本文从系统结构、参数控制和镀膜方式等综述了真空卷绕镀膜技术研鼠标跟随
究进展。按结构可分为单室、双室和多室真空卷绕系统，后两者可解决开卷放
气问题并分别控制卷绕和镀膜室各自真空度。卷绕张力控制分锥度、间接和直滤扇
接控制模型，锥度控制模型可解决薄膜褶皱和径向力分布不均的问题；间接张扬声器结构
力控制无需传感器，可用内置张力控制模块的矢量变频器代替；直接张力控制
通过张力传感器精确测量张力值，但需惯性矩和角速度等多种参数。真空卷绕
镀膜主要有真空蒸发、磁控溅射等方式，可用于制备新型高折射率薄膜、石墨
电子关锁
烯等纳米材料和柔性太阳能电池等半导体器件。针对真空卷绕镀膜技术研究现 状及向产业化过渡存在的问题，最后作了简要分析与展望。
真空卷绕镀膜(卷对卷)是在真空下应用不同方法在柔性基体上实现连续镀
膜的一种技术。它涵盖真空获得、机电控制、高精传动和表面分析等多方面内
容。其重点是，在保证镀膜质量前提下提高卷绕速率、控制镀膜稳定性及实施
在线监控。卷对卷技术成本低、易操作、与柔性基底相容、生产率高及可连续
镀多层膜等优点。第一台真空蒸发卷绕镀膜机 1935 年制成，现可镀幅宽由 500
至 2500mm。卷对卷技术应用由包装和装饰用膜，近年逐渐扩大至激光防伪膜、
导电等功能薄膜方面，是未来柔性电子等行业的主流技术之一。
目前，国际前沿是研究不同制备工艺下功能薄膜特性并完善复合膜层制
备。卷绕镀膜机有向大型工业化和小型科研化方向发展的两种趋势，国内兰州
真空设备、广东中环真空设备等公司多生产大型工业卷绕设备， 国外如 TW
Graphics 电子放大镜和
1、真空卷绕镀膜设备分类 真空卷对卷设备由抽真空、卷绕、镀膜和电气
控制等系统组成。据真空室有无挡板，可分单室、双室和多室结构。单室的收
放卷辊和镀膜辊在同一室中，结构简单但开卷时放气会污染真空环境。双室结束线带
构将系统用挡板隔成卷绕和镀膜室，卷辊与挡板间隙约 1.5mm，避免了类似开
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