摘要：古典法抛光是我国生产高精度光学零件的主要方法，但是由于影响古典法抛光的因素有很多，所以此工艺并不容易掌握，本文就影响此工艺的几点因素加以讨论，希望具有一定的指导作用。
关键词：古典法抛光工艺因素光圈修改
目前，在我国高精度光学零件加工时主要采用的还是古典法抛光。古典法抛光是比较复杂的工作，要想得到合格的光圈并不容易，需要操作人员具有一定的经验，必须对古典法抛光的工艺及其影响因素熟练掌握。
1 抛光模的制作
抛光模是抛光中的关键模具，抛光模的质量直接影响加工面形的精度和效率。制作过程如下:(1)选胶：即按具体情况，选择配比合适的抛光柏油。古典法抛光模制模所用抛光柏油应按工房温度，镜盘大小、玻璃种类、生产方式等因素选择不同的配比熬制。(2)熬胶：把选好的抛光柏油放在熬胶锅内慢慢加热，并进行搅拌。升温不可太快，也不可太高，一般在140℃左右，不可超过170℃，以免引起抛光柏油焦化。当有塑料粉等添加物时，要注意添加物允许的最高温度。(3)抛光模与镜盘的相对尺寸：抛光模基体的矢高Hpm和口径Dpm取决于球面镜盘的矢高Hj和口径Dj，尺寸不合理易引起塌边或翘边等偏差，尺寸可由下列公式计算。 碳化硅纳米线
抛光模半张角γpm按下式计算:
γpm=Kγj (1)
式中,K为相对尺寸系数，由表1确定,γj为镜盘半张角。
抛光模半张角γpm求出后，即可算出抛光模直径或矢高。或由表1直接查出矢高或直径(δ为柏油层厚度)。
Dpm=2Rsinγpm (2)
放线架Hpm=R(1-cosγpm)(3)
2 抛光过程
(1)调整好机床速度、摆幅，准备好水锅、清洁用的脱脂棉、纱布，清洗工作台、摆架等抛光用的一切用具。(2)检查镜盘细磨后的面形与粗糙度，不合格要重磨。(3)将抛光模在50℃～60℃温水中烫一下，在抛光模面上涂上抛光液，覆盖在镜盘上，用手推动几下，使之均匀，放上铁笔，开动机床，开始抛光。(4)抛光的前半期，以去除工件表面麻点砂眼为主要目的，在这一阶段，机床速比，摆幅与偏心均应调节在正常范围内进行均匀抛光。(5)抛光一段时间后，应及时检验表面质量和面形，若磨点、 威尔逊氏病
砂眼去除均匀，则抛光应继续进行；若光圈过高，过低则要调整有矢工艺参数以控制光圈变化;(6)在抛光过程中，可根据需要修改抛光模:①刮模或局部开槽法，用于改变吻古程度以修改面形偏差;②烫模法用于镜盘和抛光模曲率相差大的时候。(7)当表面疵病和光圈合
格后，镜盘用温水洗净，擦干、涂保护漆，下盘，也可用抛光模采用手推法收干表面抛光液，用乙醚、乙醇混合液擦净，涂保护漆、下盘。
滚花铜螺母3 光圈修改
伸缩杆
抛光可以分为两个过程：一是粗抛，这一阶段主要是为了去掉零件表面的麻点砂眼，即要把零件抛亮。二是精抛，即精修面形，达到图纸要求的光圈数N，及局部光圈数△N。精抛是很考验操作者经验的，需要边加工边检验，用工作样板检验出零件存在的面形偏差，再根据零件的面形偏差来调整机床或修刮抛光模，从而进行修正。
(1)顶针的摆幅：即上模摆动幅度的大小。其影响是：摆幅越大，上模的中部与下模的边缘接触较多，所以此时上模的中部与下模的边缘多抛。(2)顶针的前后伸缩量：顶针的前后伸缩量决定的是上模中心与下模中心的偏离程度，即上模的初始位置。偏离量越大，上模的中部与下模的边缘接触的机会就越多，从而多抛。(3)主轴的转速与摆轴的摆速：主轴转速越大，下模的边缘的线速度越大，从而下模边缘及上模与其多接触的带区将多抛；偏心轮转的越快，上模摆的越快，上模与下模中部多抛。(4)抛光
模的修刮：刮模或局部开槽法，用于改变与零件的吻合程度以修改面形偏差。
4 注意事项
抛光时注意事项:(1)开机时先不加压铁，平磨，速度宜慢，逐渐加压，快好时逐渐减压至无压铁。(2)要定时添加抛光粉，要从浓到淡，抛光粉的均匀性很重要。(3)抛光粉液不应太稀或太稠，否则容易出划痕。(4)抛光粉或正在抛光的模具表面或镜盘表面切忌落入粗硬异物。(5)每次更换抛光粉时，工具及镜盘均应刷洗干净，机器台面也应擦拭干净。
(6)抛光完毕，应用放大镜检查表面有无粗划痕。(7)应经常检查抛光面的面形，及时控制并修改蜡板的面形。(8)抛光胶镜盘时，不允许剧烈的震动和骤冷骤热，宜用接近室温的温水清洗。(9)一般K9抛光的去除量为0.012mm，石英0.008mm，软料为0.02mm以上。
以上是关于古典法抛光的操作及影响零件面形的几点工艺因素，如能熟练掌握，对光圈的控制将具有一定的指导作用。
参考文献
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