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压力损失生成设备和压力损失生成设备的使用的制作方法

1.本发明涉及一种压力损失生成设备，带有具有工艺气体流入入口、工艺气体流入出口、工艺气体流入口纵向中轴线和工艺气体流入口横截面的工艺气体流入口，带有具有工艺气体分配器纵向中轴线、工艺气体分配器横截面、布置在第一端面上的工艺气体分配器入口和布置在第二端面上的工艺气体分配器出口的工艺气体分配器，且带有包括工艺气体流出入口、工艺气体流出出口、工艺气体流出口纵向中轴线和工艺气体流出口横截面的工艺气体流出口，其中，工艺气体流入口与工艺气体分配器的第一端面且工艺气体分配器的第二端面与工艺气体流出口如此地相连接，使得构造连续的流动路径。

背景技术：

2.所有布置在例如由工艺气体穿流的管道中的构件、如阀、滑块或类似物引起压力损失。由此，这些构件自长久以来属于现有技术。
3.对于这些构件不利的是，即，这些构件不匹配于振荡工艺气体流动的出现的压力波动。

技术实现要素：

4.因此，本发明的任务是提供一种压力损失生成设备，其中，在压力损失生成设备中所生成的压力损失匹配于振荡工艺气体流动的在工艺气体中出现的压力波动。
5.该任务在上述形式的压力损失生成设备的情形中通过以下来解决，即，工艺气体流入口和工艺气体流出口如此地彼此相对布置，使得工艺气体流入口纵向中轴线和工艺气体流出口纵向中轴线彼此偏移地布置。工艺气体流动的压力损失在压力损失生成设备中尤其通过工艺气体流入口和工艺气体流出口的流动横截面的减小以及通过在工艺气体分配器中的工艺气体流动的偏转来获得。实现必要压力损失的另外的可能性是在工艺气体流入口、工艺气体分配器和工艺气体流出口的几何形状中的变化，或者上述构件的纵向伸展的延长。压力损失生成设备的优点是在压力损失生成设备中生成的压力损失匹配于振荡工艺气体流的出现的压力波动(例如谐振压力幅度)。
6.根据压力损失生成设备的一种就此而言有利的设计方案，工艺气体流入口纵向中轴线、工艺气体流出口纵向中轴线和工艺气体分配器纵向中轴线布置在垂直于参考平面的共同的参考平面中。由此以非常简单的形式和方式确保如下，即，流动穿过压力损失生成设备的工艺气体流动经历在压力损失生成设备中的偏转。
7.根据压力损失生成设备的一种附加的有利的改进方案，在压力损失生成设备的使用位置中工艺气体流入口纵向中轴线相比工艺气体流出口纵向中轴线处在更高的高度水平上。
8.相应于压力损失生成设备的另一有利的设计方案，工艺气体流入口横截面和工艺气体流出口横截面布置在包含工艺气体分配器纵向中轴线的参考平面的彼此相反的侧面上。由此确保如下，即，流动穿过压力损失生成设备的工艺气体流动经历在压力损失生成设
备中的偏转。
9.在一种优选的压力损失生成设备中，在工艺气体流入口纵向中轴线与工艺气体流出口纵向中轴线之间的被投影到工艺气体分配器的第一或第二端面上的距离大于或等于工艺气体流入半径和工艺气体流出半径的总和。由此确保如下，即，在压力损失生成设备中实现工艺气体的偏转。
10.根据压力损失生成设备的一种附加的有利的深造方案，工艺气体流入口横截面大于或等于工艺气体流出口横截面。由此，工艺气体流动在由工艺气体流入口至工艺气体分配器的过渡中经历第一次偏转和工艺气体速度的降低，且紧接着在由工艺气体分配器至工艺气体流出口的过渡中经历第二次偏转和工艺气体速度的提高。
11.根据压力损失生成设备的另一有利的改进方案，工艺气体流入口横截面和工艺气体流出口横截面呈圆形地构造。由此存在容易地通过使用具有不同横截面的呈柱形的管件制造压力损失生成设备的可能性。
