一种线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置的制作方法

1.本实用新型涉及一种蒸镀装置，具体是一种线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置。

背景技术：

2.在现有线型蒸发源中，放置材料的坩埚及坩埚盖通过螺栓进行连接，加工时坩埚及坩埚盖均会留有一定公差以便安装正常，因此在连接时坩埚及坩埚盖实际会存在很小的缝隙。而在加热过程中材料会被升华到分子或原子大小，易从坩埚与坩埚盖的连接缝隙中泄漏。材料泄漏对昂贵的材料来说是一种不必要的额外消耗，同时导致线型蒸发源内部清洁频率增高，耗费人力物力，急需改善。现有技术通过防材料泄漏硬件来减小材料泄漏量，但难以完全去除；现有技术通过定期维护清洗线型蒸发源内部达到清洁状态。
3.现有技术的不足：1、材料泄漏一般无法完全根除，硬件不断优化后件依然存在一定材料的泄漏；2、泄漏材料在线型蒸发源中运动并沉积到底部的冷却板上形成材料层，需定期进行较复杂的维护清洗。

技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
6.一种线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，包括坩埚，还包括：
7.坩埚盖，密封盖设于所述坩埚的顶部；
8.喷嘴，穿设于所述坩埚盖上并与坩埚连通，为蒸镀过程中材料从坩埚散发的喷射口；
9.外壳，密封包围设置在坩埚的外部，使得坩埚以及坩埚盖密封设置在外壳内，喷嘴的端部由所述外壳穿出；
10.加热丝，固定安装在所述外壳内部，为线型蒸发源提供热量；
11.冷却板，设置于所述外壳的底部并作为所述外壳的底板，所述冷却板内嵌装有冷却管道；
12.材料吸引块，固定安装在所述冷却板上，材料吸引块与冷却板导热接触并形成高度间温度差。
13.作为本实用新型进一步的方案：还包括线型蒸发源内反射板，所述线型蒸发源内反射板固定安装在所述外壳内部并与所述加热丝对称分布。
14.作为本实用新型进一步的方案：所述冷却板使用sus304材质。
15.作为本实用新型进一步的方案：所述材料吸引块的数量有两个并对称分布。
16.作为本实用新型进一步的方案：所述材料吸引块的横截面呈u型。
17.作为本实用新型进一步的方案：所述材料吸引块与冷却板通过螺纹配合连接。
18.作为本实用新型进一步的方案：所述冷却板内部的所述冷却管道集中在所述材料吸引块处。
19.作为本实用新型进一步的方案：所述材料吸引块高度低于所述坩埚底部且高于所述冷却板10mm。
20.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
21.本实用结构简单，使用方便，通过安装材料吸引块，能够更有效的解决在蒸镀过程中泄漏材料分子不断在冷却板上快速沉积的技术问题，缩减了线型蒸发源的维护保养时间，提高了线型蒸发源清洁度，降低了人力、物力、时间成本的投入，节省了维护工序的进行，提高了生产率。
附图说明
22.图1为线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置的结构示意图；
23.图2为线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置中材料吸引块的安装示意图；
24.图中：喷嘴101、坩埚盖102、坩埚103、第一材料分子201、第二材料分子202、材料吸引块301、冷却板401、线型蒸发源内反向射板402、外壳 403、加热丝404、螺栓405、冷却管道406。
具体实施方式
25.为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。
26.请参阅图1～2，本实施例，一种线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，包括：
27.坩埚103，坩埚103受热使材料升华或融化进而促进材料分子运动，坩埚表体温度较高；
28.坩埚盖102，密封盖设于所述坩埚103的顶部，为坩埚103与喷嘴101之间的连接中介，因与喷嘴101及坩埚103均存在连接处，连接处存在材料泄漏风险；
29.喷嘴101，穿设于所述坩埚盖102上并与坩埚103连通，为蒸镀过程中材料从坩埚103散发的喷射口，对于与坩埚盖102非一体型的喷嘴，因与坩埚盖102之间通过其他方式连接，通常有第一材料分子201及第二材料分子202 泄漏风险。需要提醒的是，所述的第一材料分子201和第二材料分子202为同一种材料分子，均为蒸发材料受热后产生，仅存在泄漏位置的区分，具体的，第一材料分子201，由喷嘴101与坩埚盖102连接处泄漏的有机材料分子，第二材料分子202，由坩埚盖102与坩埚103连接处泄漏的有机材料分子；
30.外壳403，密封包围设置在坩埚103的外部，使得坩埚103以及坩埚盖 102密封设置在外壳403内，喷嘴101的端部由所述外壳403穿出，在蒸镀过程中存在别泄漏材料污染的风险，通过外壳403的密封包围设置，使得泄漏材料能够聚集并沉积在外壳403内部，便于二次回收利用，降低材料损耗，同时减小环境污染；
31.加热丝404，固定安装在所述外壳403内部，为线型蒸发源提供热量，使得材料分子溢出，同时因为其高温特性，溢出的第一材料分子201及第二材料分子202难以在其上附着沉积；
32.线型蒸发源内反射板402，固定安装在所述外壳403内部并与所述加热丝 404对称
分布，其作用在于反射加热丝404产生的热量，为线型蒸发源提供保温效果，同时因为镜面特性及高温特性，溢出的第一材料分子201及第二材料分子202同样难以在其上附着沉积；
33.冷却板401，使用sus304材质，设置于所述外壳403的底部并作为所述外壳403的底板，所述冷却板401内嵌装有冷却管道406，外部冷源流经冷却管道406时与冷却板401换热，其保证热传导性的基础上，能够进一步减少物料成本；
34.材料吸引块301，其数量有两个，横截面呈u型，固定安装在所述冷却板401上，利用冷却管道406内流动的冷媒为材料吸引块301降温，从而制造高度间温度差，使得材料吸引块301可以利用高度温度差充分吸引泄漏的第一材料分子201及第二材料分子202，进而起到沉积101喷嘴101与102
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坩埚盖102连接处以及坩埚盖102与坩埚103连接处泄漏材料的作用。
35.材料吸引块301与冷却板401通过螺纹405配合连接，见附图2，安装时只要将材料吸引块301的螺纹孔与冷却板401螺纹旋紧即可进行有效配合且连接牢固，材料吸引块301高度低于坩埚103底部且高于冷却板401约10mm，与其他部位无干涉情况。拆卸时，只需旋开材料吸301引块即可。
36.为了使材料吸引块301的温度更快降低，因此冷却板401内部的冷却管道406集中在材料吸引块301处。
37.具体的材料吸引过程：
38.未安装材料吸引块301时，材料分子在一定温度下高速运动，绝大部分材料分子从喷嘴101喷出并沉积到基板上，少量材料分子从喷嘴101与坩埚盖102连接处及坩埚盖102与坩埚103连接处泄漏，泄漏后在源内做无规则运动，能量失去后将沉积在结构板上，因坩埚103底部的冷却板401相对于源内其他部位温度更低，以温度差为推动力，材料分子进行热扩散，大部分泄漏材料分子将沉积在温度低的冷却板401上；安装材料吸引块301后，其顶部高于冷却板401约10mm，在此高度上材料吸引块301与冷却板401温度相似，抢夺向下层高度运动的材料分子并沉积，以此来达到使用材料吸引块 301来捕捉绝大部分泄漏的材料，起到降低有机材料在冷却板401上累积材料速度的作用。拆卸时，因材料吸引块301与冷却板401之间只通过螺栓405 配合，只需将材料吸引块301旋开即可；使用备件安装时，只需将材料吸引块301旋紧即可，操作简单快捷，吸引材料效果显著。
39.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
或“包含
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的要素。此外，在本文中，“大于”、“小于”、“超过”等理解为不包括本数；“以上”、“以下”、“以内”等理解为包括本数。
40.尽管已经对上述各实施例进行了描述，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改，所以以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利保护范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容
所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围之内。

