磁轭的磁体。
44.如上所述，vcm16使致动器组件15旋转。换言之，vcm16使致动器块35、臂36及头悬架组件37一体地旋转(移动)。
45.头悬架组件37安装于对应的臂36的顶端部分，从该臂36突出。由此，多个头悬架组件37在轴向上隔着间隔而配置。多个头悬架组件37分别具有基板41、加载杆42及挠性件43。
46.基板41及加载杆42例如由不锈钢制成。此外，基板41及加载杆42的材料不限于该例子。基板41形成为板状，安装于臂36的顶端部。加载杆42安装于基板41的顶端部，从基板41突出。
47.挠性件43形成为细长的带状。此外，挠性件43的形状不限于该例子。挠性件43是具有不锈钢等的金属板(背衬层)、形成于金属板上的绝缘层、形成于绝缘层上且构成多个布线(布线图案)的导电层及覆盖导电层的保护层(绝缘层)的层叠板。
48.挠性件43安装于基板41及加载杆42。挠性件43的一方的端部具有位于加载杆42上并且能够位移的万向节部(弹性支承部)。在该万向节部搭载磁头14。挠性件43与磁头14电连接。
49.通过vcm16使致动器组件15旋转，搭载于致动器组件15的万向节部的磁头14也绕着支承轴31移动。由此，致动器组件15及vcm16使磁头14沿着磁盘12的记录面12a移动。
50.fpc18具有安装部18a和可挠部18b。安装部18a设置于fpc18的一方的端部。安装部18a例如通过螺钉而安装于壳体11的底壁21。可挠部18b形成为大致带状，从安装部18a延伸。可挠部18b的端部例如通过螺钉而安装于致动器组件15的致动器块35。
51.安装部18a例如经由设置于底壁21的连接器而与pcb28的连接器电连接。可挠部18b连接于致动器组件15的挠性件43。由此，fpc18经由挠性件43而与磁头14电连接。
52.以下，对本实施方式的hdd10的构造进行详细说明。如图2所示，内室25具有第1室25a和第2室25b。第1室25a例如是内室25中的以旋转轴ax为中心的大致圆柱状的部分。第2室25b是内室25中的除了第1室25a之外的部分。此外，内室25不限于该例子。
53.第1室25a和第2室25b在y方向上排列，互相连通。例如，第2室25b从第1室25a的中心即旋转轴ax向-y方向离开。+y方向的第2室25b的端部与-y方向的第1室25a的端部连通。第1室25a及第2室25b均在壳体11的端部11a处被开放。
54.如图1所示，在第1室25a收容多个磁盘12和主轴马达13。在第2室25b收容vcm16、斜坡加载机构17、包括安装部18a及可挠部18b的fpc18及扰流器19。例如，磁头14及致动器组件15能够跨第1室25a及第2室25b而移动。
55.如图3所示，壳体11的周壁22具有内周面22a和内表面22b。内周面22a是第2内周面的一例。内周面22a及内表面22b互相连续，面对内室25。
56.内周面22a是绕着旋转轴ax延伸的圆弧状的曲面。因而，内周面22a与磁盘12的外缘12b大致同心(同轴)地配置。此外，内周面22a的中心也可以从旋转轴ax偏离。
57.内周面22a在y方向上的壳体11的大致中央处中断，形成为大致c字状。因而，内周面22a具有周向上的两个端22c、22d。内表面22b连接于内周面22a的端22c、22d。
58.图5是将第1实施方式的壳体11、磁盘12及扰流器19沿着图3的f5-f5线而示出的例
示性的剖视图。如图5所示，壳体11的中壁23具有内周面23a和支承面23b。内周面23a是第1内周面的一例。
59.内周面23a是绕着旋转轴ax延伸的圆弧状的曲面。因而，内周面23a与磁盘12的外缘12b及周壁22的内周面22a大致同心(同轴)地配置。此外，内周面23a的中心也可以从旋转轴ax偏离。
60.如图2所示，中壁23的内周面23a的直径与周壁22的内周面22a的直径大致相等。中壁23的内周面23a从周壁22的内周面22a的端22c连续地延伸。换言之，内周面23a从内周面22a绕着旋转轴ax延伸。
61.中壁23的内周面23a的z方向上的长度比周壁22的内周面22a的z方向上的长度短。因而，周壁22的内周面22a的一部分在端22c处中断，内周面22a的另外的一部分与中壁23的内周面23a连续。
62.支承面23b设置于+z方向上的中壁23的端。支承面23b形成为大致平坦，朝向+z方向(轴向)。此外，支承面23b不限于该例子。支承面23b比底壁21接近壳体11的端部11a。此外，底壁21也可以具有比支承面23b接近端部11a的部分。
63.如图4所示，底壁21具有第1底面21a、第2底面21b、第1外表面21c及第2外表面21d。第1底面21a及第2底面21b朝向壳体11的内部。第1外表面21c及第2外表面21d朝向壳体11的外部。
