一种等离子体活性水发生装置及活性水发生方法与流程



1.一种等离子体活性水发生装置及活性水发生方法,属于等离子体活性水生产设备技术领域。


背景技术:



2.等离子体活性水能够杀灭各种水源中的微生物,对水质能够有一定的优化作用,提高清洗效率的同时,能够促进反应,达到节水的目的。等离子体活性水在生产时通常是采用电离的方式,即水流过两个电极之间,通过两个电极之间的放电来生产活性水,但是现有的等离子体活性水的生产设备存在如下问题:由于水在两个电极之间发生电离,只有部分水会被电离,水的电离不均匀,且水中活性成分的含量低,导致活性水的杀菌效率低。


技术实现要素:



3.本发明要解决的技术问题是:克服现有技术的不足,提供一种对水的电离稳定,且电离后的活性水中活性成分含量高的等离子体活性水发生装置及活性水发生方法。
4.本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:该等离子体活性水发生装置,其特征在于:包括进水装置、活性水收集装置以及若干等离子体发生组件,各等离子发生组件的进水口均与进水装置连通,各等离子体发生组件的出水口均与活性水收集装置连通;所述等离子体发生组件包括电源、外电极以及渗水组件,渗水组件与外电极间隔设置,渗水组件的渗水部高于外电极设置,电源的一个电极与外电极相连,另一个电极与渗水部渗出的水导通。
5.优选的,所述的进水装置和活性水收集装置由上至下依次设置,等离子体发生组件设置在进水装置与活性水收集装置之间。
6.优选的,所述的进水装置为进水箱,进水箱高于等离子体发生组件设置;所述的活性水收集装置为活性水箱,活性水箱低于等离子体发生组件设置。
7.优选的,还包括承接筒,承接筒的上部直径大于下部的直径,各等离子体发生组件的下侧均设置有承接筒,各承接筒的底部均与活性水收集装置连通。
8.优选的,所述的等离子体发生组件还包括绝缘筒,绝缘筒间隔套设在渗水组件外,外电极环绕绝缘筒设置。
9.优选的,所述的等离子体发生组件还包括废气处理装置,废气处理装置与绝缘筒连通。
10.优选的,还包括集气管,集气管的进气口同时与各废气处理装置相连通。
11.优选的,所述的渗水组件包括陶瓷膜以及隔离层板,陶瓷膜为圆筒状,隔离层板设置在陶瓷膜内,隔离层板与陶瓷膜内壁密封连接,并在隔离层板的上侧形成所述渗水部,外电极环绕陶瓷膜设置。
12.优选的,还包括冷却装置,各等离子体发生组件外均设置有冷却装置。
13.一种上述的等离子体活性水发生装置的活性水发生方法,其特征在于:包括如下
步骤:进水装置内的水进入到各等离子体发生组件内;等离子体发生组件内的水经对渗水部伸出后,沿渗水组件内壁向下流动;电源的两个电极分别与渗出的水与外电极导通,渗水组件外壁的水流经外电极时直接与外电极之间发生电离,产生活性水;生产的活性水进入到活性水收集装置内。
14.与现有技术相比,本发明所具有的有益效果是:本等离子体活性水发生装置的电源的一个电极与渗水组件渗出的水导通,另一端与外电极导通,渗水部渗出的水沿渗水组件向下流动,由于渗水部渗水的速度慢,能够使渗出的水经过渗水组件的外壁向下流动,水在渗水组件外壁的厚度小,且水本身带电,水作为电离的一个电极,水直接与外电极之间放电,保证对水的电离效果好,且对水的电离更加稳定、均匀,电离后的水中活性成分的含量高,通过本活性水发生装置生产的活性水的杀菌效果好。
15.本活性水发生方法只有当水沿渗水组件外壁流动至外电极正对时,水才会与外电极之间发生电离,水作为电离的电极,与外电极之间的电离效果好,且电离效率高,在渗水组件与外电极之间没有水时,电离即刻停止,既能够提高电离效率,又能够提高能量利用率。
附图说明
16.图1为等离子体活性水发生装置的主视剖视示意图。
17.图2为等离子体发生组件的主视剖视示意图。
