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新型光刻胶、其制备方法、应用和医用材料表面的改性方法[发明专利]

专利名称：新型光刻胶、其制备方法、应用和医用材料表面的改性方法

专利类型：发明专利

发明人：杨志禄，黄楠，杨彤

申请号：CN201910435664.3

申请日：20190523

公开号：CN110109323A

公开日：

20190809

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明涉及生物医用材料领域，且特别涉及一种新型光刻胶、其制备方法、应用和医用材料表面的改性方法。新型光刻胶包括利用等离子体化学气相沉积法制备得到同时含有光敏官能团和氨基官能团的涂层，涂层可作为光刻胶使用，同时具有生物相容性。该涂层不仅仅可以作为光刻胶使用，同时还具有良好的生物形容性，同时，氨基基团还可以为功能化分子的接枝提供反应位点，能构建具有不同功能的微图形。同时，利用等离子体化学气相沉积制备涂层，只需要一步，大大缩减了光刻胶涂覆的步骤，大大降低了光刻胶制备的成本。

申请人：西南交通大学

地址：610000 四川省成都市金牛区二环路北一段111号

国籍：CN

代理机构：北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：覃蛟

本文发布于:2024-09-24 16:28:41，感谢您对本站的认可！

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