64.第1底面21a是z方向上的第1室25a的底面。第1底面21a形成为大致平坦的大致圆环状，朝向+z方向。第2底面21b是z方向上的第2室25b的底面。此外，第1底面21a及第2底面21b也可以设置有凹凸。
65.第1底面21a朝向收容于第1室25a的磁盘12。在第2底面21b例如经由凸起(boss)或间隔件而安装有fpc18的安装部18a。而且，在第2底面21b设置有连接于fpc18的连接器。
66.在轴向上，第1底面21a与壳体11的端部11a之间的距离比第2底面21b与壳体11的端部11a之间的距离长。即，第1室25a比第2室25b从壳体11的端部11a凹陷得深。
67.第1外表面21c位于第1底面21a的相反侧。第2外表面21d位于第2底面21b的相反侧。第2外表面21d例如从第1外表面21c向+z方向凹陷。因而，第2外表面21d比第1外表面21c接近壳体11的端部11a。
68.底壁21的第1底面21a、周壁22的内周面22a、中壁23的内周面23a及罩27形成(规定、区划)内室25的第1室25a。因而，第1室25a由内周面22a、23a包围。
69.底壁21的第2底面21b、周壁22的内表面22b及罩27形成(规定、区划)内室25的第2室25b。因而，第2室25b由内表面22b包围。
70.pcb28覆盖底壁21的第2外表面21d。在径向上，pcb28从底壁21的第1外表面21c离开。pcb28收容于壳体11中的从第1外表面21c向+z方向凹陷的部分。因而，pcb28在径向上从多个磁盘12离开。换言之，在轴向上观察的俯视下，pcb28配置于从磁盘12偏离的位置。
71.如图2所示，扰流器19具有筒部51、壁部52、多个叶片(fin)53及多个过滤器54。筒部51、壁部52及叶片53例如一体形成。
72.筒部51安装于壳体11的中壁23。例如，壳体11还具有用于安装筒部51的安装轴56。安装轴56是轴的一例。安装轴56以从支承面23b突出并在轴向上延伸的方式安装于中壁23。例如，安装轴56的端部向在支承面23b开口的孔插入。轴向上的中壁23的长度(高度)以使该
孔的内表面能够保持安装轴56的方式设定。
73.筒部51形成为在轴向上延伸的大致圆筒状。由此，在筒部51的内侧设置有在轴向上延伸的孔51a。通过安装轴56向孔51a嵌入，筒部51以能够绕着安装轴56旋转的方式安装于中壁23。此外，扰流器19不限于该例子，也可以通过粘接剂这样的其他手段而安装于壳体11。
74.壁部52从筒部51绕着旋转轴ax延伸。在轴向上，壁部52位于中壁23的支承面23b与罩27之间。筒部51及壁部52支承于中壁23的支承面23b。由此，支承面23b支承扰流器19。壁部52与多个磁盘12在旋转轴ax的径向上隔着间隙而相邻。
75.如图5所示，壁部52具有内周面52a。内周面52a是侧面的一例。内周面52a是绕着旋转轴ax延伸的圆弧状的曲面。因而，内周面52a与磁盘12的外缘12b、周壁22的内周面22a及中壁23的内周面23a大致同心(同轴)地配置。此外，内周面52a的中心也可以从旋转轴ax偏离。另外，内周面52a也可以形成为其他形状。
76.如图3所示，壁部52的内周面52a的直径与周壁22的内周面22a的直径大致相等。另外，如图4所示，壁部52的内周面52a的直径与中壁23的内周面23a的直径大致相等。此外，内周面52a的直径和内周面22a、23a的直径也可以不同。周壁22、中壁23及壁部52的内周面22a、23a、52a各自的直径比多个磁盘12的外缘12b的直径稍长。
77.中壁23的内周面23a与壁部52的内周面52a在旋转轴ax的轴向上排列。另外，如图3所示，周壁22的内周面22a与壁部52的内周面52a在旋转轴ax的周向上隔着间隔而排列。此外，内周面22a、52a也可以无间隙地相邻。
78.如图5所示，多个叶片53从壁部52的内周面52a突出。多个叶片53在旋转轴ax的轴向上隔着间隔而排列。轴向上的多个叶片53的间隔与轴向上的多个磁盘12的间隔大致相等。
79.多个叶片53分别例如形成为沿着x-y平面扩展的大致板状。叶片53和磁盘12大致平行地配置。此外，叶片53不限于该例子。
80.图2所示的多个过滤器54设置于壁部52的内周面52a。多个过滤器54在旋转轴ax的轴向上位于多个叶片53之间。过滤器54例如回收内室25的灰尘。
81.如图5所示，本实施方式的hdd10例如具有10张磁盘12和9张叶片53。此外，hdd10不限于该例子，也可以具有比10张多的磁盘12或比10张少的磁盘12。另外，hdd10也可以具有比9张多的叶片53或比9张少的叶片53。
82.在本实施方式中，10张磁盘12包括9张第1磁盘61和1张第2磁盘62。第1磁盘61是多个第1记录介质的一例。第2磁盘62是第2记录介质的一例。
