(12)发明专利说明书 | ||
(10)申请公布号 CN 114200786 A (43)申请公布日 2022.03.18 | ||
权利要求说明书 说明书 幅图 |
本发明公开了一种数字化激光直写曝光机分区对位方法。所述方法包括:S1、制作一次曝光资料,其中,在矩形的一次曝光图的两侧,根据相机视野布置多个mark点;S2、在第一曝光机台上对基板曝光一次曝光资料;S3、制作二次曝光资料;S4、选取四个角落mark点作为对位点,生成对位数据;S5、根据一次曝光机台的扫描轴轨迹添加对位点;S6、将所述基板放置在第二曝光机台上,通过对位相机获取基板上作为对位点的mark点的实际坐标数据;S7、根据所述作为对位点的mark点的实际坐标数据与理论坐标数据,对二次曝光图形进行分区对位涨缩、旋转与偏移,使得二次曝光图形贴合于一次曝光图形。 | |
法律状态公告日 | 法律状态信息 | 法律状态 |
2022-03-18 | 公开 | 发明专利申请公布 |
2022-04-05 | 实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20专利申请号:2021116710142申请日:20211231 | 实质审查的生效 |
2023-07-04 | 授权 | 发明专利权授予 |
本文发布于:2024-09-20 22:56:28,感谢您对本站的认可!
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