12.在压力损失生成设备中，相应于一种附加的有利的设计方案，工艺气体流入出口面和工艺气体分配器入口面相同大小且重合地构造且/或工艺气体分配器出口面和工艺气体流出入口面相同大小且重合地构造。由此，在工艺气体流入口与工艺气体分配器之间或者在工艺气体分配器与工艺气体流出口之间的过渡区域中工艺气体不积聚，从而工艺气体流动仅经历必要的压力损失。
13.压力损失生成设备此外通过如下出众，即，在工艺气体流入口与工艺气体分配器之间布置有扩散器且/或在工艺气体分配器与工艺气体流出口之间布置有喷嘴。优选地，扩散器在工艺气体的流动方向上连续扩大且/或喷嘴在工艺气体的流动方向上连续逐渐变细。进一步优选地，扩散器和喷嘴在其相应的纵向中轴线上具有不同的长度。通过扩散器在工艺气体流入口与工艺气体分配器之间或者喷嘴在工艺气体分配器与工艺气体流出口之间的容纳，工艺气体流动的动能被转换成压力能或相反，其中，这样的转换优选地通过流动横截面的连续扩大实现。这可在几何形状上以不同的方式实现，例如通过锥形或呈喇叭颈状构造的扩散器或锥形或呈喇叭颈状构造的喷嘴。
14.根据优选的压力损失生成设备的一种附加的有利的设计方案，压力损失生成设备、尤其工艺气体分配器构造成中空腔。压力损失生成设备由此内部中空地构造，也就是说其是空的，且例如没有过滤元件或类似物布置在其中。
15.压力损失生成设备特别优选地被使用在用于制造且/或处理在振荡的、优选地热的工艺气体流、尤其脉冲反应器中的颗粒的反应器系统。对此的优点是，压力损失生成设备在几何形状上限制了可振荡的或者在运行状态中振荡的系统。系统越受限，在系统中的谐振振荡的生成和传播越有效。在压力损失生成设备中的压力损失通过以下出现，即，压力损失生成设备作为反应器系统的部分由于构造成声学谐振器的反应器系统的激励同样经历激励，从而在运行状态中压力损失生成设备在振荡系统中有效地防止谐振振荡超出系统的传播。
附图说明
16.随后本发明借助附图作更详细阐释，其中：图1显示了优选的压力损失生成设备的第一实施形式的截面图示，
图2显示了朝向优选的压力损失生成设备的第一实施形式的垂直于工艺气体流入口纵向中轴线定向的参考平面d的俯视图，图3显示了优选的压力损失生成设备的第二实施形式的截面图示，图4显示了朝向优选的压力损失生成设备的第二实施形式的垂直于工艺气体流入口纵向中轴线定向的参考平面d的俯视图，图5显示了优选的压力损失生成设备的第三实施形式的截面图示，且图6显示了使用压力损失生成设备的构造成振荡系统的反应器系统的示意性图示。
具体实施方式
17.如果不进行另外的说明，如下描述针对根据本发明的压力损失生成设备1的所有在附图中所图示的实施形式。
18.压力损失生成设备1包括工艺气体流入口2、工艺气体分配器3和工艺气体流出口4。在实施形式中，工艺气体流入口2、工艺气体分配器3和工艺气体流出口4构造成具有不同横截面的呈柱形的管件。在其它未图示的实施形式中，工艺气体流入口2、工艺气体分配器3和工艺气体流出口4由其它非柱形构造的管件制造。
19.工艺气体流入口2具有工艺气体流入入口5、工艺气体流入出口6、工艺气体流入口纵向中轴线a-a和工艺气体流入口横截面7。
20.工艺气体分配器3具有工艺气体分配器纵向中轴线b-b、工艺气体分配器横截面8、布置在第一端面9上的工艺气体分配器入口10和布置在第二端面11上的工艺气体分配器出口12。
21.工艺气体流出口4包括工艺气体流出入口13、工艺气体流出出口14、工艺气体流出口纵向中轴线c-c和工艺气体流出口横截面15。
22.工艺气体流入口4与工艺气体分配器3的第一端面9且工艺气体分配器3的第二端面11与工艺气体流出口4如此地相连接，使得构造穿过压力损失生成设备1的连续的流动路径16。
