首页 > 专利学习

放射性表面可剥离去污剂及其制备方法[发明专利]

专利名称：放射性表面可剥离去污剂及其制备方法

专利类型：发明专利

发明人：王孝强，匙芳廷，周道辉，阴金玉，安鹏，邹浩，何源，税胡高远，唐娇，林静若岚

申请号：CN202010818883.2

申请日：20200814

公开号：CN111909559A

公开日：

20201110

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本发明涉及放射性表面可剥离去污剂及其制备方法，属于高分子化学涂料应用于核设施表面放射性去污技术领域。放射性表面可剥离去污剂，以聚乙烯醇为主成膜剂，水做溶剂，并添加助剂制备而成；所述助剂由以下组分组成：胶凝剂、分散剂、增强剂、表面活性剂、胶黏剂、螯合剂、辅助成膜剂、润滑剂、防冻剂、增塑剂、凡士林、乳化剂和增稠剂。本发明制备的可剥离膜去污剂成膜性好、保质期长、可剥离性良好，能满足短中期储存与放射性废物坑及热室用不锈钢表面的作业要求。

申请人：西南科技大学

地址：621010 四川省绵阳市涪城区西南科技大学

国籍：CN

代理机构：成都希盛知识产权代理有限公司

本文发布于:2024-09-21 21:55:17，感谢您对本站的认可！

本文链接：https://www.17tex.com/tex/1/402651.html

上一篇：一种混合型摩擦纳米发电机[发明专利]

下一篇：一种基于知识图谱的智能问答系统