83.第2磁盘62是10张磁盘12中的一个。第1磁盘61是磁盘12中的其余。此外，磁盘12也可以包括多个第2磁盘62。
84.9张第1磁盘61在旋转轴ax的轴向上隔着间隔而排列。第2磁盘62从多个第1磁盘61向-z方向离开。换言之，第2磁盘62从多个第1磁盘61在轴向上离开。此外，在磁盘12具有多个第2磁盘62的情况下，多个第2磁盘62也在轴向上隔着间隔而排列。
85.第2磁盘62位于多个第1磁盘61与底壁21之间。即，第2磁盘62包括多个磁盘12中的最接近底壁21的一个。
86.第1磁盘61和第2磁盘62是互相相同的磁盘12。因而，第1磁盘61及第2磁盘62分别
具有记录面12a及外缘12b。此外，第1磁盘61和第2磁盘62也可以互相不同。
87.在本实施方式中，在10张磁盘12之间设置有9个间隙g。9个间隙g包括8个第1间隙g1和1个第2间隙g2。第1间隙g1是多个间隙g中的设置于9张第1磁盘61之间的间隙。第2间隙g2是多个间隙g中的设置于多个第1磁盘61中的最接近底壁21的一个与第2磁盘62之间的间隙。
88.在旋转轴ax的轴向上，多个第1间隙g1各自的长度(宽度)和第2间隙g2的长度(宽度)互相大致相等。另外，第2磁盘62与底壁21之间的距离比第1间隙g1及第2间隙g2的各自短。
89.如图4所示，周壁22的内周面22a朝向多个磁盘12的外缘12b。换言之，内周面22a朝向9张第1磁盘61的外缘12b和1张第2磁盘62的外缘12b。内周面22a将多个磁盘12的外缘12b从旋转轴ax的径向的外侧覆盖。根据别的表述，内周面22a从多个磁盘12的外缘12b稍微离开，沿着该外缘12b延伸。
90.周壁22的内周面22a作为所谓的护罩(shroud)发挥功能。因而，内周面22a通过在第1磁盘61及第2磁盘62的附近整顿内室25的氦气的流动来抑制氦气的紊流产生。内周面22a与第1磁盘61及第2磁盘62的外缘12b之间的距离以使内周面22a能够抑制紊流的产生的方式设定。
91.如图5所示，中壁23的内周面23a朝向1张第2磁盘62的外缘12b和第2间隙g2。内周面23a将第2磁盘62的外缘12b从旋转轴ax的径向的外侧覆盖。根据别的表述，内周面23a从第2磁盘62的外缘12b稍微离开，沿着该外缘12b延伸。另一方面，在旋转轴ax的轴向上，内周面23a从9张第1磁盘61的外缘12b和第1间隙g1离开。
92.中壁23的内周面23a作为护罩发挥功能。因而，内周面23a通过在第2磁盘62的附近整顿内室25的氦气的流动来抑制氦气的紊流产生。内周面23a与第2磁盘62的外缘12b之间的距离以使内周面23a能够抑制紊流的产生的方式设定。
93.在旋转轴ax的轴向上，中壁23的内周面23a的长度比多个间隙g中的一个的长度(宽度)长。在本实施方式中，在轴向上，内周面23a的长度比多个间隙g中的一个的宽度与多个磁盘12中的一个的长度(厚度)的合计长。
94.壁部52的内周面52a朝向9张第1磁盘61的外缘12b和第1间隙g1。内周面52a将第1磁盘61的外缘12b从旋转轴ax的径向的外侧覆盖。根据别的表述，内周面52a从第1磁盘61的外缘12b稍微离开，沿着该外缘12b延伸。另一方面，在旋转轴ax的轴向上，内周面52a从1张第2磁盘62的外缘12b和第2间隙g2离开。
95.壁部52的内周面52a作为护罩发挥功能。因而，内周面52a通过在第1磁盘61的附近整顿内室25的氦气的流动来抑制氦气的紊流产生。内周面52a与第1磁盘61的外缘12b之间的距离以使内周面22a能够抑制紊流的产生的方式设定。
96.在本实施方式中，9张叶片53包括8张第1叶片65和1张第2叶片66。换言之，扰流器19具有第1叶片65和第2叶片66。第1叶片65是第1叶片及叶片的一例。
97.第2叶片66是9张叶片53中的一个。第1叶片65是叶片53中的其余。第1叶片65及第2叶片66都从壁部52的内周面52a突出。此外，叶片53也可以省略第2叶片66。
98.8张第1叶片65在旋转轴ax的轴向上隔着间隔而排列。第2叶片66从多个第1叶片65向+z方向离开。换言之，第2叶片66从多个第1叶片65在轴向上离开。
99.8张第1叶片65位于9个间隙g中的8个第1间隙g1。换言之，在8个第1间隙g1的各自配置8个第1叶片65中的对应的一个。这样，多个第1叶片65位于多个间隙g。另一方面，8张第1叶片65未进入第2间隙g2，位于第2间隙g2之外。
100.8张第1叶片65的形状互相大致相等。因而，旋转轴ax的径向上的第1叶片65的长度互相大致相等。此外，第1叶片65的形状也可以互相不同。
