一种调节组件、反应腔装置及微波等离子体气相沉积系统

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 114457323 A (43)申请公布日 2022.05.10

(21)申请号 CN202210378897.6

(22)申请日 2022.04.12

(71)申请人成都纽曼和瑞微波技术有限公司

地址 610000 四川省成都市成华区龙潭总部经济城华冠路192号

(72)发明人黄春林陈森林李俊宏季宇

(74)专利代理机构

代理人

(51)Int.CI

C23C16/511

C23C16/52

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种调节组件、反应腔装置及微波等离子体气相沉积系统

(57)摘要

本发明提供了一种调节组件、反应腔装置及微波等离子体气相沉积系统，属于微波等离子体领域。上述反应腔装置包括反应腔壳体，反应腔壳体一端设置有调节组件另一端设置有封堵组件；或者，反应腔壳体的两端均设置有调节组件。调节组件包括滑块，滑块滑动插接在反应腔壳体内，并能够被固定于预设位置；反应腔壳体内能够形成密闭腔体。使用时，先将封堵组件打开，并将待镀膜杆件放入到反应腔壳体内；然后通过适当移动调节组件的滑块来调整反应腔壳体内的长度空间，从而使得反应腔壳体内部空间与待镀膜杆件的长度相适应。上述调节组件的设置，使得反应腔装置能够在一定范围内适应不同长度的待镀膜杆件，提高了其使用范围。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2022-05-10	公开	发明专利申请公布
2022-05-27	实质审查的生效IPC(主分类):C23C16/511专利申请号:2022103788976申请日:20220412	实质审查的生效
2022-08-02	授权	发明专利权授予