18.图3为图2中a处的局部放大图。
19.图4为等离子体发生组件的俯视示意图。
20.图中:1、固定帽101、进水口102、外翻边103、安装槽2、内电极连接线3、内电极水腔4、绝缘筒5、外罩6、陶瓷膜601、安装部7、隔离层板8、电源9、穿线管10、外电极11、放电区12、进气管13、出气管1301、出气孔14、进水箱15、活性水箱16、连通管17、集气管18、承接筒19、吹扫管。
具体实施方式
21.下面结合具体实施例对本发明做进一步说明,然而熟悉本领域的人们应当了解,在这里结合附图给出的详细说明是为了更好的解释,本发明的结构必然超出了有限的这些实施例,而对于一些等同替换方案或常见手段,本文不再做详细叙述,但仍属于本技术的保护范围。
22.图1~4是本发明的最佳实施例,下面结合附图1~4对本发明做进一步说明。
23.一种等离子体活性水发生装置,包括进水装置、活性水收集装置以及若干等离子体发生组件,各等离子发生组件的进水口均与进水装置连通,各等离子体发生组件的出水口均与活性水收集装置连通;等离子体发生组件包括电源8、外电极10以及渗水组件,渗水组件与外电极10间隔设置,渗水组件的渗水部高于外电极10设置,电源8的一个电极与外电极10相连,另一个电极与渗水部渗出的水导通。本等离子体活性水发生装置的电源8的一个
电极与渗水组件渗出的水导通,另一端与外电极10导通,渗水部渗出的水沿渗水组件向下流动,由于渗水部渗水的速度慢,能够使渗出的水经过渗水组件的外壁向下流动,水在渗水组件外壁的厚度小,且水本身带电,水作为电离的一个电极,水直接与外电极10之间放电,保证对水的电离效果好,且对水的电离更加稳定、均匀,电离后的水中活性成分的含量高,通过本活性水发生装置生产的活性水的杀菌效果好。
24.具体的:如图1所示:进水装置设置在活性水收集装置的上侧,等离子体发生组件设置在进水装置与活性水收集装置之间,在本实施例中,等离子体发生组件并联设置有两个。
25.在本实施例中,进水装置为进水箱14,活性水收集装置为活性水箱15,各等离子体发生组件的顶部与进水箱14相连通,底部与活性水箱15相连通。
26.等离子体活性水发生装置还包括承接筒18以及吹扫管19,各等离子体发生组件的下侧均设置有承接筒18,承接筒18的上部直径大于下部直径,承接筒18设置在对应的等离子体发生组件的正下方,并承接等离子体发生组件生产的活性水,承接筒18的底部与活性水箱15连通,并将承接的活性水送入到活性水箱15内存储。各承接筒18上均连接有吹扫管19,通过吹扫管19能够对等离子体发生组件内产生的臭氧进行吹扫,并集中处理,避免对环境造成污染。
27.如图2~4所示:等离子体发生在组件还包括绝缘筒4,绝缘筒4为上下两端均敞口的圆筒,绝缘筒4的材质为无机材料。渗水组件包括陶瓷膜6以及隔离层板7,陶瓷膜6为圆筒状,陶瓷膜6的顶部敞口设置,陶瓷膜6的底部封闭设置,且陶瓷膜6的底部为中部下凸的半球形,以方便电离后的活性水由陶瓷膜6的底部流下。陶瓷膜6的直径小于绝缘筒4的直径,陶瓷膜6同轴设置在绝缘筒4内,并在陶瓷膜6与绝缘筒4之间形成供水流下的流道,隔离层板7为圆盘状,隔离层板7设置在陶瓷膜6内,隔离层板7设置在陶瓷膜6的中部,隔离层板7的侧部与陶瓷膜6内壁之间密封连接,并在陶瓷膜6的上部内腔形成内电极水腔3,在陶瓷膜6的上部形成渗水部。外电极10环绕绝缘筒4的下部设置,外电极10为沿绝缘筒4设置的螺旋状,外电极10设置在隔离层板7的下侧,外电极10对应的流道的区域为放电区11。还可以仅设置陶瓷膜6,而不设置绝缘筒4。
28.渗水组件还可以为板型的陶瓷膜6,外电极10设置在板型的陶瓷膜6的一侧,水通过陶瓷膜6渗至另一侧。
