专利名称：一种基于三维GIS地图的高空与剖面标绘定位方法专利类型：发明专利 发明人：杨光，周传龙，陈伟伟，蒉露超，黄婧，占伟伟，张一鸣
申请号：CN202010521984.3
申请日：20200610
公开号：CN111681315A
公开日：
20200918
专利内容由知识产权出版社提供
摘要：本发明提供了一种基于三维GIS地图的高空与剖面标绘定位方法，包括地表标绘、高空标绘和大比例尺画布标绘三种方式。可根据作战要素分布的空间位置与特征信息，自动匹配标绘点定位与标绘方式；地表元素标绘点定位，通过计算鼠标点和全局相机的世界坐标，并创建过鼠标点与相机点的射线，求取射线与三维数字地球表面交点；高空元素标绘点定位，绘制假象包络球，以相机与鼠标点组成的射线与包络球的交点为图形标绘点；剖面标绘操作，创建大比例尺画布辅助完成高空对象绘制，并以参照画布剖面直观获取对象之间的位置关系。本发明不仅满足地表元素标绘定位需求，而且解决了高空目标无法标绘的问题，同时形象地展示了剖面对象之间的位置关系。
申请人：中国电子科技集团公司第二十八研究所
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国籍：CN
代理机构：江苏圣典律师事务所
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