衬底处理方法[发明专利]

专利名称：衬底处理方法专利类型：发明专利

发明人：江间达彦，伊藤信一申请号：CN01121836.3申请日：20010627

公开号：CN1330394A

公开日：

20020109

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：一种衬底处理方法，对用光刻胶12进行LSI图形曝光的被加工衬底11，用TMAH显影液进行显影后，清洗露出表面。作为第1清洗工序，通过边使衬底11以500rpm进行旋转，边用溶解有3ppm臭氧气体的臭氧水17进行15秒的清洗，使附着于衬底11的露出表面上的有机物分解，然后，作为第2清洗工序，通过边使衬底11以500rpm进行旋转，边用溶解有1.2ppm氢气的氢气水18进行15秒的清洗处理，把分解后的有机物除去到衬底之外。

申请人：株式会社东芝

地址：日本神奈川县

国籍：JP

代理机构：中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：王以平

本文发布于:2024-09-24 23:32:01，感谢您对本站的认可！

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