一种新型紫外双折射晶体制备方法及用途[发明专利]

专利名称：一种新型紫外双折射晶体制备方法及用途

专利类型：发明专利

发明人：吕宪顺，张园园，邱程程，王旭平，刘冰，杨玉国，安业同申请号：CN202010780617.5

申请日：20200806

公开号：CN111910250A

公开日：

20201110

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明涉及双折射晶体领域，尤其涉及一种新型紫外双折射晶体SrxBa2‑xMg(BO3)2的制备及用途。一种可用于紫外、深紫外波段的硼酸盐双折射晶体，所述晶体分子式为

SrxBa2‑xMg(BO3)2(x＝0.05‑0.2)，属于三方晶系，空间，晶胞参数为所述双折射晶体可用于制作光通讯器件，如光隔离器、环形器、光束位移器、光学起偏器、光学调制器、偏光棱镜和相位延迟器等。

申请人：齐鲁工业大学，山东省科学院新材料研究所

地址：250000 山东省济南市西部新城大学科技园

国籍：CN

本文发布于:2024-09-23 12:32:26，感谢您对本站的认可！

标签：晶体光学山东省专利大学涉及用途

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