微电子工艺清洗技术的应用分析作者：张爽来源：《科学与财富》2018年第10期 摘 要：当前的社会是一个高速发展的社会，其主要依赖的就是科技的进步。而在当前的科技中，最为高端的就是微电子产业。其承载的主要作用就是制作一些精密的电子仪器。尤其是手机，电脑一类，但是在进行微电子产品制作的时候，却存在着很多的问题，其中主要是对于硅片的清洗工作。因为微电子中使用的硅片一般体积较小，这就让清洗的工作变得非常的困难。如果更好的进行硅片的清洗就成为了当前最为重要的一个课题。本文就从当前的微电子清洗情况进行探究，来得出如何更好的在微电子工艺领域进行清洗技术的应用。 关键词：微电子行业；新型湿法清洗工艺；应用
在当前来看，微电子工艺主要的用途就是将一些精密仪器变得更加的微型，更加的精密。但是，在微电子工业的生产中，却常常存在着一个问题，那就是硅片的清洗较为困难。这主要是因为硅片的清洗在微电子产品的生产中是非常重要的一个部分。因此就需要强化硅片清洗的能力，才能够保证工厂正常的运行。
一、微电子工艺清洗的必要性
众所周知，微电子工艺最核心的部分就是硅片的运用，这些硅片就是微电子核心最基础的组成部分，其主要承载的就是运行和储存的任务。因此，在进行硅片处理的时候，是一定要小心的。而且，许多的公司在得到硅片的时候，都是硅片的原始状态，这样原始状态的硅片其实是非常难以进行运用的。因为其不仅质量参差不齐，更是有着许多的污渍。这些污渍会严重的影响到硅片的使用，让一些硅片无法发挥作用。因此就需要对硅片进行清洗，但是这种清洗却不是简单的清洗。因为硅片是一种较为脆弱的电子元件，如果单纯的使用水流冲洗，那么就会对硅片造成致命的损伤。所以，就需要采用特殊的办法去清理硅片上的污渍，这样才能够让硅片得以保存完好，并且付诸使用。因此，如何清洗硅片一直是微电子公司最头疼的问题。因为硅片上的污渍是分为很多的类型的，不可能都采用同一种方法进行清洗。因此就需要采用特别多的方法进行清洗，这也极大的耽误了工作的效率。所以就需要进行清洗技术的升级，这样才能够提高工作的效率，接下来笔者就为大家介绍污染物的种类有哪些。
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