技术特征：

1.一种线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，包括坩埚，其特征在于：还包括：坩埚盖，密封盖设于所述坩埚的顶部；喷嘴，穿设于所述坩埚盖上并与坩埚连通，为蒸镀过程中材料从坩埚散发的喷射口；外壳，密封包围设置在坩埚的外部，使得坩埚以及坩埚盖密封设置在外壳内，喷嘴的端部由所述外壳穿出；加热丝，固定安装在所述外壳内部，为线型蒸发源提供热量；冷却板，设置于所述外壳的底部并作为所述外壳的底板，所述冷却板内嵌装有冷却管道；材料吸引块，固定安装在所述冷却板上，材料吸引块与冷却板导热接触并形成高度间温度差。2.根据权利要求1所述的线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，其特征在于：还包括线型蒸发源内反射板，所述线型蒸发源内反射板固定安装在所述外壳内部并与所述加热丝对称分布。3.根据权利要求1所述的线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，其特征在于：所述冷却板使用sus304材质。4.根据权利要求1所述的线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，其特征在于：所述材料吸引块的数量有两个并对称分布。5.根据权利要求1所述的线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，其特征在于：所述材料吸引块的横截面呈u型。6.根据权利要求1所述的线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，其特征在于：所述材料吸引块与冷却板通过螺纹配合连接。7.根据权利要求1所述的线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，其特征在于：所述冷却板内部的所述冷却管道集中在所述材料吸引块处。8.根据权利要求1所述的线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，其特征在于：所述材料吸引块高度低于所述坩埚底部且高于所述冷却板10mm。

技术总结

本实用新型公开了一种线型蒸发源吸引泄漏材料沉积的装置，包括坩埚，还包括：坩埚盖，密封盖设于所述坩埚的顶部；喷嘴，穿设于所述坩埚盖上并与坩埚连通，为蒸镀过程中材料从坩埚散发的喷射口；外壳，密封包围设置在坩埚的外部，使得坩埚以及坩埚盖密封设置在外壳内，喷嘴的端部由所述外壳穿出；加热丝，固定安装在所述外壳内部，为线型蒸发源提供热量；冷却板，设置于所述外壳的底部并作为所述外壳的底板，所述冷却板内嵌装有冷却管道；材料吸引块，固定安装在所述冷却板上，材料吸引块与冷却板导热接触并形成高度间温度差，还包括线型蒸发源内反射板，所述线型蒸发源内反射板固定安装在所述外壳内部并与所述加热丝对称分布。在所述外壳内部并与所述加热丝对称分布。在所述外壳内部并与所述加热丝对称分布。