[19]
中华人民共和国国家知识产权局
[12]发明专利申请公开说明书
[11]公开号CN 1758144A [43]公开日2006年4月12日
[21]申请号200510102849.0[22]申请日2005.09.13
[21]申请号200510102849.0
[30]优先权
[32]2004.09.13 [33]KR [31]10－2004－0072921
[71]申请人东进世美肯株式会社
地址韩国仁川市
[72]发明人尹锡壹 金圣培 金玮溶 郑宗铉 许舜范
金柄郁 [74]专利代理机构北京金信立方知识产权代理有限公司代理人南霆 朱梅
[51]Int.CI.G03F 7/42 (2006.01)
权利要求书 3 页 说明书 13 页
[54]发明名称
[57]摘要
本发明涉及一种光阻剂剥离液组合物，提供一
种包含环形胺、溶剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液
组合物。并且，本发明还提供一种包含环形胺、溶
剂、防腐剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。
本发明光阻剂剥离液组合物不仅在适用于现有LCD
模块制备中包括异丙醇(以下简称“IPA”)清洗阶
段的一般工程时，而且在适用于最近省略IPA清洗
阶段的工程时，不存在对金属布线多余的腐蚀影响，
特别是可大大提高剥离能力。
200510102849.0权 利 要 求 书第1/3页 1、一种光阻剂剥离液组合物，其特征在于：包含环形胺、溶剂及剥离促进剂。
2、一种光阻剂剥离液组合物，其特征在于：包含环形胺、溶剂、防腐剂及剥离促进剂。
3、如权利要求1或2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：所述环形胺是从1-(2-羟乙基)哌嗪、1-(2-氨乙基)哌嗪、1-(2-羟乙基)甲基哌嗪、N-(3-氨丙基)吗啉、2-甲基哌嗪、1-甲基哌嗪、1-氨基-4-甲基哌嗪、1-苯甲基哌嗪及1-苯基哌嗪中选择的一种以上化合物。
4、如权利要求1或2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：所述环形胺的含量占胺和溶剂总量的1-50重量％。
5、如权利要求1或2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：所述溶剂为质子极性溶剂、非质子极性溶剂或者它们的混合物。
6、如权利要求5所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：所述质子极性溶剂是从乙二醇甲醚、乙二醇乙醚、乙二醇丁基醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚及二乙二醇丙醚中选择的一种以上乙二醇醚化合物。
7、如权利要求5所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：非质子极性溶剂是从N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基乙酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、N，N-二甲基咪唑、gamma-丁内酯、环丁砜中选择的一种以上化合物。
8、如权利要求2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：所述防腐剂选自三唑基类化合物、巯基类化合物、没食子酸烷基酯类化合物及其混合物。
于胺和溶剂总量100重量份，所述防腐剂的含量为0.1-10重量份。
10、如权利要求1或2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：所述剥离促进剂是由以下化学式1、化学式2及化学式3所表示的化合物中选择的一种以上化合物，
【化学式1】
【化学式2】
【化学式3】
所述化学式1及化学式2中，R表示碳原子数为1-4的烷基，R′表示碳原子数为1-20的烷基或羟烃基。
11、如权利要求1或2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：相对于胺和溶剂总量100重量份，所述剥离促进剂的含量为0.01-10
对于环形胺占1-50重量％、质子极性溶剂占50-99重量％的组合物100重量份，所述剥离促进剂的含量为0.01-10重量份。
13、如权利要求2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：相对于环形胺占1-50重量％、质子极性溶剂占50-99重量％的组合物100重量份，所述剥离促进剂的含量为0.01-10重量份。
14、如权利要求1所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：相对于环形胺占1-50重量％、非质子极性溶剂占50-99重量％的组合物100重量份，所述剥离促进剂的含量为0.01-10重量份。
15、如权利要求2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：相对于环形胺占1-50重量％、非质子极性溶剂占50-99重量％的组合物100重量份，所述防腐剂的含量为0.1-10重量份，所述剥离促进剂的含量为0.01-10重量份。
16、如权利要求1所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：相对于环形胺占1-50重量％、质子极性溶剂占10-80重量％、非质子极性溶剂占15-70重量％的组合物100重量份，所述剥离促进剂的含量为0.01-10重量份。
17、如权利要求2所述的光阻剂剥离液组合物，其特征在于：相对于环形胺占5-30重量％、质子极性溶剂占10-80重量％及非质子极性溶剂占15-70重量％的组合物100重量份，所述防腐剂的含量为0.1 -10重量，所述剥离促进剂的含量为0.01-10重量份。
200510102849.0说 明 书第1/13页
光阻剂剥离液组合物
技术领域
本发明涉及一种用于剥离金属布线形成中所使用的光阻剂的剥离液组合物，特别是一种对包含环形胺(c y c l i c a m i n e)、溶剂等的双组份以上的剥离液、或者对上述组份中再包含有防腐剂而防止因贾凡尼效应(g a l v a n i c e f f e c t)产生腐蚀等的三组份以上的剥离液，添加剥离促进剂，从而可提高剥离性能的光阻剂剥离液组合物(C o m p o s i t i o n for removing a photoresist)。
背景技术
在集成电路(I C)、大规模集成电路(L S I)、超大规模集成电路(V L S I)等半导体装置和液晶显示装置(L C D)等的制造中，为金属布线的形成，采用照相平版印刷术(Photo-lithography)工程。
为去除这种用于光刻过程中的光阻剂，在产业初期采用了由苯酚及其衍生物和烷基苯磺酸(a l k y l b e n z e n e s u l f o n i c a c i d)及氯化物系列有机溶剂所构成的溶液。但是这种剥离剂含有苯酚系列化合物及氯系列有机溶剂，因此具有毒性，会腐蚀其下的金属层，且其废液难以处理，而且由于非水溶性而难免使剥离后清洗工程变得复杂。
并且，随着所加工金属布线的细微化倾向，增加了金属和氧化膜蚀刻条件的难度，加大了光阻剂的损伤
而使光阻剂变质。由于存在如上理由，采用有机溶剂进行处理后光阻剂仍残留在基板上，因此需要一种具有强剥离能力的组合物，以此避免残留物的存在。
豫公网安备41160202000603
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