23.此外，工艺气体流入口2和工艺气体流出口4如此地彼此相对布置，使得工艺气体流入口纵向中轴线a-a和工艺气体流出口纵向中轴线c-c彼此偏移地布置。
24.有利地，压力损失生成设备1、尤其工艺气体分配器3构造成中空腔30，从而压力损失生成设备1是空的。这通过以下来实现，即，压力损失生成设备1不具有装入件(einbauten)。
25.在图1中示出了优选的压力损失生成设备1的第一实施形式的截面图示。在压力损失生成设备1的一种优选的使用位置中，工艺气体流入口纵向中轴线a-a相比工艺气体流出口纵向中轴线c-c处在更高的高度水平上。因为压力损失生成设备1围绕工艺气体分配器纵向中轴线b-b可转动，所以此处以概念“高度水平”不是指大地测量高度，而是尤其指在工艺气体流入口纵向中轴线a-a与工艺气体流出口纵向中轴线c-c之间的距离。
26.在所显示的实施形式中，工艺气体流入口横截面7和工艺气体流出口横截面15呈圆形地构造，其中，工艺气体流入口横截面7大于工艺气体流出口横截面15。此外，工艺气体流入出口面17和工艺气体分配器入口面18以及工艺气体分配器出口面19和工艺气体流出
入口面20相同大小且重合地构造。由此，工艺气体流动在由工艺气体流入口2至工艺气体分配器3的过渡中经历第一次偏转和工艺气体速度的降低，且紧接着在由工艺气体分配器3至工艺气体流出口4的过渡中经历第二次偏转和工艺气体速度的提高。工艺气体pg就此而言经历压力损失。
27.图2显示了朝向优选的压力损失生成设备1的第一实施形式的垂直于工艺气体流入口纵向中轴线a-a定向的参考平面d的俯视图。
28.在第一实施形式中所显示的压力损失生成设备1中，工艺气体流入口纵向中轴线a-a和工艺气体流出口纵向中轴线b-b布置在包含工艺气体分配器纵向中轴线b-b的参考平面e的彼此相反的侧面20,21上。在不同侧面20,21上的布置引起工艺气体pg的流动偏转且由此产生在压力损失生成设备1中的压力损失。
29.此外，工艺气体流入口纵向中轴线a-a、工艺气体流出口纵向中轴线c-c和工艺气体分配器纵向中轴线b-b布置在垂直于参考平面e的共同的参考平面f中。
30.在工艺气体流入口纵向中轴线a-a与工艺气体流出口纵向中轴线c-c之间的被投影到工艺气体分配器3的第一端面9上的距离23大于或等于工艺气体流入半径24和工艺气体流出半径25的总和。由此确保如下，即，工艺气体pg经历至少一个在穿过压力损失生成设备1的流动路径16上的偏转。
31.优选的压力损失生成设备1的在图3和4中所示出的第二实施形式关于第一实施形式具有如下区别。
32.工艺气体流入口横截面7和工艺气体流出口横截面15布置在包含工艺气体分配器纵向中轴线b-b的参考平面e的彼此相反的侧面21,22上。同样地因此如下是可能的，即，获得工艺气体pg的流动偏转。
33.此外，工艺气体流入口纵向中轴线a-a和工艺气体流出口纵向中轴线c-c布置在垂直于参考平面e的共同的参考平面f上。同样地由此确保工艺气体在其穿过压力损失生成设备1的流动路径16上的偏转。
34.适宜地，用于制造且/或处理在振荡工艺气体流、尤其脉冲反应器中的颗粒的反应器系统31具有压力损失生成设备1。压力损失生成设备1构造成带有具有工艺气体流入入口5、工艺气体流入出口6、工艺气体流入口纵向中轴线a-a和工艺气体流入口横截面7的工艺气体流入口2，带有具有工艺气体分配器纵向中轴线b-b、工艺气体分配器横截面8、布置在第一端面9上的工艺气体分配器入口10和布置在第二端面11上的工艺气体分配器出口12的工艺气体分配器3，且带有包括工艺气体流出入口13、工艺气体流出出口14、工艺气体流出口纵向中轴线c-c和工艺气体流出口横截面15的工艺气体流出口4，其中，工艺气体流入口2与工艺气体分配器3的第一端面9且工艺气体分配器3的第二端面11与工艺气体流出口4如此地相连接，使得构造连续的流动路径16，其特征在于，工艺气体流入口2和工艺气体流出口4如此地彼此相对布置，使得工艺气体流入口纵向中轴线a-a和工艺气体流出口纵向中轴线c-c彼此偏移地布置。
