1.1.靶材简介陶粒砂过滤
溅射靶材是薄膜制备的主要原材料。在制造集成电路的过程中需要用到溅射工艺，目前物理气相沉积（PVD）技术是制备电子薄膜材料主要技术之一。其工作原理如下：利用离子源产生的离子，在高真空中经过加速聚集，从而形成高速度能的离子束流，进而轰击靶材的表面，离子和靶材表面的原子离开靶材并沉积在基底表面。 溅射靶材工作原理示意图
图表1.
ihu溅射靶材种类多样，下游应用广泛。从分类上来看，溅射靶材主要按形状、化学成分、应用领域这三个标准分类。形状分类中，主要分为长靶、方靶、圆靶。化学成分分类中，主要分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材；应用领域分类中，主要分为半导体芯片靶材、平面显示器靶材、太阳能电池靶材、信息存储靶材、工具改性靶材、电子器件靶材等。从应用场景来看，溅射靶材主要应用于半导体芯片、平面显示器、太阳能电池、信息存储、工具改性、电子器件等领域。其中半导体芯片对于技术的要求最高，平面显示器与太阳能电池技术要求次之。 图表4.溅射靶材产业链
1.2.ITO靶材广泛应用于光伏领域
光伏靶材主要用于制备光伏电池片中所需要的薄膜。以HJT电池片为
例，在HJT电池片结构中具有TCO薄膜层，该薄膜承担者透光以及导电 钝化膏的重要作用。应用物理气相沉积（PVD）技术，使离子和靶材表面的原子
离开靶材，在基底上形成透明导电薄膜。以钙钛矿电池结构为例，钙钛矿
电池是由多层薄膜以及玻璃等构成。例如ITO薄膜就需要光伏靶材进行制
备。
图表5.HJT电池片结构图图表6.钙钛矿电池结构图
ITO靶材是当前太阳能电池主要的溅射靶材。薄膜电池中透明导电膜
至关重要，承担着透光和导电的双重作用。从ITO靶材的优势来看，氧化
铟锡（ITO）是N型半导体材料，具有高导电率、高可见光透过率、较强
的机械硬度和良好的化学稳定性等优点。因此，在光伏领域中，ITO靶材
为原材料所制成的ITO薄膜具有较好的光学特性和电学特性。从ITO靶材
的发展趋势来看：1）大尺寸化，在需要大面积镀膜时，通常将小尺寸靶
材拼接焊接成大尺寸靶材，由于具有焊缝，靶材镀膜质量将降低；2）高
密度化，在溅射过程中ITO靶材表面会出现结瘤现象，如果继续溅射，所
制备的薄膜光学性能以及电学性能将降低。高密度的靶材具有较好的热传
导性以及较小的界面电阻，因此结瘤现象出现的概率较小，所制备的ITO
薄膜的质量较高，且生产效率、成本较低；3）提高靶材利用率，由于平
面靶材在溅射过程中，中间部分难以被侵蚀，因此靶材利用效率相对较
火锅红低。通过改变靶材形状，可以提高靶材的利用效率，从而降低制备ITO薄
膜的成本。
交通事故现场图
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