(10)申请公布号 CN 102613052 A
(43)申请公布日 2012.08.01C N 102613052 A
*CN102613052A*
(21)申请号 201210093116.5
(22)申请日 2012.03.31
A01G 31/00(2006.01)
(71)申请人马小海
地址730000 甘肃省兰州市安宁区营门村一
号
(72)发明人马小海
(54)发明名称
(57)摘要
本发明涉及芍药的栽培方法，具体为一种解
决催花后芍药营养差的问题，使其成花质量高，生
产周期短的芍药无土促成栽培方法；其包括苗盆
营养控制；所述的苗盆准备中先在苗盆底部铺入
2-6厘米的炉渣，然后填装基质；基质包括以下体
积比的成分：草炭3-4，蛭石1-2，珍珠岩1-2。本发
明通过无土栽培技术，能够有效的防止有土栽培
对芍药带来的不良影响，再结合人工手段控制芍
药花的物候期因素，并且及时的补充各种所需营
养，
从各个因素使得芍药快速苏醒，进入生长期，保证了生长所需的营养；通过本发明培育出来的
芍药，不仅枝繁叶茂，而且花朵直径大，泽艳丽，
(51)Int.Cl.
权利要求书1页 说明书3页
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请
权利要求书 1 页 说明书 3 页
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1.一种芍药无土促成栽培方法，其包括苗盆准备，苗木准备，温度控制，湿度控制，光照控制和营养控制；其特征在于，所述的苗盆准备中先在苗盆底部铺入2-6厘米的炉渣，然后填装基质；所述的基质包括以下体积比的成分：草炭3-4，蛭石1-2，珍珠岩1-2。
2.如权利要求1所述的一种芍药无土促成栽培方法，其特征在于，所述的温度控制中，在种植后的20天内，将温度控制在10-15℃；在种植20天后，将温度控制在18-25℃。
3.如权利要求1所述的一种芍药无土促成栽培方法，其特征在于，所述的湿度控制中，在苗盆准备时，基质中的含水量为40-60％；在种植后的7天内，每日叶面喷水4-6次；种植7天后每隔一日喷水4-6次；整个栽培过程中空气湿度为75-85％。
4.如权利要求1所述的一种芍药无土促成栽培方法，其特征在于，所述的光照控制中，在种植后，采用全光照，时间长度为11-15小时，强度为30000-50000lux ；叶片完全伸展后，光照时间不变，光照强度减弱，为15000-25000lux 。
5.如权利要求1所述的一种芍药无土促成栽培方法，其特征在于，所述的营养控制中，所用的营养液包
括以下质量比的成分：尿素3-5，磷酸二氢钾5-7，硫酸镁0.2-0.4，硫酸铜0.2-0.4，硫酸锌0.1-0.3，硫酸亚铁0.1-0.3，水5000；营养液每4天浇灌一次，每株的浇灌量为200-300ml 。权 利 要 求 书CN 102613052 A
一种芍药无土促成栽培方法
技术领域
[0001] 本发明涉及芍药的栽培方法，具体为一种芍药无土促成栽培方法。
背景技术
[0002] 芍药是芍药科芍药属的著名草本花卉，在中国的栽培历史超过4900年，是中国栽培最早的一种花卉，位列草本之首，被人们誉为“花仙”和“花相”，且被列为“六大名花”之一，又被称为“五月花神”，因自古就作为爱情之花，现已被尊为七夕节的代表花卉。[0003] 芍药的根由根颈、块根、须根三部分组成。根颈头是根的最上部，颜较深，着生有芽；块根由根颈下方生出，呈纺锤形或长柱形；须根主要从块根上生出，是吸收水分和养料的主要器官，并可逐渐演化成块根，根可入药。芍药的芽丛生在根颈上，冬季在地下越冬，春初随气温上升，萌芽出土。芍药的芽为混合芽，既发育成生殖器官花，又形成营养器官茎和叶；其茎由根部簇生，基部圆柱形，上端多棱角；其叶的末端由三片小叶组成一