29.等离子体发生在组件还包括固定帽1,固定帽1为顶部封闭的圆筒,陶瓷膜6的顶部设置有安装部601,安装部601伸入到固定帽1内,并与固定帽1之间密封连接,固定帽1的顶部设置有进水口101,进水口101与内电极水腔3连通。
30.环绕固定帽1的底部设置有向外的外翻边102,绝缘筒4的顶部伸入到外翻边102内,并与外翻边102之间密封连接。
31.等离子体发生在组件还包括冷却装置,冷却装置环绕绝缘筒4设置。冷却装置包括外罩5,外罩5套设在绝缘筒4外,外罩5与绝缘筒4之间间隔设置,并在绝缘筒4与外罩5之间形成冷却腔,外罩5的底部与绝缘筒4的底部之间密封连接,外罩5的顶部伸入到外翻边102内,并与外翻边102之间密封连接。外罩5的底部设置有进气管12,进气管12与冷却腔连通。
32.在固定帽1的外翻边102的底部设置有内凹的安装槽103,安装槽103有两个,绝缘筒4的顶部和外罩5的顶部均伸入到安装槽103内,并均与固定帽1密封连接。
33.等离子体发生在组件还包括废气处理装置,废气处理装置包括出气管13,出气管13设置在绝缘筒4的顶部,出气管13的一端与绝缘筒4内腔连通,另一端穿过外罩5并向外伸出,外罩5与出气管13之间密封设置,出气管13上设置有与冷却腔连通的出气孔1301,使出气管13同时与绝缘筒4和外罩5连通。
34.在外罩5的中部设置有穿线管9,电源8的一个电极通过穿过穿线管9的导线与外电极10相连,电源8的另一个电极连接有内电极连接线2,内电极连接线2伸入到内电极水腔3内,并与内电极水腔3内的水导通。
35.如图1和2所示:本等离子体活性水发生装置还包括集气管17,在本实施例中,集气管17为三通管,集气管17的两个进气口均通过连通管16与对应的出气管13相连,集气筒17的出气口连接气体处理设备即可。
36.一种上述的等离子体活性水发生装置的活性水发生方法,包括如下步骤:进水装置内的水进入到各等离子体发生组件内。
37.具体的,进水箱14内盛放待电离的水,进水箱14内的水自由流入各等离子体发生组件的内电极水腔3内。采用普通的水即可,普通水具有一定的导电性。
38.等离子体发生组件内的水经对渗水部伸出后,沿渗水组件内壁向下流动。
39.具体的,内电极水腔3内的水经隔离层板7上侧的陶瓷膜6外壁渗出后,沿陶瓷膜6外壁向下流动,由于陶瓷膜6外壁渗水速度慢,陶瓷膜6外壁的水的厚度小。
40.电源8的两个电极分别与渗出的水与外电极10导通,渗水组件外壁的水流经外电极10时直接与外电极10之间发生电离,产生活性水。
41.具体的,电源8的一个电机与内电极水腔3内的水导通,另一个电极与外电极10导通,渗出的水沿陶瓷膜6的内壁向下流动,当流动至外电极10对应的放电区11时,以水作为内电极,与外电极10之间发生电离,且保证水的电离更加稳定、均匀,电离后水中活性成分的含量高。
42.在电离过程中,会有部分臭氧产生,通过出气管13处抽负压,即可将绝缘筒4内产生的部分臭氧气体抽走,并进行集中处理,避免污染环境。通过进气管12向外罩5内通入冷却空气,冷却空气通过出气孔1301进入到出气管13内,并由出气管13排出,从而对绝缘筒4进行冷却。外罩5优选采用透明外罩。
43.生产的活性水进入到活性水收集装置内。
44.经电离后的活性水继续沿陶瓷膜6外壁向下流动,并经陶瓷膜6的底部滴落至承接筒18内,并经承接筒18进入到活性水箱15内。
45.以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非是对本发明作其它形式的限制,任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例。但是凡是未脱离本发明技术方案内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型,仍属于本发明技术方案的保护范围。