101.如图4所示，第2叶片66位于罩27与多个磁盘12之间。另一方面，第2叶片66未进入多个磁盘12之间的间隙g，位于间隙g之外。在旋转轴ax的径向上，第2叶片66的长度比多个第1叶片65各自的长度短。此外，第2叶片66的形状不限于该例子。
102.如以上这样，第1叶片65进入间隙g中的第1间隙g1，不进入第2间隙g2。而且，第2叶片66不进入多个间隙g的任何一个。因而，进入间隙g的叶片53的数量即第1叶片65的数量(8张)比间隙g的数量(9个)少。根据别的表述，第1叶片65的数量(8张)为从多个磁盘12的数量(10张)减去2而得到的数量(10-2)以下。
103.如以上这样，磁盘12的数量是10张，设置于磁盘12之间的第1叶片65的数量是8张。即，若将磁盘12的数量设为n张，则第1叶片65的数量成为(n-2)张以下。此外，该(n-2)是设置于磁盘12之间的第1叶片65的数量，不包括位于多个磁盘12之外的第2叶片66的数量。
104.第1叶片65通过位于第1间隙g1而在第1间隙g1中整顿内室25的氦气的流动，抑制氦气的紊流产生。由此，第1叶片65能够抑制第1磁盘61摇晃的盘颤动(disk flutter)。而且，第1叶片65能够抑制氦气的流动向位于第1间隙g1的磁头14抵碰。由此，第1叶片65能够使磁头14相对于第1磁盘61的定位精度提高。
105.另一方面，在与第2磁盘62相邻的第2间隙g2不配置多个叶片53的任何一个。但是，作为护罩的中壁23的内周面23a将第2磁盘62的外缘12b从旋转轴ax的径向的外侧覆盖。由此，内周面23a在第2磁盘62的周边整顿氦气的流动，抑制氦气的紊流产生。由此，内周面23a能够抑制第2磁盘62摇晃的盘颤动，使磁头14相对于第2磁盘62的定位精度提高。
106.在填充有氦气的内室25中，有时由内周面23a(护罩)实现的磁头14的定位精度的提高效果比由第1叶片65实现的磁头14的定位精度的提高效果高。因此，本实施方式的hdd10既能够省略叶片53向第2间隙g2的配置又能够使磁头14相对于全部的磁盘12的定位精度提高。
107.在本实施方式中，扰流器19例如如以下这样安装到壳体11。首先，向扰流器19的筒部51的孔51a插入安装轴56，筒部51支承于中壁23的支承面23b。此时，多个叶片53位于间隙g之外。接着，通过扰流器19绕着安装轴56旋转，多个第1叶片65向多个第1间隙g1插入。由此，第1叶片65配置于第1间隙g1之中，壁部52支承于中壁23的支承面23b。在该状态下，扰流器19例如通过螺钉而向壳体11固定。此外，扰流器19也可以通过其他方法来向壳体11安装。
108.在以上说明的第1实施方式的hdd10中，扰流器19具有位于设置于多个磁盘12之间的多个间隙g的多个第1叶片65。通过磁盘12旋转，会产生内室25中的流体(氦气)的流动。扰流器19的第1叶片65能够在多个磁盘12之间的间隙g中抑制紊流产生，进而抑制磁盘12摇晃的盘颤动。而且，第1叶片65能够抑制流体的流动向位于多个磁盘12之间的磁头14抵碰。由此，第1叶片65能够提高磁头14相对于磁盘12的定位精度。另一方面，例如，在磁盘12的数量多的情况下，第1叶片65的数量也变多，并且轴向上的扰流器19的长度也变长。然而，hdd10的轴向上的尺寸有时例如会被规格制约。因而，在磁盘12的数量多的情况下，根据扰流器19
及壳体11的构造，有时难以在全部的间隙g配置第1叶片65。例如，为了支承安装轴56，中壁23具有轴向上的预定的长度。因而，扰流器19的内周面52a会从第2间隙g2离开，从内周面52a突出的第1叶片65难以配置于第2间隙g2。相对于此，在本实施方式的hdd10中，多个第1叶片65的数量比多个间隙g的数量少。即，在多个间隙g中的至少一个不配置第1叶片65。但是，在多个间隙g中的其余配置第1叶片65。因而，hdd10不用大幅变更扰流器19及壳体11的构造，就能够通过第1叶片65来使磁头14相对于多个磁盘12中的期望的第1磁盘61的定位精度提高。另一方面，hdd10能够通过其他构造来使磁头14相对于第2磁盘62的定位精度提高。
109.扰流器19具有朝向多个第1磁盘61的外缘12b的内周面52a。多个第1叶片65从内周面52a突出，位于多个间隙g中的设置于多个第1磁盘61之间的多个第1间隙g1，且位于多个间隙g中的设置于多个第1磁盘61与至少一个第2磁盘62之间的第2间隙g2之外。壳体11具有与内周面52a在轴向上排列且绕着旋转轴ax延伸并且朝向至少一个第2磁盘62的外缘12b的内周面23a。即，在多个第1间隙g1配置第1叶片65，在第2间隙g2不配置第1叶片65。通过多个第1叶片65位于多个第1间隙g1，能够提高磁头14相对于多个第1磁盘61的定位精度。另一方面，绕着旋转ax轴延伸的内周面23a朝向第2磁盘62。即，内周面23a是与第2磁盘62的外缘12b大致同心的圆弧状的曲面，覆盖第2磁盘62的外缘12b。因而，内周面23a通过作为所谓的护罩发挥功能，从而在第2磁盘62的附近整顿流体的流动，抑制紊流产生。由此，内周面23a能够抑制第2磁盘62的盘颤动。因此，内周面23a能够提高磁头14相对于第2磁盘62的定位精度。如以上这样，本实施方式的hdd10不用在第2间隙g2配置第1叶片65，就能够提高磁头14相对于第2磁盘62的定位精度。