束叶，两侧又各有一束叶，两侧的每一束叶通常情况下由四片小叶组成，小叶形状多样，颜丰富，可作为观叶植物。芍药的花一般独开在茎的顶端或近顶端叶腋处，也有一些稀有品种，是两花或三花并出的，原种花白，园艺品种花丰富，有白、粉、红、紫、黄、绿、黑和复等，花型也较为多变。
[0004] 芍药在一年之中，各种器官受气候条件的制约，发生相应变化的时期，称为物候期。影晌芍药开花物候的主要因素有1)气温：在同一地区，芍药花期的早晚与春天气温变化密切相关，温度可影响整个开花的过程；2)水分与降雨：水分和降雨对花期的影响不大，在花前充分灌水或遇降雨，有助于芍药开花，花朵硕大，花艳丽；但若遇到较大的降雨，花朵受损，会提前败落；若花前土壤含水量低，则会使花朵变小，花不艳，花期缩短；3)海拔高度：海拔高度可影响气温、光照和湿度等的变化，从而影响花期；4)光照：光照常与温度相伴而对植物生长发育和花期产生重大影响；花前光照不足，会影响花，使之不够浓艳，花期光照强烈，再伴以温度升高，会使花期缩短或灼伤花朵。因此，在花期搭遮阳棚，会延长芍药的花期。
[0005] 芍药作为一种观赏花卉，目前在春季上市的盆栽芍药中，全部都是采用前一年秋季搭建温棚，并使用激素涂抹芽点，促进花芽萌发，花蕾发育正常时再连根挖起，带土装盆，整理后上市的，由于催芽时采用药剂处理，生长所需的营养全部来自于根和茎的积累，因此催花芍药的营养不足，导致其花朵变小，花浅，叶片发育不完整，观赏价值大大的降低，而且移栽入盆，必须要经过暖苗期，反
而延长了上市的时间。
发明内容
[0006] 本发明的目的在于提供一种利用无土栽培，解决催花后芍药营养差的问题，使其成花质量高，生产周期短的芍药无土促成栽培方法。
[0007] 本发明的技术方案如下所示：
[0008] 一种芍药无土促成栽培方法，其包括苗盆准备，苗木准备，温度控制，湿度控制，光
照控制和营养控制；其特征在于，所述的苗盆准备中先在苗盆底部铺入2-6厘米的炉渣，然后填装基质；所述的基质包括以下体积比的成分：草炭3-4，蛭石1-2，珍珠岩1-2。[0009] 进一步，所述的温度控制中，在种植后的20天内，将温度控制在10-15℃；在种植20天后，将温度控制在18-25℃。
[0010] 进一步，所述的湿度控制中，在苗盆准备时，基质中的含水量为40-60％；在种植后的7天内，每日叶面喷水4-6次；种植7天后每隔一日喷水4-6次；整个栽培过程中空气湿度为75-85％。
[0011] 进一步，所述的光照控制中，在种植后，采用全光照，时间长度为11-15小时，强度为30000-50000lux；叶片完全伸展后，光照时间不变，光照强度减弱，为15000-25000lux。[0012] 进一步，所
述的营养控制中，所用的营养液包括以下质量比的成分：尿素3-5，磷酸二氢钾5-7，硫酸镁0.2-0.4，硫酸铜0.2-0.4，硫酸锌0.1-0.3，硫酸亚铁0.1-0.3，水5000；营养液每4天浇灌一次，每株的浇灌量为200-300ml。
[0013] 本发明一种芍药无土促成栽培方法，通过利用无土栽培技术，能够有效的防止有土栽培植物所带来的昆虫卵、幼虫以及土壤真菌、病菌等对芍药带来的不良影响，再结合人工手段控制芍药花的物候期因素，并且及时的补充各种所需营养，不仅仅是依靠原有根茎的储备，从各个因素使得芍药快速苏醒，进入生长期，保证了植株生长所需的营养；通过本发明培育出来的芍药，不仅枝繁叶茂，而且花朵直径大，泽艳丽，花期时间长，花和叶的观赏性都很强；同时由于采用无土栽培，因此芍药盆花搬运方便，养护简单，无异味。
