一种低出气率抗静电光学吸收涂层及其制备方法

(19)中华人民共和国国家知识产权局

	(12)发明专利说明书
		(10)申请公布号 CN 113583495 A (43)申请公布日 2021.11.02

(21)申请号 CN202110997957.8

(22)申请日 2021.08.27

(71)申请人西安应用光学研究所

地址 710065 陕西省西安市雁塔区电子三路西段九号

(72)发明人俞兵王啸袁林光郭朝龙范纪红史浩飞李燕朴明星秦艳

(74)专利代理机构 11011 中国兵器工业集团公司专利中心

代理人刘二格

(51)Int.CI

C09D5/24(20060101)

C09D183/08(20060101)

C09D183/06(20060101)

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

一种低出气率抗静电光学吸收涂层及其制备方法

(57)摘要

本发明属于光学吸收涂层技术领域，公开了一种低出气率抗静电光学吸收涂层制备方法，过程依次为：制备底涂分散液、制备底涂、制备面涂悬浮液、制备面涂、涂层热处理。本发明采用以碳材料为主的非聚合物反应体系，具有无分解物、无游离小分子产生等特点，消除来自涂层材料组分的出气污染；采用高疏水性的硅氧烷封闭碳材料中亲水性官能团，大幅减少涂层对水气等环境气体的吸附量；同时，该涂层具有较好的抗静电性能，能满足特定空间环境的应用需求。

法律状态

法律状态公告日	法律状态信息	法律状态
2021-11-02	公开	公开
2022-07-01	著录事项变更IPC(主分类):C09D 5/24专利申请号:2021109979578变更事项:发明人变更前:俞兵王啸袁林光郭朝龙范纪红史浩飞李燕朴明星秦艳变更后:俞兵王啸袁林光李朝龙范纪红史浩飞李燕朴明星秦艳	著录事项变更
2022-08-09	授权	发明专利权授予