一种热转印硅胶烫画的制作方法



1.本实用新型涉及热转印烫画技术领域,特别是一种热转印硅胶烫画。


背景技术:



2.硅胶烫画是烫画里的一个类别,其原理就是通过热转印的方式把图案转移到被烫物上面,它采用胶水和烫画油墨的生产工艺制作而成的,成分环保,手感柔软,同时也很耐拉伸,耐水洗,表面没有胶水边,而且不会迁移,可以保持图案颜鲜艳不变。
3.现有的热转印硅胶烫画的缺点是:
4.1、现有的热转印硅胶烫画,烫画结构的光扩散性不是很好,使得产品的应用范围较小;
5.2、现有的热转印硅胶烫画,烫画结构的立体感不足,同时没有金属进行复合影响视觉效果。


技术实现要素:



6.本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点,改善了产品的内部结构,防止了由于烫画结构的光扩散性不是很好,使得产品的应用范围较小的问题;改善了产品的内部结构,防止了由于烫画结构的立体感不足,同时没有金属进行复合影响视觉效果的问题。
7.本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:一种热转印硅胶烫画,包括耐热基层,所述耐热基层的上表面设置有第一离型层,所述第一离型层的上表面设置有光扩散层,所述光扩散层的上表面设置有第二离型层,所述第二离型层的上表面设置有第一印刷层,所述第一印刷层的上表面设置有透明胶水层,所述透明胶水层的上表面设置有第二印刷层,所述第二印刷层的上表面设置有金属层,所述金属层的上表面设置有热熔胶层。
8.可选的,所述耐热基层为一种聚对苯二甲酸乙二酯膜,所述耐热基层的另一侧设置有背涂层,使得在烫画的过程中,基层材料不会受到持续加热的影响,进而增加结构的整体稳定性,同时背涂层能够保证在印刷过程中走料准确、不粘连、不打滑。
9.可选的,所述第一离型层以及第二离型层为一种氟离型层,所述第一离型层的表面以及第二离型层的表面分别于光扩散层的表面进行紧密贴合,通过在第一离型层以及第二离型层的中间添加光扩散层,使得光线通过光扩散层进行多角度的扩散,达到初步的扩散效果。
10.可选的,所述光扩散层为一种有机硅光扩散剂,所述光扩散层的外表面设置有倒金字塔凹槽,由于有机硅光扩散剂的细小的呈纳米球体颗粒,光线可以直接穿过纳米球体,在纳米球体中经过无数次的折射后在穿透,使得光线经过折射后达到均匀的分散,将入射进来的点光源分散成面光源,进一步的扩大了发光面,达到光扩散的效果,同时通过倒金字塔凹槽的设置,使得光线在倒金字塔凹槽的内部表面经过多次的发射,从而进一步的达到光扩散的效果。
11.可选的,所述透明胶水层为一种水性透明聚氨酯涂层,所述第一印刷层的印刷图
案与第二印刷层的印刷图案相吻合,使得在不影响印刷效果的同时,增加第一印刷层与第二印刷层之间的连接性,同时增加第一印刷层与第二印刷层之间的防水性。
12.可选的,所述金属层为一种雾面金属层,使得在进行加热后,便于将具有金属图案转印下来,从而使得图案具有金属光泽,增加图案的效果。
13.本实用新型具有以下优点:
14.1、该热转印硅胶烫画,通过第一离型层的上表面设置有光扩散层,光扩散层的上表面设置有第二离型层,光扩散层的外表面设置有倒金字塔凹槽,通过在第一离型层以及第二离型层的中间添加光扩散层,使得光线通过光扩散层进行多角度的扩散,达到初步的扩散效果,由于有机硅光扩散剂的细小的呈纳米球体颗粒,光线可以直接穿过纳米球体,在纳米球体中经过无数次的折射后在穿透,使得光线经过折射后达到均匀的分散,将入射进来的点光源分散成面光源,进一步的扩大了发光面,达到光扩散的效果,同时通过倒金字塔凹槽的设置,使得光线在倒金字塔凹槽的内部表面经过多次的发射,从而进一步的达到光扩散的效果,解决了现有的热转印硅胶烫画,烫画结构的光扩散性不是很好,使得产品的应用范围较小的问题。
15.2、该热转印硅胶烫画,通过第一印刷层的上表面设置有透明胶水层,透明胶水层的上表面设置有第二印刷层,第二印刷层的上表面设置有金属层,使得在不影响印刷效果的同时,增加第一印刷层与第二印刷层之间的连接性,同时增加第一印刷层与第二印刷层之间的防水性,通过双层印刷层的设置,提升产品印刷出来的立体感,通过金属层的设置,使得在进行加热后,便于将具有金属图案转印下来,从而使得图案具有金属光泽,增加图案的效果,解决了现有的热转印硅胶烫画,烫画结构的立体感不足,同时没有金属进行复合影响视觉效果的问题。
附图说明
16.图1为本实用新型的结构示意图。