110.壳体11具有绕着旋转轴ax延伸并且朝向多个第1磁盘61及至少一个第2磁盘62的外缘12b的内周面22a。内周面23a从内周面22a绕着旋转轴ax延伸。即，朝向第2磁盘62的内周面23a和朝向第1磁盘61及第2磁盘62双方的内周面22a不中断而连续。由此，内周面23a和内周面22a能够在第2磁盘62的附近更有效地抑制流体的流动紊乱。
111.壳体11具备具有内周面23a的中壁23和在轴向上延伸的安装轴56。中壁23具有朝向轴向并且支承扰流器19的支承面23b。安装轴56以从支承面23b突出的方式安装于中壁23。扰流器19设置有在轴向上延伸的孔51a，通过安装轴56向该孔51a嵌入而以能够绕着安装轴56旋转的方式安装于中壁23。由此，扰流器19通过绕着安装轴56旋转，能够将多个第1叶片65向多个间隙g容易地插入。而且，中壁23由于具有用于形成内周面23a的厚度，所以能够可靠地支承安装轴56。
112.在轴向上，内周面23a的长度比多个间隙g中的一个的长度长。由此，内周面23a能够朝向第2磁盘62的外缘12b及第2间隙g2。即，内周面23a能够覆盖第2磁盘62的外缘12b及第2间隙g2，在第2磁盘62的附近稳定地抑制流体的流动紊乱。
113.多个磁盘12的数量为10张以上。如上所述，在磁盘12的数量多的情况下，根据扰流器19及壳体11的构造，有时难以在全部的间隙g配置第1叶片65。然而，本实施方式的hdd10不用大幅变更扰流器19及壳体11的构造，能够通过第1叶片65来使磁头14相对于多个磁盘12中的期望的第1磁盘61的定位精度提高。
114.向内室25填充氦。通过向内室25填充氦，与向内室25填充了空气的情况相比，内周面23a这样的护罩能够更有效地抑制磁盘12的盘颤动。
115.pcb28位于壳体11的外部并且在与旋转轴ax正交的径向上从多个磁盘12离开。换
言之，pcb28在轴向上不与多个磁盘12重叠，在径向上避开了多个磁盘12。由此，能够在hdd10的轴向上的尺寸中的更大的范围配置尽可能的张数的磁盘12。即，hdd10能够抑制磁盘12的数量被pcb28制约。
116.内室25具有收容多个磁盘12的第1室25a和收容扰流器19及fpc18的安装部18a并且与第1室25a连通的第2室25b。壳体11具有第1室25a及第2室25b被开放的轴向上的端部11a、朝向多个磁盘12的轴向上的第1室25a的第1底面21a及安装有安装部18a的轴向上的第2室25b的第2底面21b。在轴向上，第1底面21a与端部11a之间的距离比第2底面21b与端部11a之间的距离长。即，第1室25a比第2室25b深。由此，第1室25a能够收容更多的磁盘12。
117.扰流器19具有位于罩27与多个磁盘12之间的第2叶片66。在与旋转轴ax正交的径向上，多个第1叶片65的长度互相相等，第2叶片66的长度比多个第1叶片65各自的长度短。由此，第2叶片66能够抑制与罩27干涉。而且，多个第1叶片65能够在多个磁盘12之间的间隙g中互相同等地抑制紊流产生。
118.(第2实施方式)
119.以下，参照图6及图7对第2实施方式进行说明。此外，在以下的实施方式的说明中，具有与已经说明的构成要素同样的功能的构成要素被标注有与该已述的构成要素相同的标号，而且有时说明被省略。另外，被标注有相同的标号的多个构成要素未必全部的功能及性质共通，也可以具有与各实施方式相应的不同的功能及性质。
120.图6是示出第2实施方式的壳体11及扰流器19的例示性的立体图。图7是示出第2实施方式的壳体11、磁盘12及扰流器19的例示性的剖视图。如图7所示，第2实施方式的hdd10例如具有10张磁盘12和8张叶片53。
121.在第2实施方式中，10张磁盘12包括8张第1磁盘61和2张第2磁盘62。以下，2张第2磁盘62有时被分开称作第2磁盘62a、62b。第2磁盘62a是第2记录介质的一例。第2磁盘62b是第2记录介质的一例，且是第3记录介质的一例。
122.第2磁盘62是10张磁盘12中的相邻的两个。2张第2磁盘62从多个第1磁盘61向-z方向(轴向)离开。另外，第2磁盘62b位于多个第1磁盘61与第2磁盘62a之间。
123.第1磁盘61和第2磁盘62a、62b是互相相同的磁盘12。因而，第1磁盘61及第2磁盘62a、62b分别具有记录面12a及外缘12b。
