...模型制作方法及装置、存储介质及电子设备【专利】_图文

(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910257957.7
(22)申请日 2019.04.01
(71)申请人 网易(杭州)网络有限公司
地址 310052 浙江省杭州市滨江区网商路
599号网易大厦
(72)发明人 韦康 
(74)专利代理机构 北京律智知识产权代理有限
公司 11438
代理人 袁礼君 阚梓瑄
(51)Int.Cl.
G06F  17/50(2006.01)
G06T  17/00(2006.01)
(54)发明名称
基于LOD的模型制作方法及装置、存储介质
及电子设备
(57)摘要
本公开涉及图像处理技术领域,具体涉及一
种基于LOD的模型制作方法、
一种基于LOD的模型制作装置、存储介质及电子设备。所述方法包括:
获取高阶模型以及对应贴图,并对所述贴图划
分合并贴图和公共贴图;基于所述高阶模型按预
设规则制作对应的低面数模型;根据所述低面数
模型对所述贴图进行分配以获取所述贴图对应
于所述低面数模型的UV;根据所述低面数模型的
UV对所述贴图进行烘焙以获取低阶模型。本公开
能够提升模型的制作效率,并能够有效降低研发
成本、
时间成本以及模型迭代成本。权利要求书1页  说明书9页  附图5页CN 109960887 A 2019.07.02
C N  109960887
A
权 利 要 求 书1/1页CN 109960887 A
1.一种基于LOD的模型制作方法,其特征在于,包括:
获取高阶模型以及对应的贴图,并对所述贴图划分合并贴图和公共贴图;
基于所述高阶模型按预设规则制作对应的低面数模型;
根据所述低面数模型对所述贴图进行分配以获取所述贴图对应于所述低面数模型的UV;
根据所述低面数模型的UV对所述贴图进行烘焙以获取低阶模型。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述基于所述高阶模型按预设规则制作对应的低面数模型后,所述方法还包括:
将所述高阶模型及低面数模型至于同一坐标系中并使其轴心点重合;
计算所述低面数模型与高阶模型的相似度是否满足预设阈值,以判断所述低面数模型是否满足预设规则。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述模型包括多个建筑物模型,所述方法还包括:
按预设规则对所述的多个建筑物模型进行分类,以使同一类别的建筑物模型使用同一贴图。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述公共贴图包括不同建筑物模型之间的公共贴图,和/或高阶、低阶建筑物模型的公共贴图。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
将多个所述建筑物模型的贴图拼接至一张贴图中。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述模型包括多个建筑物模型;所述高阶模型为LOD1级模型,所述低阶模型为LOD2级模型;所述方法还包括:
获取材质及贴图相同的多个LOD2级模型,将相邻的多个LOD2级模型使用一代理模型合并;其中,所述代理模型与所述LOD2级模型材质及贴图相同。
7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述高阶模型为LOD0级模型,对应低阶模型为LOD1级模型;或者所述高阶模型为LOD1级模型,对应低阶模型为LOD2级模型。
8.一种基于LOD的模型制作装置,其特征在于,包括:
贴图划分模块,用于获取高阶模型以及对应的贴图,并对所述贴图划分合并贴图和公共贴图;
低面数模型制作模块,用于基于所述高阶模型按预设规则制作对应的低面数模型;
UV分配模块,用于根据所述低面数模型对所述贴图进行分配以获取所述贴图对应于所述低面数模型的UV;
烘焙模块,用于根据所述低面数模型的UV对所述贴图进行烘焙以获取低阶模型。
9.一种存储介质,其上存储有计算机程序,所述程序被处理器执行时实现根据权利要求1至7中任一项所述的基于LOD的模型制作方法。
10.一种电子终端,其特征在于,包括:
处理器;以及
存储器,用于存储所述处理器的可执行指令;
其中,所述处理器配置为经由执行所述可执行指令来执行权利要求1至7中任一项所述的基于LOD的模型制作方法。
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