17.图中:1-耐热基层,2-第一离型层,3-光扩散层,4-第二离型层,5-第一印刷层,6-透明胶水层,7-第二印刷层,8-金属层,9-热熔层。
具体实施方式
18.下面结合附图对本实用新型做进一步的描述,但本实用新型的保护范围不局限于以下所述。
19.如图1所示,一种热转印硅胶烫画,它包括耐热基层1,耐热基层1的上表面设置有第一离型层2,第一离型层2的上表面设置有光扩散层3,光扩散层3的上表面设置有第二离型层4,第二离型层4的上表面设置有第一印刷层5,第一印刷层5的上表面设置有透明胶水层6,透明胶水层6的上表面设置有第二印刷层7,第二印刷层7的上表面设置有金属层8,金属层8的上表面设置有热熔胶层9。
20.作为本实用新型的一种优选技术方案:
21.耐热基层1为一种聚对苯二甲酸乙二酯膜,耐热基层1的另一侧设置有背涂层,使得在烫画的过程中,基层材料不会受到持续加热的影响,进而增加结构的整体稳定性,同时背涂层能够保证在印刷过程中走料准确、不粘连、不打滑。
22.第一离型层2以及第二离型层4为一种氟离型层,第一离型层2的表面以及第二离型层4的表面分别于光扩散层3的表面进行紧密贴合,通过在第一离型层2以及第二离型层4的中间添加光扩散层3,使得光线通过光扩散层3进行多角度的扩散,达到初步的扩散效果。
23.光扩散层3为一种有机硅光扩散剂,光扩散层的外表面设置有倒金字塔凹槽,由于有机硅光扩散剂的细小的呈纳米球体颗粒,光线可以直接穿过纳米球体,在纳米球体中经过无数次的折射后在穿透,使得光线经过折射后达到均匀的分散,将入射进来的点光源分散成面光源,进一步的扩大了发光面,达到光扩散的效果,同时通过倒金字塔凹槽的设置,使得光线在倒金字塔凹槽的内部表面经过多次的发射,从而进一步的达到光扩散的效果。
24.透明胶水层6为一种水性透明聚氨酯涂层,第一印刷层5的印刷图案与第二印刷层7的印刷图案相吻合,使得在不影响印刷效果的同时,增加第一印刷层5与第二印刷层7之间的连接性,同时增加第一印刷层与第二印刷层7之间的防水性。
25.金属层8为一种雾面金属层,使得在进行加热后,便于将具有金属图案转印下来,从而使得图案具有金属光泽,增加图案的效果。
26.本实用新型的工作过程如下:
27.s1:光线通过光扩散层3进行多角度的扩散,
28.由于有机硅光扩散剂的细小的呈纳米球体颗粒,光线可以直接穿过纳米球体,在纳米球体中经过无数次的折射后在穿透,使得光线经过折射后达到均匀的分散,将入射进来的点光源分散成面光源,进一步的扩大了发光面,达到光扩散的效果;
29.s2:通过倒金字塔凹槽的设置,使得光线在倒金字塔凹槽的内部表面经过多次的发射,从而进一步的达到光扩散的效果;
30.s3:通过双层印刷层的设置,提升产品印刷出来的立体感,通过金属层的设置,使得在进行加热后,便于将具有金属图案转印下来,从而使得图案具有金属光泽,增加图案的效果。
31.综上所述,一种热转印硅胶烫画,使用时,通过第一离型层2的上表面设置有光扩散层3,光扩散层3的上表面设置有第二离型层4,光扩散层的外表面设置有倒金字塔凹槽,通过在第一离型层2以及第二离型层4的中间添加光扩散层3,使得光线通过光扩散层3进行多角度的扩散,达到初步的扩散效果,由于有机硅光扩散剂的细小的呈纳米球体颗粒,光线可以直接穿过纳米球体,在纳米球体中经过无数次的折射后在穿透,使得光线经过折射后达到均匀的分散,将入射进来的点光源分散成面光源,进一步的扩大了发光面,达到光扩散的效果,同时通过倒金字塔凹槽的设置,使得光线在倒金字塔凹槽的内部表面经过多次的发射,从而进一步的达到光扩散的效果,解决了现有的热转印硅胶烫画,烫画结构的光扩散性不是很好,使得产品的应用范围较小的问题;通过第一印刷层5的上表面设置有透明胶水层6,透明胶水层6的上表面设置有第二印刷层7,第二印刷层7的上表面设置有金属层8,使得在不影响印刷效果的同时,增加第一印刷层5与第二印刷层7之间的连接性,同时增加第一印刷层与第二印刷层7之间的防水性,通过双层印刷层的设置,提升产品印刷出来的立体感,通过金属层的设置,使得在进行加热后,便于将具有金属图案转印下来,从而使得图案具有金属光泽,增加图案的效果,解决了现有的热转印硅胶烫画,烫画结构的立体感不足,同时没有金属进行复合影响视觉效果的问题。
32.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,
可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