35.优选地，反应器系统31的压力损失生成设备1根据权利要求2至13中任一项来构造。
36.在图5中示出了优选的压力损失生成设备1的第三实施形式的截面图示。
37.在压力损失生成设备1的第三实施形式中，在工艺气体流入口2与工艺气体分配器
3之间布置有扩散器26且在工艺气体分配器3与工艺气体流出口4之间布置有喷嘴27。
38.根据权利要求10或11所述的压力损失生成设备，其特征在于，扩散器和喷嘴在其相应的纵向中轴线上具有不同的长度。
39.通过扩散器26，工艺气体流动的动能被转换成压力能，其中，扩散器26实现扩散器横截面28的连续的呈喇叭颈状的扩大。与此相反，通过喷嘴27将压力能转换成工艺气体流动的动能，其中，喷嘴27实现喷嘴横截面29的连续的锥形的扩大。该扩大可在几何形状上同样以其它方式实现且在此匹配于压力损失生成设备1的相应构件(工艺气体流入口2、工艺气体分配器3和工艺气体流出口4)的三维形状。
40.优选的压力损失生成设备1在用于制造且/或处理在振荡工艺气体流、尤其脉冲反应器中的颗粒的反应器系统31得到应用。优选地，在反应器系统31中根据权利要求1至13中任一项所述的压力损失生成设备1得到应用。
41.反应器系统31具有反应器单元32，其前置有工艺气体供应单元33且后置有工艺气体引出单元34。
42.反应器系统31包括工艺气体输送设备35和加热设备36。流动通过反应器系统31的工艺气体pg经由工艺气体供应单元33流入到反应器系统31中且通过工艺气体输送设备35被输送穿过反应器系统31。
43.工艺气体输送设备35例如尤其构造成离心风机、鼓风机或压缩机。工艺气体输送设备35可尤其布置在工艺气体供应单元33、工艺气体引出单元34中或备选地不仅在工艺气体供应单元33中而且在工艺气体引出单元34中。在图6中所显示的实施形式中显示了工艺气体输送设备35在工艺气体供应单元33中的布置。工艺气体输送设备35的布置被匹配于在反应器系统31中可出现的条件，尤其鉴于初始材料的形状、质量和密度。
44.加热设备36可布置在脉冲设备37上游或下游。在脉冲设备37上游的布置被优选，因为加热设备36在这样的布置中不抑制在反应器系统31中的共振压力幅度。在脉冲设备37下游的布置在图6中所显示的实施形式中公开。加热设备36的该布置经由加热设备36相对反应器单元32或相对工艺气体供应单元33的关联来决定。在脉冲设备37上游布置的加热设备36是工艺气体供应单元33，在脉冲设备37下游布置的加热设备36关联于反应器单元32。在所显示的实施形式中，加热设备36由此关联于反应器单元32。
45.优选地，加热设备36构造成对流燃气加热器、电燃气加热器、等离子加热器、微波加热器、感应加热器或辐射加热器。较不优选地，加热设备36构造成具有火焰的燃烧器。
46.流动通过反应器系统31的工艺气体pg通过加热设备36加温或者加热到制造和/或处理温度上。用于至少一种初始材料的制造或者热处理的温度优选地为在100℃与3000℃之间、优选地到240℃至2200℃上、特别优选地到240℃至1800℃上、完全特别优选地到650℃至1800℃上、最优选地到700℃至1500℃上。
47.对于流动通过反应器系统31的工艺气体pg而言，借助于脉冲设备36施加具有脉冲频率和脉冲压力幅度的脉冲。该脉冲优选地具有0.1 mbar至350 mbar、特别优选地1 mbar至200 mbar、完全特别优选地3 mbar至50 mbar、最优选地10 mbar至40 mbar的脉冲压力幅度。
