结电容Cgd、Cgs、Cds与分布参数Ciss、Crss、Coss

结电容Cgd、Cgs、Cds与分布参数Ciss、Crss、Coss    “结电容”(图3. 12)的定义适⽤于所有的FET,并不局限于VMOS,也适⽤于所有的VMOS晶
体管,只是测定⽅法与标识⽅法有差异。⽽且图3. 12中的表⽰⽅法也是近似的,实际上结电容
还包括引线电极与管芯之间的电容、管芯各组成部分之间、管芯与封装之间的分布电容。
Cgd在BJT(双极性晶体管)中也称为⽶勒电容(Cbc),对FET⽽⾔也同样可以这样称呼,⼆
者在功能上是等同的。
尽管结电容的容墩⾮常⼩,对电路稳定性的影响却是不容忽视的,处理不当往往会引起⾼频如何自制软玻璃
⾃激振荡。更为不利的是,栅控器件的驱动本来只需要⼀个控制电压⽽不需要控制功率,但是
下作频率⽐较⾼的时候,结电容的存在会消耗可观的驱动功率,频率越⾼,消耗的功率越⼤。
在实践中,为了分析问题的⽅便,⼀般并不直接⽤结电容参数进⾏分析,⽽是重新定义了三
个变量,统称为分布电容,具体如下。
输⼊电容(lnput  Capacitance):Ciss=Cgd⼗Cgs
输出电容(Output Capacitance):CDSS=Cgd+Cds
逆导电容( Reverse  Transfer  Capacitance):Crss=Cgd
之所以引⼊分布电容的概念,是因为结电容是由晶体管的材料和结构决定的,不能全⾯反映
对晶体管电路的实际影响。分布电容则主要反映结电容对下作电路的影响。
⽆论是CiSS、Coss、Crss中的哪⼀个,我们都希望他们尽量⼩⼀些。
Ciss会增加驱动功率,⾼频应⽤时,栅极驱动信号需要对Ciss充电和放电,因⽽会影响开关
速度,降低驱动电路的输出阻抗有利于提⾼输出电流,提⾼对Ciss的充放电速度,有利于提⾼
开关速度。
Ciss会导致VMOS在⾼频应⽤时不能被真正关断,⽩⽩消耗功率,降低PD值;Crss引起正反
馈,即输;H信号会从漏极倒灌回到栅极,引起⽩激振荡。发热涂料
褐变度
Ciss、Coss、Crss的⼤⼩与源-漏极电压VDSS有关,因此有些公开的资料也将它们称为动态
数(Dynamic Characteristics),不过它们⼏乎不受温度的影响,这给我们的电路分析带来了⽅
便。
下图(图3.13)显⽰了漏-源极电压对分布电容的影响,被测器件是2SK2313,
即使是VMOS单管也都是由不计其数的管芯单元组成的,每个管芯单元都可以视为⼀个微型
无纺布面膜的VMOS单管,对于⼀个管芯单元来说,结电容都是⾮常
⼩的值,但是对于数以万计的管芯单元来说,这些结电容⼤致为并联关系,容量就相当可观
了。因此,管芯单元的结电容越⼩,—个封装内的管芯单元越少,则上述电容值就越⼩;电压/
电暧器
电流规格相同的VMOS,分布电容越⼩,就意味着VMOS的⽣产⼯艺越先进,能够适应的⼯作频
率越⾼。高温闸板阀
电容对⾼速开关信号来说都是⾮线性的,只有正弦波才接近线性,因此Ciss、Coss、Crss很
少⽤于定量计算⽽是⽤于定性分析。要对分布参数对电路的影响进⾏定量的计算,⼀般采⽤的
是更简化的⽅法,即栅电荷的概念。

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标签:结电容   电路   管芯   影响   驱动   单元   分布电容
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