保护套钟罩式多晶硅还原炉内各反应主要有以下8种:
⑴SiHCl3+H2=Si+3HCl↑(1050-1100℃)
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通水电缆⑵2SiHCl3=Si+2HCl↑+SiCl4 离心浓缩(热分解)
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⑶SiHCl3=SiH2Cl2+HCl↑(900-1000℃)
. R' _7 X* `$ P⑷Si+2HCl≒SiH2Cl2(>手动加油泵1200℃或低温腐蚀)
8 A; b. I0 \ V( z: R' n+ v( r9 H⑸SiHCl3=SiH2Cl2+SiCl4( Si+SiCl4≒SiCl2)
⑹SiCl4+2H2=Si+室外高增益天线4HCl↑(高温下)
⑺4SiHCl3=Si+2H2↑+3SiCl4(热分解)
⑻Si+4HCl=2H2↑抓鸡工具+SiCl4(腐蚀)
(1)(2)为主要的,其余的为次要的。
但温度超过规定值或者低于规定值,其他的几个反应就要多起来了,影响沉积速率,甚至产品质量。所以,多晶硅生产中,对还原炉内的温度控制相当严格的,是专门有一套系统来控制的。