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用于光固化3D打印的薄膜结构以及光固化3D打印机[实用新型专利]

专利名称：用于光固化3D打印的薄膜结构以及光固化3D打印机

专利类型：实用新型专利

m2卡发明人：林泽航，李厚民人山

申请号：CN202121093176.8

申请日：20210520

公开号：CN215970385U

胞苷酸

公开日：

20220308

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本申请公开了一种用于光固化3D打印的薄膜结构以及光固化3D打印机。该薄膜结构于不同区域上相同单位面积的离型力不相等。本申请提供的薄膜结构，用于与光敏树脂接触，能够应用于光固化3D打印，并使得成型物在从该薄膜结构剥离的过程中，可以通过施加较小的剥离拉力以及执行较短的离型行程来完成剥离动作，从而利于加快成型物的剥离速度，提升光固化3D打印速度。

申请人：深圳市予泽科技有限公司

地址：518000 广东省深圳市宝安区福海街道新田社区新塘路荔园卓成楼418

国籍：CN

代理机构：北京中知君达知识产权代理有限公司氢化松香

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本文发布于:2024-09-24 05:27:09，感谢您对本站的认可！

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