124.在第2实施方式中，9个间隙g包括7个第1间隙g1、1个第3间隙g3及1个第4间隙g4。第3间隙g3是第2间隙的一例，且是第3间隙的一例。
125.第3间隙g3是多个间隙g中的设置于多个第1磁盘61中的最接近底壁21的一个与第2磁盘62b之间的间隙。第4间隙g4是多个间隙g中的设置于第2磁盘62a与第2磁盘62b之间的间隙。
126.在旋转轴ax的轴向上，多个第1间隙g1各自的长度(宽度)、第3间隙g3的长度(宽度)及第4间隙g4的长度(宽度)互相大致相等。另外，第2磁盘62a与底壁21之间的距离比第1间隙g1、第3间隙g3及第4间隙g4的各自短。
127.周壁22的内周面22a朝向8张第1磁盘61及第2磁盘62a、62b的外缘12b。内周面22a作为所谓的护罩发挥功能。因而，内周面22a在第1磁盘61及第2磁盘62a、62b的附近整顿内室25的氦气的流动，抑制紊流产生。
128.中壁23的内周面23a朝向1张第2磁盘62a的外缘12b和第4间隙g4。另一方面，在旋
转轴ax的轴向上，内周面23a从8张第1磁盘61及1张第2磁盘62b的外缘12b离开。内周面23a作为护罩发挥功能。因而，内周面23a在第2磁盘62a的附近整顿内室25的氦气的流动，抑制紊流产生。
129.壁部52的内周面52a朝向8张第1磁盘61及1张第2磁盘62b的外缘12b、第1间隙g1及第3间隙g3。另一方面，在旋转轴ax的轴向上，内周面52a从1张第2磁盘62a的外缘12b离开。内周面52a作为护罩发挥功能。因而，内周面52a在第1磁盘61及第2磁盘62b的附近整顿内室25的氦气的流动，抑制紊流产生。
130.在第2实施方式中，8张叶片53包括7张第1叶片65和1张第2叶片66。7张第1叶片65位于9个间隙g中的7个第1间隙g1。另一方面，7张第1叶片65未进入第3间隙g3及第4间隙g4。第1叶片65位于第3间隙g3之外，且位于第4间隙g4之外。
131.如以上这样，第1叶片65进入间隙g中的第1间隙g1，不进入第3间隙g3及第4间隙g4。而且，第2叶片66不进入多个间隙g的任何一个。因而，进入间隙g的叶片53的数量即第1叶片65的数量(7张)比间隙g的数量(9个)少。另外，若将磁盘12的数量设为n张，则第1叶片65的数量比(n-2)张少。
132.在与第2磁盘62a相邻的第4间隙g4不配置多个叶片53的任何一个。但是，作为护罩的中壁23的内周面23a将第2磁盘62a的外缘12b从旋转轴ax的径向的外侧覆盖。由此，内周面23a能够在第2磁盘62a的周边整顿氦气的流动，抑制紊流产生，进而抑制第2磁盘62a摇晃的盘颤动。由此，内周面23a能够提高磁头14相对于第2磁盘62a的定位精度。
133.而且，在与第2磁盘62b相邻的第3间隙g3及第4间隙g4不配置多个叶片53的任何一个。但是，作为护罩的壁部52的内周面52a将第2磁盘62b的外缘12b从旋转轴ax的径向的外侧覆盖。由此，内周面52a能够在第2磁盘62b的周边整顿氦气的流动，抑制紊流产生，进而抑制第2磁盘62b摇晃的盘颤动。由此，内周面23a能够提高磁头14相对于第2磁盘62b的定位精度。
134.如图6所示，在第2实施方式中，壁部52的一部分从筒部51朝向周壁22延伸。壁部52的内周面52a与周壁22的内周面22a无间隙地或隔着稍微的间隙而相邻。因而，扰流器19能够抑制内周面22a、52a之间的间隙降低护罩对盘颤动的抑制效果。
135.在以上说明的第2实施方式的hdd10中，扰流器19具有绕着旋转轴ax延伸并且朝向多个第1磁盘61及至少一个第2磁盘62b的外缘12b的内周面52a。多个第1叶片65从内周面52a突出，位于多个间隙g中的设置于多个第1磁盘61之间的多个第1间隙g1，且位于多个间隙g中的设置于多个第1磁盘61与至少一个第2磁盘62b之间的第3间隙g3之外。即，在多个第1间隙g1配置第1叶片65，在第3间隙g3不配置第1叶片65。多个第1叶片65通过位于多个第1间隙g1，能够提高磁头14相对于多个第1磁盘61的定位精度。另一方面，绕着旋转轴ax延伸的内周面52a朝向第2磁盘62b。即，内周面52a是与第2磁盘62b的外缘12b大致同心的圆弧状的曲面，覆盖第2磁盘62b的外缘12b。因而，内周面52a通过作为所谓的护罩发挥功能，能够在第2磁盘62b的附近整顿流体的流动，抑制紊流产生。由此，内周面52a能够抑制第2磁盘62b的盘颤动。因此，内周面52a能够提高磁头14相对于第2磁盘62b的定位精度。如以上这样，本实施方式的hdd10不用在第3间隙g3配置第1叶片65，就能够提高磁头14相对于第2磁盘62b的定位精度。
136.扰流器19具有绕着旋转轴ax延伸并且朝向多个第1磁盘61及至少一个第2磁盘62b