具体实施方式
[0014] 实例1
[0015] 一种芍药无土促成栽培方法，其包括以下步奏：
[0016] a.苗盆准备，先在苗盆底部铺入2厘米的炉渣，然后填装基质；其中基质由体积比为3∶1∶1的草炭、蛭石、珍珠岩组成。
[0017] b.苗木准备。
[0018] c.温度控制，在种植后的20天内，将温度控制在10℃；在种植20天后，将温度控制在18℃。
[0019] d.湿度控制，在苗盆准备时，基质中的含水量为40％；在种植后的7天内，每日叶面喷水4次；种植7天后每隔一日喷水4次；整个栽培过程中空气湿度为75％。[0020] e.光照控制，在种植后，采用全光照，时间长度为11小时，强度为30000lux；叶片完全伸展后，光照时间不变，光照强度减弱，为15000lux。
[0021] f.营养控制，所用的营养液包括以下质量的成分：尿素3g，磷酸二氢钾5g，硫酸镁0.2g，硫酸铜0.2g，硫酸锌0.1g，硫酸亚铁0.1g，水5000g；营养液每4天浇灌一次，每株的浇灌量为200ml。
[0022] 实例2
[0023] 一种芍药无土促成栽培方法，其包括以下步奏：
[0024] a.苗盆准备，先在苗盆底部铺入4厘米的炉渣，然后填装基质；其中基质由体积比为3∶2∶2的草炭、蛭石、珍珠岩组成。
[0025] b.苗木准备。
[0026] c.温度控制，在种植后的20天内，将温度控制在12℃；在种植20天后，将温度控制在22℃。
[0027] d.湿度控制，在苗盆准备时，基质中的含水量为50％；在种植后的7天内，每日叶面喷水5次；种植7天后每隔一日喷水5次；整个栽培过程中空气湿度为80％。[0028] e.光照控制，在种植后，采用全光照，时间长度为12小时，强度为40000lux；叶片完全伸展后，光照时间不变，光照强度减弱，为20000lux。
[0029] f.营养控制，所用的营养液包括以下质量的成分：尿素4g，磷酸二氢钾6g，硫酸镁0.3g，硫酸铜0.3g，硫酸锌0.2g，硫酸亚铁0.2g，水5000g；营养液每4天浇灌一次，每株的浇灌量为250ml。
[0030] 实例3
[0031] 一种芍药无土促成栽培方法，其包括以下步奏：
[0032] a.苗盆准备，先在苗盆底部铺入6厘米的炉渣，然后填装基质；其中基质由体积比为2∶1∶1的草炭、蛭石、珍珠岩组成。
[0033] b.苗木准备。
[0034] c.温度控制，在种植后的20天内，将温度控制在15℃；在种植20天后，将温度控制在25℃。
[0035] d.湿度控制，在苗盆准备时，基质中的含水量为60％；在种植后的7天内，每日叶面喷水6次；种植7天后每隔一日喷水6次；整个栽培过程中空气湿度为85％。[0036] e.光照控制，在种植后，采用全光照，时间长度为15小时，强度为50000lux；叶片完全伸展后，光照时间不变，光照强度减弱，为25000lux。
[0037] f.营养控制，所用的营养液包括以下质量的成分：尿素5g，磷酸二氢钾7g，硫酸镁0.4g，硫酸铜0.4g，硫酸锌0.3g，硫酸亚铁0.3g，水5000g；营养液每4天浇灌一次，每株的浇灌量为300ml。的浇灌量为200-300ml。
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