技术特征:


1.一种等离子体活性水发生装置,其特征在于:包括进水装置、活性水收集装置以及若干等离子体发生组件,各等离子发生组件的进水口均与进水装置连通,各等离子体发生组件的出水口均与活性水收集装置连通;所述等离子体发生组件包括电源(8)、外电极(10)以及渗水组件,渗水组件与外电极(10)间隔设置,渗水组件的渗水部高于外电极(10)设置,电源(8)的一个电极与外电极(10)相连,另一个电极与渗水部渗出的水导通。2.根据权利要求1所述的等离子体活性水发生装置,其特征在于:所述的进水装置和活性水收集装置由上至下依次设置,等离子体发生组件设置在进水装置与活性水收集装置之间。3.根据权利要求1或2所述的等离子体活性水发生装置,其特征在于:所述的进水装置为进水箱(14),进水箱(14)高于等离子体发生组件设置;所述的活性水收集装置为活性水箱(15),活性水箱(15)低于等离子体发生组件设置。4.根据权利要求1或2所述的等离子体活性水发生装置,其特征在于:还包括承接筒(18),承接筒(18)的上部直径大于下部的直径,各等离子体发生组件的下侧均设置有承接筒(18),各承接筒(18)的底部均与活性水收集装置连通。5.根据权利要求1所述的等离子体活性水发生装置,其特征在于:所述的等离子体发生组件还包括绝缘筒(4),绝缘筒(4)间隔套设在渗水组件外,外电极(10)环绕绝缘筒(4)设置。6.根据权利要求5所述的等离子体活性水发生装置,其特征在于:所述的等离子体发生组件还包括废气处理装置,废气处理装置与绝缘筒(4)连通。7.根据权利要求6所述的等离子体活性水发生装置,其特征在于:还包括集气管(17),集气管(17)的进气口同时与各废气处理装置相连通。8.根据权利要求1所述的等离子体活性水发生装置,其特征在于:所述的渗水组件包括陶瓷膜(6)以及隔离层板(7),陶瓷膜(6)为圆筒状,隔离层板(7)设置在陶瓷膜(6)内,隔离层板(7)与陶瓷膜(6)内壁密封连接,并在隔离层板(7)的上侧形成所述渗水部,外电极(10)环绕陶瓷膜(6)设置。9.根据权利要求1所述的等离子体活性水发生装置,其特征在于:还包括冷却装置,各等离子体发生组件外均设置有冷却装置。10.一种权利要求1~9任一项所述的等离子体活性水发生装置的活性水发生方法,其特征在于:包括如下步骤:进水装置内的水进入到各等离子体发生组件内;等离子体发生组件内的水经对渗水部伸出后,沿渗水组件内壁向下流动;电源(8)的两个电极分别与渗出的水与外电极(10)导通,渗水组件外壁的水流经外电极(10)时直接与外电极(10)之间发生电离,产生活性水;生产的活性水进入到活性水收集装置内。

技术总结


一种等离子体活性水发生装置及活性水发生方法,属于等离子体活性水生产设备技术领域。各等离子发生组件的进水口均与进水装置连通,各等离子体发生组件的出水口均与活性水收集装置连通;渗水组件与外电极(10)间隔设置,渗水组件的渗水部高于外电极(10)设置,电源(8)的一个电极与外电极(10)相连,另一个电极与渗水部渗出的水导通。本等离子体活性水发生装置的水直接与外电极之间放电,保证对水的电离效果好,且对水的电离更加稳定、均匀,电离后的水中活性成分的含量高,通过本活性水发生装置生产的活性水的杀菌效果好;本活性水发生方法的水作为电离的电极,与外电极之间的电离效果好,且电离效率高。且电离效率高。且电离效率高。


技术研发人员:

周兆瑞 侯正奇 郭姿莹 崔建业

受保护的技术使用者:

天泓环境科技有限责任公司

技术研发日:

2022.08.23

技术公布日:

2022/11/18

本文发布于:2024-09-22 23:33:52,感谢您对本站的认可!

本文链接:https://www.17tex.com/tex/1/18641.html

版权声明:本站内容均来自互联网,仅供演示用,请勿用于商业和其他非法用途。如果侵犯了您的权益请与我们联系,我们将在24小时内删除。

标签:等离子体   活性   组件   装置
留言与评论(共有 0 条评论)
   
验证码:
Copyright ©2019-2024 Comsenz Inc.Powered by © 易纺专利技术学习网 豫ICP备2022007602号 豫公网安备41160202000603 站长QQ:729038198 关于我们 投诉建议