48.工艺气体pg的脉冲频率可独立于脉冲压力幅度来设定。由于脉冲设备37脉冲地流动通过反应器系统31的工艺气体pg的脉冲频率同样是可设定的，优选地在1 hz至2000 hz、
优选地在1 hz至500 hz之间、特别优选地在40 hz至160 hz之间的频率范围中。
49.脉冲设备37构造成无焰工作的脉冲设备37。适宜地，脉冲设备37构造成压缩模块、尤其构造成活塞、或旋转阀闸或经修改的旋转闸门。
50.在工艺气体供应单元33下游构造有关联于反应器单元32的具有反应腔38的反应器39。在反应器39的反应腔38中，初始材料借助于给料设备(aufgabeeinrichtung)40被引入到流动通过反应器系统31和反应器39的脉冲工艺气体pg中。
51.给料设备40优选地构造用于将液体或固体引入到反应器39的反应腔38中。
52.液体或液态原材料(前体)可优选地作为溶液、悬浮液、熔融物、乳液或纯液体被引入到反应腔38中。液态原材料或液体的引入优选地连续实现。对于液体到反应器单元32的反应器39的反应腔38中的引入而言优选地使用给料设备40，如例如喷洒喷嘴、供应管或滴管，其例如构造成单物质或多物质喷嘴、压力喷嘴、喷雾器(气溶胶)或超声波喷嘴。
53.与此相反，对于固体、例如粉末、颗粒或类似物到反应器39中的引入而言优选地使用反应器39的反应腔38、优选地给料设备40如例如双阀片、叶轮闸门、节拍闸门或注射器。
54.以液体或固体的形式的初始材料的引入可沿或逆流动通过反应器系统31的工艺气体pg的流动方向实现。在图6中所显示的实施形式中，初始材料的给料逆工艺气体pg的流动方向进行。
55.优选地，初始材料在使用载气的情形中被引入到反应器系统31中、优选地到反应器39的反应腔38中。决定初始材料是否沿或逆工艺气体pg的流动方向被引入到反应器系统31中在很大程度上取决于初始材料在工艺气体pg的所设定的平均流速的情形中的形状、质量和密度。由此存在如下可能性，即，同样可热处理不可通过在反应器系统31中的工艺气体pg被输送的初始材料。
56.初始材料在反应器39的处理区中、优选地在反应腔38中被热处理，从而构造待制造的颗粒p、优选地无机或有机纳米颗粒、特别优选地纳米晶金属氧化物颗粒。初始材料在其中被热处理的区域被定义为处理区。
57.后置于反应器单元32的工艺气体引出单元34包括分离装置41。分离装置41、尤其过滤器、优选地热气过滤器、完全特别优选地软管、金属或玻璃纤维过滤器、旋风分离器或洗涤器将经热处理的颗粒p从脉冲地流动通过反应器系统31的热的工艺气体流中分离。从工艺气流中被分离的颗粒p从分离装置41中被引出且被进一步处理。如果必要，在反应器系统31中经热处理的颗粒p经受进一步的后处理步骤，如例如悬浮、研磨或煅烧。未加载的工艺气体pg被引出到周围环境中。
58.被引入到反应器系统31中、尤其反应器39的反应腔38中的初始材料的停留时间为在0.1 s和25 s之间。工艺气体pg的循环行进方式(kreislauffahrweise)是可能的。必要时同样可实现工艺气体pg的部分循环(teilauskreisung)。
59.此外，具有静态工艺气体压力的反应器系统31构造成声学谐振器42，其具有定义各一个谐振状态的谐振自身频率。工艺气体pg可在反应器系统31中构造可谐振的气柱，从而谐振器42可通过由脉冲设备37所生成的脉冲的脉冲频率和/或脉冲压力幅度来激发，且在谐振状态中该脉冲可被增强到工艺气体pg的具有谐振频率和谐振压力幅度的谐振振荡。
