光刻工艺讲义

第六章光刻工艺第六章
第一节引言---集成电路中的图形
集成电路发展趋势
引言---基本概念(1)光刻
正胶光刻与负胶光刻引言-基本概念(2)VLSI对光刻工艺的要求光刻工艺控制
第二节光刻胶---化学性质与作用光刻胶的组成
光刻胶的分类正胶和负胶的显影后剖面
第三节光学光刻

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标签:光刻   负胶   工艺   正胶
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