声学结构[发明专利]

专利名称：声学结构

专利类型：发明专利

发明人：藤森润一，本地由和申请号：CN201010127637.9申请日：20100305

公开号：CN101826323A

公开日：

20100908

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明提供一种声学结构。在该声学结构中，通过落入开口部分的入射波与由于响应于该入射波在中空部件内发生共振而从开口部分辐射的反射波之间的干涉来实现声音吸收效果，例如在开口部分的正面方向形成声音吸收区域。通过上述干涉和入射波与从开口部分辐射的声波之间的干涉之间的相互作用来实现声音散射效果，例如在声音吸收区域附近形成声音散射区域。认为这种声音散射效果是由于从开口部分辐射的声波与从反射面辐射的声波之间的相位差而在不垂直于开口部分和反射面的倾斜方向上产生的气体分子的运动能量的流动实现的。与共振频率的波长相比，声学结构在厚度(z)方向的尺寸足够小，因此，所述声学结构将不会很大程度地使安装空间变窄。

申请人：雅马哈株式会社

地址：日本静冈县

国籍：JP

代理机构：北京天昊联合知识产权代理有限公司

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