一种集成电路低压化学气相沉积系统

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 114470992 A (43)申请公布日 2022.05.13

(21)申请号 CN202210075158.X

(22)申请日 2022.01.22

(71)申请人郭芳

地址 610000 四川省成都市中国(四川)自由贸易试验区成都高新区和乐二街171号3栋

(72)发明人郭芳

(74)专利代理机构

代理人

(51)Int.CI

B01D46/10

B01D46/76

C23C16/44

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种集成电路低压化学气相沉积系统

(57)摘要

本发明公开了一种集成电路低压化学气相沉积系统，涉及化学气相沉积技术领域。该集成电路低压化学气相沉积系统，包括气相沉积机构，所述气相沉积机构设置有固定板，所述固定板的左侧固定连接有灰尘过滤机构，且气相沉积机构与灰尘过滤机构固定连接，所述固定板的外壁固定连接有灰尘清理机构，且气相沉积机构与灰尘清理机构固定连接。该集成电路低压化学气相沉积系统，通过过滤网软性材料，过滤网位于固定板孔内的位置会陷入，进而使灰尘可以跟随气流的移动，移动到过滤网陷入的位置，灰尘堆积在一起后更易于成团，而且过滤网的一处凹陷，可以气流沿着凹陷的轨迹流动，进而使灰尘堆积在一起。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2022-05-13	公开	发明专利申请公布
2023-01-17	发明专利申请公布后的撤回IPC(主分类):B01D46/10专利申请号:202210075158X申请公布日:20220513	发明专利申请公布后的撤回