635纳米的窄带滤光片及其制作方法

635纳米的窄带滤光片及其制作方法

技术领域

本发明涉及一种光学薄膜技术，具体是635纳米的窄带滤光片及其制作方法。

背景技术

窄带滤光片的主要作用是对光进行光谱选择，使需要的光通过，不需要的波长光截止，它作为滤光和选择谱线的主要器件，有着广泛的应用。635纳米波长作为一种激光测距的光谱波长，现在的技术所提供的635纳米的窄带滤光片，其信噪比低，精度不高，不能满足市场要求。

发明内容

为了解决上述技术问题，我们提供一种635纳米窄带滤光片及其制作方法，从而实现成本低、特性良好、截止区域内截止深度小于3OD、透过率大于90%、具有良好信噪比、满足高精度的测量仪器的苛刻需要。

为达到上述目的，本发明的技术方案如下：

本发明公开一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法，其特征是：

① 以玻璃为基板，表面的质量优于60/40；

② 镀膜材料为SiO2和TiO2；

③ 膜系结构为基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为24层，由内到外的材料及厚度分别为TiO2层29纳米、SiO2层132纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层90纳米、SiO2层121纳米；第二膜系为68层，由内到外的材料及厚度分别为TiO2层28纳米、SiO2层62纳米、TiO2层48纳米、SiO2层73纳米、TiO2层44纳米、SiO2层67纳米、TiO2层41纳米、SiO2层66纳米、TiO2层41纳米、SiO2层70纳米、 TiO2层39纳米、SiO2层62纳米、TiO2层37纳米、SiO2层63纳米、TiO2层34纳米、SiO2层68纳米、TiO2层53纳米、SiO2层81纳米、TiO2层47纳米、SiO2层77纳米、 TiO2层50纳米、SiO2层84纳米、TiO2层59纳米、SiO2层83纳米、TiO2层49纳米、SiO2层77纳米、TiO2层49纳米、SiO2层84纳米、TiO2层61纳米、SiO2层85纳米、TiO2层48纳米、SiO2层72纳米、TiO2层36纳米、SiO2层75纳米、TiO2层92纳米、SiO2层152纳米、TiO2层97纳米、SiO2层145纳米、TiO2层83纳米、SiO2层144纳米、TiO2层90纳米、SiO2层145纳米、TiO2层85纳米、SiO2层144纳米、TiO2层88纳米、SiO2层145纳米、TiO2层88纳米、SiO2层147纳米、TiO2层93纳米、SiO2层149纳米、TiO2层101纳米、SiO2层170纳米、TiO2层111纳米、SiO2层178纳米、TiO2层103纳米、SiO2层169纳米、TiO2层105纳米、SiO2层175纳米、TiO2层108纳米、SiO2层173纳米、TiO2层104纳米、SiO2层173纳米、TiO2层107纳米、SiO2层173纳米、TiO2层108纳米、SiO2层170纳米、TiO2层103纳米、SiO2层84纳米。

本发明公开一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法，其特征为以玻璃为基板，以SiO2和TiO2为镀膜材料，采用电子束蒸发，真空度＜10^-3pa，温度在小于250℃以下的条件下，加以离子辅助沉积，采用反射光的间接式的控制，水晶监控沉积速率以保持其稳定的沉积速率，沉积速率少于8Å/S。

本发明在玻璃基板的两面，一面采用标准F-P结构进行，而另一面是一个截止次峰结构，这是一种非常优异的方法，可以大大提高产品特性，特别适用于大批量生产，物理特性也满足实际使用要求。

本发明提供一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法，透过率T＞90%，截止区域的截止深度小于0.1%，获得优异的信噪比，比目前市场上的产品的性能有了大幅度的提高。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一个实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例的结构示意图。

图中：11是玻璃基板 12是第一膜系 13是第二膜系。

图2为本发明实施例的测量曲线图。

实施例

下面结合实施例和具体实施方式对本发明作进一步详细的说明。

本发明公开一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法，其特征是：

① 以玻璃为基板，表面的质量优于60/40；

② 镀膜材料为SiO2和TiO2；

③ 膜系结构为基板两个表面上分别沉积多层薄膜，第一膜系为24层，由内到外的材料及厚度分别为TiO2层29纳米、SiO2层132纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层68纳米、SiO2层431纳米、TiO2层68纳米、SiO2层108纳米、TiO2层90纳米、SiO2层121纳米；第二膜系为68层，由内到外的材料及厚度分别为TiO2层28纳米、SiO2层62纳米、TiO2层48纳米、SiO2层73纳米、TiO2层44纳米、SiO2层67纳米、TiO2层41纳米、SiO2层66纳米、TiO2层41纳米、SiO2层70纳米、 TiO2层39纳米、SiO2层62纳米、TiO2层37纳米、SiO2层63纳米、TiO2层34纳米、SiO2层68纳米、TiO2层53纳米、SiO2层81纳米、TiO2层47纳米、SiO2层77纳米、 TiO2层50纳米、SiO2层84纳米、TiO2层59纳米、SiO2层83纳米、TiO2层49纳米、SiO2层77纳米、TiO2层49纳米、SiO2层84纳米、TiO2层61纳米、SiO2层85纳米、TiO2层48纳米、SiO2层72纳米、TiO2层36纳米、SiO2层75纳米、TiO2层92纳米、SiO2层152纳米、TiO2层97纳米、SiO2层145纳米、TiO2层83纳米、SiO2层144纳米、TiO2层90纳米、SiO2层145纳米、TiO2层85纳米、SiO2层144纳米、TiO2层88纳米、SiO2层145纳米、TiO2层88纳米、SiO2层147纳米、TiO2层93纳米、SiO2层149纳米、TiO2层101纳米、SiO2层170纳米、TiO2层111纳米、SiO2层178纳米、TiO2层103纳米、SiO2层169纳米、TiO2层105纳米、SiO2层175纳米、TiO2层108纳米、SiO2层173纳米、TiO2层104纳米、SiO2层173纳米、TiO2层107纳米、SiO2层173纳米、TiO2层108纳米、SiO2层170纳米、TiO2层103纳米、SiO2层84纳米。

通过上述技术方案，本发明通过采用玻璃为基板，以SiO2和TiO2为镀膜材料，采用电子束蒸发，真空度＜10^-3pa，温度在小于250℃以下的条件下，加以离子辅助沉积，采用反射光的间接式的控制，水晶监控沉积速率以保持其稳定的沉积速率，沉积速率少于8 Å/S。透过率T＞90%，半通带宽度为25纳米，通带以外区域0.4-1.1μTave的截止深度小于0.1%，所述性能的635纳米窄带滤光片为特性优异的窄带滤光片。

以上所述的仅是本发明的一种635纳米的窄带滤光片及其制作方法优选的实施方式，应当指出，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变化和改进，这些都属于本发明的保护范围。