60.工艺气体供应单元33和工艺气体引出单元34相应地包括生成压力损失的压力损失生成设备1，其中，压力损失生成设备1如此地构造，以至于可选择性地设定谐振器42的谐
振状态中的一个。压力损失生成设备1在几何形状上且鉴于所构造的可谐振的气柱的工艺气体体积限制反应器系统31的可振荡的或者在运行状态中振荡的系统43。由此，压力损失生成设备1防止谐振振荡超出压力损失生成设备1的传播。可振荡的或者在运行状态中振荡的系统43越受限，谐振振荡在系统43中的产生和传播越有效。
61.压力损失生成设备1在反应器系统31中、尤其在工艺气体供应单元33和工艺气体引出单元34中可变地布置在其相应的位置中，其中，在运行状态中压力损失生成设备1在其预先设定位置中不可改变。由此确保如下，即，在运行状态中振荡的系统43不改变。
62.反应器系统31的脉冲设备37被配置用于如此地将脉冲的脉冲频率和/或脉冲压力幅度匹配于谐振器42的谐振自身频率中的一个，即，可实现所选择的谐振状态。特别优选地，脉冲频率或其整数多倍设定在谐振器42的谐振频率附近，从而谐振器42被激励且谐振振荡出现在振荡系统43中。通过施加周期性脉冲到工艺气体pg上，其中，尤其脉冲频率或其整数多倍在谐振器42的谐振频率附近有针对性地设定，工艺气体pg的具有谐振频率和谐振压力幅度的谐振振荡的增强被获得。由此，在反应器系统31中的优选地热的工艺气体pg的热和材料传递特性被改善。

技术特征：

1.一种压力损失生成设备(1)，带有具有工艺气体流入入口(5)、工艺气体流入出口(6)、工艺气体流入口纵向中轴线(a-a)和工艺气体流入口横截面(7)的工艺气体流入口(2)，带有具有工艺气体分配器纵向中轴线(b-b)、工艺气体分配器横截面(8)、布置在第一端面(9)上的工艺气体分配器入口(10)和布置在第二端面(11)上的工艺气体分配器出口(12)的工艺气体分配器(3)，且带有包括工艺气体流出入口(13)、工艺气体流出出口(14)、工艺气体流出口纵向中轴线(c-c)和工艺气体流出口横截面(15)的工艺气体流出口(4)，其中，所述工艺气体流入口(2)与所述工艺气体分配器(3)的第一端面(9)且所述工艺气体分配器(3)的第二端面(11)与所述工艺气体流出口(4)如此地相连接，使得构造连续的流动路径(16)，其特征在于，工艺气体流入口(2)和工艺气体流出口(4)如此地彼此相对布置，使得所述工艺气体流入口纵向中轴线(a-a)和所述工艺气体流出口纵向中轴线(c-c)彼此偏移地布置。2.根据权利要求1所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，所述工艺气体流入口纵向中轴线(a-a)和所述工艺气体流出口纵向中轴线(c-c)布置在包含所述工艺气体分配器纵向中轴线(b-b)的参考平面(e)的彼此相反的侧面(21,22)上。3.根据权利要求1所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，所述工艺气体流入口纵向中轴线(a-a)、所述工艺气体流出口纵向中轴线(c-c)和所述工艺气体分配器纵向中轴线(b-b)布置在垂直于所述参考平面(e)的共同的参考平面(f)中。4.根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，在所述压力损失生成设备(1)的使用位置中所述工艺气体流入口纵向中轴线(a-a)相比所述工艺气体流出口纵向中轴线(c-c)处在更高的高度水平上。5.根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，所述工艺气体流入口横截面(7)和所述工艺气体流出口横截面(15)布置在包含所述工艺气体分配器纵向中轴线(b-b)的参考平面(e)的彼此相反的侧面(21,22)上。