技术特征:


1.一种热转印硅胶烫画,其特征在于:包括耐热基层(1),所述耐热基层(1)的上表面设置有第一离型层(2),所述第一离型层(2)的上表面设置有光扩散层(3),所述光扩散层(3)的上表面设置有第二离型层(4),所述第二离型层(4)的上表面设置有第一印刷层(5),所述第一印刷层(5)的上表面设置有透明胶水层(6),所述透明胶水层(6)的上表面设置有第二印刷层(7),所述第二印刷层(7)的上表面设置有金属层(8),所述金属层(8)的上表面设置有热熔胶层(9)。2.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画,其特征在于:所述耐热基层(1)为一种聚对苯二甲酸乙二酯膜,所述耐热基层(1)的另一侧设置有背涂层。3.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画,其特征在于:所述第一离型层(2)以及第二离型层(4)为一种氟离型层,所述第一离型层(2)的表面以及第二离型层(4)的表面分别于光扩散层(3)的表面进行紧密贴合。4.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画,其特征在于:所述光扩散层(3)为一种有机硅光扩散剂,所述光扩散层的外表面设置有倒金字塔凹槽。5.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画,其特征在于:所述透明胶水层(6)为一种水性透明聚氨酯涂层,所述第一印刷层(5)的印刷图案与第二印刷层(7)的印刷图案相吻合。6.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画,其特征在于:所述金属层(8)为一种雾面金属层。

技术总结


本实用新型涉及热转印烫画技术领域,具体为一种热转印硅胶烫画,包括耐热基层,所述耐热基层的上表面设置有第一离型层,所述第一离型层的上表面设置有光扩散层,所述光扩散层的上表面设置有第二离型层,所述第二离型层的上表面设置有第一印刷层,所述第一印刷层的上表面设置有透明胶水层,所述透明胶水层的上表面设置有第二印刷层,所述第二印刷层的上表面设置有金属层,所述金属层的上表面设置有热熔胶层。本实用新型的优点在于:通过光扩散层的设置,解决了烫画结构的光扩散性不是很好,使得产品的应用范围较小的问题;通过金属层、第一印刷层以及第二印刷层的配合设置,解决了烫画结构立体感不足,视觉效果一般的问题。视觉效果一般的问题。视觉效果一般的问题。


技术研发人员:

蔡德成

受保护的技术使用者:

广州鸿彩烫画制品有限公司

技术研发日:

2021.11.02

技术公布日:

2022/3/15

本文发布于:2024-09-22 16:49:26,感谢您对本站的认可!

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