的外缘12b的内周面52a。多个第1叶片65从内周面52a突出，位于多个间隙g中的设置于多个第1磁盘61之间的多个第1间隙g1，位于多个间隙g中的设置于多个第1磁盘61与至少一个第2磁盘62b之间的第3间隙g3之外，且位于设置于至少一个第2磁盘62a与至少一个第2磁盘62b之间的第4间隙g4之外。壳体11具有与内周面52a在轴向上排列且绕着旋转轴ax延伸并且朝向至少一个第2磁盘62a的外缘12b的内周面23a。即，在多个第1间隙g1配置第1叶片65，在第3间隙g3及第4间隙g4不配置第1叶片65。多个第1叶片65通过位于多个第1间隙g1，能够提高磁头14相对于多个第1磁盘61的定位精度。另一方面，绕着旋转轴ax延伸的内周面52a朝向第2磁盘62b。另外，绕着旋转轴ax延伸的内周面23a朝向第2磁盘62a。内周面23a、52a通过作为所谓的护罩发挥功能，能够在第2磁盘62a、62b的附近整顿流体的流动，抑制紊流产生。由此，内周面23a、52a能够抑制第2磁盘62a、62b的盘颤动。因此，内周面23a、52a能够提高磁头14相对于第2磁盘62a、62b的定位精度。如以上这样，本实施方式的hdd10不用在第3间隙g3及第4间隙g4配置第1叶片65，就能够提高磁头14相对于第2磁盘62a、62b的定位精度。
137.根据以上说明的至少一个实施方式，盘装置具备多个记录介质、多个磁头、扰流器及壳体。所述记录介质分别具有记录面，能够绕着在与所述记录面交叉的轴向上延伸的旋转轴旋转，在所述轴向上排列。所述磁头构成为对所述多个记录介质读写信息。所述扰流器具有位于设置于所述多个记录介质之间的多个间隙的多个第1叶片。所述壳体设置有收容所述多个记录介质、所述多个磁头及所述扰流器的内室。所述多个第1叶片的数量比所述多个间隙的数量少。通过盘状的记录介质旋转，会产生内室中的流体的流动。扰流器的第1叶片能够在多个记录介质之间的间隙中抑制流体的流动紊乱，进而抑制记录介质摇晃的盘颤动。而且，第1叶片能够抑制流体的流动向位于多个记录介质之间的磁头抵碰。由此，第1叶片能够提高磁头相对于记录介质的定位精度。另一方面，例如，在记录介质的数量多的情况下，第1叶片的数量也变多，并且轴向上的扰流器的长度也变长。然而，硬盘驱动器这样的盘装置的轴向上的尺寸有时例如会被规格制约。因而，在记录介质的数量多的情况下，根据扰流器及壳体的构造，有时难以在全部的间隙配置第1叶片。相对于此，在本实施方式的盘装置中，多个第1叶片的数量比多个间隙的数量少。即，在多个间隙中的至少一个不配置第1叶片。因而，不用大幅变更扰流器及壳体的构造，就能够通过第1叶片来使磁头相对于多个记录介质中的期望的记录介质的定位精度提高。
138.在以上的说明中，抑制例如被定义为防止现象、作用或影响的产生或者使现象、作用或影响的程度降低。另外，在以上的说明中，限制例如被定义为防止移动或旋转或者在预定的范围内容许移动或旋转并且防止超过了该预定的范围的移动或旋转。
139.虽然说明了本发明的一些实施方式，但这些实施方式作为例子而展示，未意图限定发明的范围。这些新颖的实施方式能够以其他各种各样的方式来实施，能够在不脱离发明的主旨的范围内进行各种省略、置换、变更。这些实施方式及其变形包含于发明的范围、主旨，并且包含于权利要求书所记载的发明及其等同的范围。

技术特征：

1.一种盘装置，具备：多个记录介质，分别具有记录面，能够绕着在与所述记录面交叉的轴向上延伸的旋转轴旋转，在所述轴向上排列；多个磁头，构成为对所述多个记录介质读写信息；扰流器，具有位于设置于所述多个记录介质之间的多个间隙的多个第1叶片；及壳体，设置有收容所述多个记录介质、所述多个磁头及所述扰流器的内室，所述多个第1叶片的数量比所述多个间隙的数量少。2.根据权利要求1所述的盘装置，所述多个记录介质包括在所述轴向上排列的多个第1记录介质和从所述多个第1记录介质在所述轴向上离开的至少一个第2记录介质，所述多个第1记录介质及所述至少一个第2记录介质分别具有绕着所述旋转轴延伸的外缘，所述扰流器具有朝向所述多个第1记录介质的所述外缘的侧面，所述多个第1叶片从所述侧面突出，位于所述多个间隙中的设置于所述多个第1记录介质之间的多个第1间隙，且位于所述多个间隙中的设置于所述多个第1记录介质与所述至少一个第2记录介质之间的第2间隙之外，所述壳体具有与所述侧面在所述轴向上排列且绕着所述旋转轴延伸并且朝向所述至少一个第2记录介质的所述外缘的第1内周面。3.