6.根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，在所述工艺气体流入口纵向中轴线(a-a)和工艺气体流出口纵向中轴线(c-c)之间的被投影到所述工艺气体分配器(3)的第一或第二端面(9,11)上的距离(23)大于或等于工艺气体流入半径(24)和工艺气体流出半径(25)的总和。7.根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，所述工艺气体流入口横截面(7)大于或等于所述工艺气体流出口横截面(15)。8.根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，所述工艺气体流入口横截面(7)和所述工艺气体流出口横截面(15)呈圆形地构造。9.根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，工艺气体流入出口面(17)和工艺气体分配器入口面(18)相同大小且重合地构造且/或工艺气体分配器出口面(19)和工艺气体流出入口面(20)相同大小且重合地构造。10.根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，在所述工艺气体流入口(2)与所述工艺气体分配器(3)之间布置有扩散器(26)且/或在所述工艺气体分配器(3)与工艺气体流出口(4)之间布置有喷嘴(27)。11.根据权利要求10所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，所述扩散器(26)在所述工艺气体(pg)的流动方向上连续扩大且/或所述喷嘴(27)在所述工艺气体(pg)的流动方
向上连续逐渐变细。12.根据权利要求10或11所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，所述扩散器(26)和喷嘴(27)在其相应的纵向中轴线(a-a,c-c)上具有不同的长度。13.根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)，其特征在于，所述压力损失生成设备(1)、尤其所述工艺气体分配器(3)构造成中空腔(30)。14.一种根据前述权利要求中任一项所述的压力损失生成设备(1)在用于制造和/或处理在振荡工艺气体流中、尤其脉冲反应器中的颗粒的反应器系统(31)的使用。

技术总结

本发明涉及一种压力损失生成设备(1)，带有具有工艺气体流入入口(5)、工艺气体流入出口(6)、工艺气体流入口纵向中轴线(A-A)和工艺气体流入口横截面(7)的工艺气体流入口(2)，带有具有工艺气体分配器纵向中轴线(B-B)、工艺气体分配器横截面(8)、布置在第一端面(9)上的工艺气体分配器入口(10)和布置在第二端面(11)上的工艺气体分配器出口(12)的工艺气体分配器(3)，且带有包括工艺气体流出入口(13)、工艺气体流出出口(14)、工艺气体流出口纵向中轴线(C-C)和工艺气体流出口横截面(15)的工艺气体流出口(4)，其中，工艺气体流入口(2)与工艺气体分配器(3)的第一端面(9)且工艺气体分配器(3)的第二端面(11)与工艺气体流出口(4)如此地相连接，使得构造连续的流动路径(16)，其中，工艺气体流入口(2)和工艺气体流出口(4)如此地彼此相对布置，使得工艺气体流入口纵向中轴线(A-A)和工艺气体流出口纵向中轴线(C-C)彼此偏移，以及涉及其在反应器系统(31)中的使用。使用。使用。