一种干法刻蚀装置[发明专利]

专利名称：一种干法刻蚀装置专利类型：发明专利

发明人：张光轩，豆海清，曾最新申请号：CN202010050682.2申请日：20200117

公开号：CN111128812A

公开日：

20200508

专利内容由知识产权出版社提供

摘要：本申请实施例公开一种干法刻蚀装置，所述装置包括：反应腔室以及分流部件；其中，所述分流部件用于将从所述反应腔室外流入的刻蚀气体分流成多路刻蚀气体后输入至所述反应腔室内；所述分流部件包括至少两级分流阀；其中，所述至少两级分流阀中的最上级分流阀，用于将流入的所述刻蚀气体按照第一流量比例分流成两路以上刻蚀气体，并将分流后的所述刻蚀气体输出至所述最上级分流阀的下一级分流阀；所述至少两级分流阀中的最下级分流阀，用于将所述最下级分流阀的上一级分流阀输出的一路刻蚀气体按照第二流量比例分流成两路以上刻蚀气体，并将分流后的所述刻蚀气体分别输入至所述反应腔室内。

申请人：长江存储科技有限责任公司

地址：430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号

国籍：CN

代理机构：北京派特恩知识产权代理有限公司

本文发布于:2024-09-22 16:42:31，感谢您对本站的认可！

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