根据权利要求1所述的盘装置，所述多个记录介质包括在所述轴向上排列的多个第1记录介质和从所述多个第1记录介质在所述轴向上离开的至少一个第2记录介质，所述多个第1记录介质及所述至少一个第2记录介质分别具有绕着所述旋转轴延伸的外缘，所述扰流器具有绕着所述旋转轴延伸并且朝向所述多个第1记录介质及所述至少一个第2记录介质的所述外缘的侧面，所述多个第1叶片从所述侧面突出，位于所述多个间隙中的设置于所述多个第1记录介质之间的多个第1间隙，且位于所述多个间隙中的设置于所述多个第1记录介质与所述至少一个第2记录介质之间的第2间隙之外。4.根据权利要求1所述的盘装置，所述多个记录介质包括在所述轴向上排列的多个第1记录介质、从所述多个第1记录介质在所述轴向上离开的至少一个第2记录介质及位于所述多个第1记录介质与所述至少一个第2记录介质之间的至少一个第3记录介质，所述多个第1记录介质、所述至少一个第2记录介质及所述至少一个第3记录介质分别具有绕着所述旋转轴延伸的外缘，所述扰流器具有绕着所述旋转轴延伸并且朝向所述多个第1记录介质及所述至少一个第3记录介质的所述外缘的侧面，所述多个第1叶片从所述侧面突出，位于所述多个间隙中的设置于所述多个第1记录介质之间的多个第1间隙，位于所述多个间隙中的设置于所述多个第1记录介质与所述至少一个第3记录介质之间的第3间隙之外，且位于设置于所述至少一个第2记录介质与所述至少
一个第3记录介质之间的第4间隙之外，所述壳体具有与所述侧面在所述轴向上排列且绕着所述旋转轴延伸并且朝向所述至少一个第2记录介质的所述外缘的第1内周面。5.根据权利要求2或4所述的盘装置，所述壳体具有绕着所述旋转轴延伸并且朝向所述多个第1记录介质及所述至少一个第2记录介质的所述外缘的第2内周面，所述第1内周面从所述第2内周面绕着所述旋转轴延伸。6.根据权利要求2或4所述的盘装置，所述壳体具备具有所述第1内周面的壁和在所述轴向上延伸的轴，所述壁具有朝向所述轴向并且支承所述扰流器的支承面，所述轴以从所述支承面突出的方式安装于所述壁，所述扰流器设置有在所述轴向上延伸的孔，并通过所述轴嵌入到所述孔而以能够绕着所述轴旋转的方式安装于所述壁。7.根据权利要求2或4所述的盘装置，在所述轴向上，所述第1内周面的长度比所述多个间隙中的一个的长度长。8.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，所述多个记录介质的数量为10个以上。9.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，在所述内室填充有氦。10.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，还具备位于所述壳体的外部并且在与所述旋转轴正交的径向上从所述多个记录介质离开的基板。11.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，还具备：致动器，构成为使所述多个磁头沿着所述记录面移动；及柔性印制布线板，具有安装于所述壳体的安装部和从所述安装部延伸并且连接于所述致动器的可挠部，所述内室具有收容所述多个记录介质的第1室和收容所述扰流器及所述安装部并且与所述第1室连通的第2室，所述壳体具有所述第1室及所述第2室被开放的所述轴向上的端部、朝向所述多个记录介质的所述轴向上的所述第1室的第1底面及安装有所述安装部的所述轴向上的所述第2室的第2底面，在所述轴向上，所述第1底面与所述端部之间的距离比所述第2底面与所述端部之间的距离长。12.根据权利要求1～4中任一项所述的盘装置，还具备安装于所述壳体且覆盖所述内室的罩，所述扰流器具有位于所述罩与所述多个记录介质之间的第2叶片，在与所述旋转轴正交的径向上，所述多个第1叶片的长度互相相等，所述第2叶片的长度比所述多个第1叶片各自的长度短。13.一种盘装置，具备：
壳体；多个记录介质，分别具有记录面，以能够在所述壳体内旋转的方式被支承；多个磁头，构成为对所述多个记录介质读写信息；及扰流器，具有设置于所述多个记录介质之间的多个叶片，所述多个记录介质的数量为n张，所述多个叶片的数量为(n-2)张以下。

技术总结

实施方式提供能够抑制磁头相对于记录介质的定位精度的下降的盘装置。一个实施方式的盘装置具备多个记录介质、多个磁头、扰流器及壳体。所述记录介质分别具有记录面，能够绕着在与所述记录面交叉的轴向上延伸的旋转轴旋转，在所述轴向上排列。所述磁头构成为对所述多个记录介质读写信息。所述扰流器具有位于设置于所述多个记录介质之间的多个间隙的多个第1叶片。所述壳体设置有收容所述多个记录介质、所述多个磁头及所述扰流器的内室。所述多个第1叶片的数量比所述多个间隙的数量少。个第1叶片的数量比所述多个间隙的数量少。个第1叶片的数量比所述多个间隙的数量少。

技术研发人员：

冢田伸治

受保护的技术使用者：

东芝电子元件及存储装置株式会社

技术研发日：

2021.08.09

技术公布日：

2022/9/29